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131.
The effects of substrate temperature on the microstructure and the morphology of erbium film are systematically investigated by using X-ray diffraction (XRD) and scanning electron microscopy (SEM). All the erbium films are grown by the electron-beam vapor deposition (EBVD). A novel preparation method for observing the cross-section morphology of the erbium film is developed. The films deposited at 200 ℃ have (002) preferred orientation, and the films deposited at 450 ℃ have mixed (100) and (101) texture, which are due to the different growth mechanisms of surface energy minimization and recrystallization, respectively. The peak positions and the full widths at half maximum (FWHMs) of erbium diffraction lines (100), (002), and (101) shift towards higher angles and decrease with the increasing substrate temperature in a largely uniform manner, respectively. Also, the lattice constants decrease with the increasing temperature. The transition in the film stresses can be used to interpret the changes in peak positions, FWHMs, and lattice constants. The stress is compressive for the as-growth films, and is counteracted by the tensile stress formed during the process of temperature cooling down to room temperature. The tensile stress mainly originates from the difference in the coefficients of thermal expansion of substrate--film couple. 相似文献
132.
133.
A theoretical study on the red-shift of laser-induced electro-absorption is presented. It is found that laser-induced red-shift scales with the cube root of the pump laser intensity in the optical tunneling regime and has an obvious deviation from this scale in the multi-photon regime. Our results show that in the optical tunneling regime, the laser-induced red shift has the same law as that in the direct current (DC) approximation. Though the scales are the same in the optical tunneling regime, the physical pictures in the two cases are quite different. The electro-absorption in the DC case is a tunneling-assisted transition process, while the laser-induced electro-absorption is a mixed multi-photon process. 相似文献
134.
135.
采用离子束溅射沉积技术和溶胶-凝胶技术在K9基片上镀制了厚度相近的SiO2单层介质膜,用表面热透镜技术对两类膜层分别进行了热吸收及实时动态热畸变实验测试,结合散射光阈值测试及实验前后膜层的显微观测,对相同基底、相同膜层材料而采用不同方法镀制的光学膜层,发现化学膜的强激光损伤阈值远高于相应物理膜;从热力学响应及膜层特性差异的角度揭示了化学膜层的强激光损伤阈值远高于相应物理膜层的微观机理,即物理膜具有高吸收下的致密膜层快传导的基底热冲击效应,而化学膜则有低吸收下的疏松空隙填充慢传导的延缓效应,大量的实验数据及现象都证实了这一结论.
关键词:
强激光辐照损伤
损伤形貌
热冲击
热吸收 相似文献
136.
137.
采用溶胶-凝胶技术分别在K9基片上镀制了光学厚度相近的单层SiO2酸性膜和碱性膜。测试了两类薄膜的激光损伤阈值;分别采用透射式光热透镜技术、椭偏仪、原子力显微镜、扫描电镜和光学显微镜研究了两类薄膜的热吸收、孔隙率、微观表面形貌、激光辐照前薄膜的杂质和缺陷状况以及激光辐照后薄膜的损伤形貌。实验结果表明:相对于碱性膜,酸性膜有更大的热吸收和更小的孔隙率,因此其激光损伤阈值较小;两类薄膜不同的损伤形貌与薄膜的热吸收系数与微观结构有关。 相似文献
138.
程大位字汝思,号宾渠,生于明嘉靖十二年(1533);卒年遍查有关程氏的资料均无记载。一九六六年笔者随同祁门胡述五先生二访程氏后裔,始从其家藏《先人忌辰簿》中查得力明万历三十四年(1606)。程氏系安徽省休宁县率口人。率口今为安徽省屯溪市前园村。其故居庄前园村四号,至今尚存。按率口程氏系一大族,据 相似文献
139.
140.
本文提出一个计及轴销变形与接触区摩擦效应的弹性轴销模型,并采用弹性理论的复变函数解法,研究了正交各向异性无限大板的孔销接触问题.分析表明,板件的孔边应力分布与板件、轴销的材料性能密切相关,而且,摩擦系数的大小对应力分布也存在明显影响. 相似文献