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Ultra-low specific on-resistance high-voltage vertical double diffusion metal–oxide–semiconductor field-effect transistor with continuous electron accumulation layer 下载免费PDF全文
A new ultra-low specific on-resistance(Ron,sp) vertical double diffusion metal–oxide–semiconductor field-effect transistor(VDMOS) with continuous electron accumulation(CEA) layer, denoted as CEA-VDMOS, is proposed and its new current transport mechanism is investigated. It features a trench gate directly extended to the drain, which includes two PN junctions. In on-state, the electron accumulation layers are formed along the sides of the extended gate and introduce two continuous low-resistance current paths from the source to the drain in a cell pitch. This mechanism not only dramatically reduces the Ron,sp but also makes the Ron,sp almost independent of the n-pillar doping concentration(Nn). In off-state, the depletion between the n-pillar and p-pillar within the extended trench gate increases the Nn, and further reduces the Ron,sp.Especially, the two PN junctions within the trench gate support a high gate–drain voltage in the off-state and on-state, respectively. However, the extended gate increases the gate capacitance and thus weakens the dynamic performance to some extent. Therefore, the CEA-VDMOS is more suitable for low and medium frequencies application. Simulation indicates that the CEA-VDMOS reduces the Ron,sp by 80% compared with the conventional super-junction VDMOS(CSJ-VDMOS)at the same high breakdown voltage(BV). 相似文献
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以3,4,5-三羟基苯甲酸为原料,依次经过酯化、醚化、酰氯化和钠盐化四步反应合成一种可聚合型溶致液晶单体3,4,5-三(11-十一烷氧丙烯酰氧基)苯甲酸钠,并对其结构进行了傅里叶变换红外与1H核磁表征. 在室温下研究了该单体在水中的自组装行为,组装体结构通过偏光显微镜与X射线衍射仪进行表征. 研究表明,单体与水比例为80:20时可自组装为层状(La)相,92:8时组装为反六方(HII)相,这与临界堆积参数的理论计算相吻合,表明单体浓度是影响组装体结构的重要因素. 在组装的基础上研究了含不同光引发剂的溶致液晶体系的双键转化率及固化后组装体结构的保留. 经实时红外表征及溶胶-凝胶法的验证发现在光强为30 mW/cm2的365 nm下曝光30 min,含引发剂Darocur2959的溶致液晶体系双键转化率可达78%. 聚合之后La相与HII相的纳米结构都得到了保留. 相似文献
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给出了右(左)拟α-可逆环的定义,讨论了右(左)拟α-可逆环与线性McCoy环、可逆环、α-刚性环、约化环、阿贝尔环以及弱α-Skew Armendariz环之间的关系.研究了右(左)拟α-可逆环的相关性质和基本扩张.推广了α-可逆环和α-刚性环的相关结论. 相似文献
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A novel lateral double-diffused metal–oxide semiconductor (LDMOS) with a high breakdown voltage (BV) and low specific on-resistance (Ron.sp) is proposed and investigated by simulation. It features a junction field plate (JFP) over the drift region and a partial N-buried layer (PNB) in the P-substrate. The JFP not only smoothes the surface electric field (E-field), but also brings in charge compensation between the JFP and the N-drift region, which increases the doping concentration of the N-drift region. The PNB reshapes the equipotential contours, and thus reduces the E-field peak on the drain side and increases that on the source side. Moreover, the PNB extends the depletion width in the substrate by introducing an additional vertical diode, resulting in a significant improvement on the vertical BV. Compared with the conventional LDMOS with the same dimensional parameters, the novel LDMOS has an increase in BV value by 67.4%, and a reduction in Ron.sp by 45.7% simultaneously. 相似文献
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激光质谱法探测不同状态下机动车尾气中芳香烃物质相对含量的变化 总被引:3,自引:3,他引:0
利用高灵敏度、高选择性、多组分和快速实时分析探测的方法——激光质方法研究机动车尾气。发现在266nm激光作用下,低速状态下机动车尾气中的芳香族含量远高于加速状态下的含量。 相似文献
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19.
利用关于乘积分布密度的相对熵和相对熵率的概念,建立了相依连续型随机变量序列关于参考微分熵的一类强偏差定理,证明中给出了将Laplace变换应用于微分熵强偏差定理的研究的一种途径. 相似文献
20.
本文利用关于{σn(ω),n≥0)的样本相对熵率的概念,研究相依离散型随机变量序列函数的极限性质,从而建立了一类关于可列非齐次马氏泛函的强偏差定理. 相似文献