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New very effective results on the liquid-phase oxidation of cyclohexene to cyclohexanone by nitrous oxide are analyzed using the B3LYP/6-31G* approximation to predict a two-step reaction mechanism correlated with the experimental data.  相似文献   
23.
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We report a novel approach for fabrication of cubic ZrWMoO8 applying a melt quenching method. The stoichiometric mixture of ZrO2, WO3 and MoO3 in a 1:1:1 M ratio was melted and quenched at room temperature by pouring the melts between two metal plates. The quenched sample was characterized by X-ray diffraction (XRD), differential thermal analysis (DTA) and scanning electron microscopy (SEM) analysis. As quenched material is polyphase contains above 70% ZrWMoO8. The obtained composite is thermal stable up to 930 °C. The ZrWMoO8 was indexed as cubic with a lattice parameter a = 9.1263 (3) Å calculated by the “PowderCell” program. By SEM observation it was established that the microstructure of bulk composite material is built up of one-direction orientated agglomerates with cuboid crystal morphology.  相似文献   
27.
28.
Polycrystalline K2.5Bi2.5Ti4O13 (I) is prepared by solid state reaction of KNO3, Bi2O3, and TiO2 (Al2O3 crucible, 750 °C, 16 h).  相似文献   
29.
Polycrystalline gaudefroyite‐type YCa3(CrO)3(BO3)4 with Cr3+ ions (3d3, S = 3/2) forming an undistorted Kagome lattice is prepared by reaction of a stoichiometric mixture of Y2O3, CaCO3, Cr2O3, H3BO3 in a KCl flux (Al2O3 crucible, 1000 °C, 1 d) followed by re‐grinding and further annealing (1000 °C, 2 d, 95% yield).  相似文献   
30.
Currently, wafers of aluminum nitride cut from bulk aluminum nitride crystals (AlN) grown by sublimation are considered promising substrates for obtaining light-emitting diode structures based on nitrides of the third group. In this study, the structural characteristics and electrical properties of AlN, as a prospective substrate material for light-emitting diode heterostructures based on AlGaN/GaN, were investigated. The substrate working surface ((0001) plane, Al-polar) was specifically prepared for epitaxial growth using chemical-mechanical polishing. The surface roughness (“epi-ready”), as estimated by atomic force microscopy, did not exceed 0.3 nm.  相似文献   
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