首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   502篇
  免费   124篇
  国内免费   136篇
化学   247篇
晶体学   11篇
力学   49篇
综合类   25篇
数学   167篇
物理学   263篇
  2024年   5篇
  2023年   19篇
  2022年   13篇
  2021年   16篇
  2020年   7篇
  2019年   12篇
  2018年   15篇
  2017年   22篇
  2016年   8篇
  2015年   12篇
  2014年   25篇
  2013年   21篇
  2012年   16篇
  2011年   16篇
  2010年   15篇
  2009年   19篇
  2008年   21篇
  2007年   18篇
  2006年   19篇
  2005年   23篇
  2004年   20篇
  2003年   16篇
  2002年   24篇
  2001年   16篇
  2000年   16篇
  1999年   24篇
  1998年   30篇
  1997年   17篇
  1996年   29篇
  1995年   27篇
  1994年   20篇
  1993年   20篇
  1992年   23篇
  1991年   30篇
  1990年   24篇
  1989年   23篇
  1988年   11篇
  1987年   7篇
  1986年   11篇
  1985年   9篇
  1984年   10篇
  1983年   8篇
  1982年   5篇
  1981年   4篇
  1980年   2篇
  1979年   3篇
  1965年   4篇
  1960年   1篇
  1958年   1篇
  1957年   1篇
排序方式: 共有762条查询结果,搜索用时 31 毫秒
141.
142.
用加速量热仪研究KClO3/CuO/S/Mg-Al/C6Cl6的热分解   总被引:3,自引:0,他引:3  
The thermal decompositions of two systems(NO.1,KClO3(52.2%)/CuO(26.0%)/S(9.6%)/Mg-Al(3.5%)/C6Cl6(4.35%)) and NO.2,(KClO3(52.2%)/CuO(26.0%)/S(9.6%)/Mg-Al(3.5%)/C6Cl6(4.35%)) are studied using Accelerating Rate Caorimeter (ARC).Temperature vs time curve and pressure vs time curve of reactions are shown in Fig.1 and Fig.2 respectively.The basic data including reaction time(1.3 and 7.3 min respectively),initial temperature (159 and 150℃ respectively),temperature at the maximum rate(272 and 272℃ respectively),the maximum pressure (420 and 190kPa respectively) and the activation energies(175.6 and 135.2 kJ mol-1 respectively) of the thermal decomposition are given to evaluate the safety of the two systems.Results indicate that system NO.2 is safer than NO.1.Compared with the traditional methods,ARC technique can be used to measure temperature and pressure of exothermic reaction concurrently,to find the tiny exothermicity and to determine the initial temperature of exothermic reaction.  相似文献   
143.
GdCOB晶体的坩埚下降法生长   总被引:1,自引:1,他引:0       下载免费PDF全文
本文报道了非线性光学晶体Ca4GdO(BO3)3(GdCOB)的垂直Bridgman法生长.已获得直径25mm的高质量单晶.生长界面处的纵向温度梯度维持在30~40℃/cm,生长速度0.2~0.8mm/h.GdCOB晶体为二维成核的层状生长机制,易出现(111)及(20)解理面.讨论了影响生长的因素.保证原料配比准确和混料充分,减小温度波动和测温误差等是成功生长GdCOB晶体的重要因素.  相似文献   
144.
在C60单晶(111)解理面上制备出厚度约30 nm的K3C60单晶膜.利用同步辐射光源,在低温下(约150K)测量了样品法向发射的角分辨光电子谱.观察到K3C60导带和价带明显的色散.导带的光电子谱峰可清晰分辨出4个子峰,这些子峰的最大色散超过0.5eV,并且色散曲线与K3C60的一维无序晶体结构模型下的能带理论基本吻合,只是子带间隔差异较大.  相似文献   
145.
具有雷达波隐身功能的红外窗口的研制   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了一种既高效透过红外光,同时又能有效屏蔽电磁干扰的金属网栅薄膜的基本原理和制备工艺.分析了网栅参数对其光学及电磁性能的影响,推导了金属网栅结构参数对雷达波屏蔽效率和透红外关系式.理论研究表明,金属网栅的周期选择在200~400μm之间,线宽不大于10μm,是较为理想的网栅参数.通过使用光刻和镀膜技术,在红外基片上制作线条宽度小于10μm,周期约350μm的金属网栅.  相似文献   
146.
掺杂纳米硅薄膜中电子自旋共振研究   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
研究了掺杂纳米硅薄膜(nc∶Si∶H)中的电子自旋共振(ESR)及与之相关的缺陷态.样品是用等离子体增强化学气相沉积方法制成,为两相结构,即纳米晶粒镶嵌于非晶本体之中.对掺磷的nc-Si∶H样品,测量出其ESR信号的g值为1.9990—1.9991,线宽ΔHpp为(40—42)×10-4T,ESR密度Nss为1017cm-3数量级.对掺硼的nc-Si∶H样品,其ESR信号的g值为2.0076—2.0078,ΔH关键词: 纳米硅薄膜 微结构 电子自旋共振  相似文献   
147.
本文分析了固定波长激光掩星差分吸收技术的优点和不足,介绍了可调谐激光直接吸收光谱技术测量原理.分析了最优波长透过率与信噪比的关系以及测量误差与背景光干扰的关系.根据高灵敏度探测器的工作波长范围,选择了6310.915 cm?1、6310.893 cm?1、6310.890 cm?1、6310.8834 cm?1作为吸收...  相似文献   
148.
We present a rigorous proof that quantum circuit algorithm can be transformed into quantum adiabatic algorithm with the exact same time complexity. This means that from a quantum circuit algorithm of L gates we can construct a quantum adiabatic algorithm with time complexity of O(L). Additionally, our construction shows that one may exponentially speed up some quantum adiabatic algorithms by properly choosing an evolution path.  相似文献   
149.
以R600a压力式封闭系统喷雾冷却过程为研究对象,对其换热过程进行分析。对液滴撞击热面后的状态进行建模,分析了其运动状态。通过忽略液膜的对流换热,引入韦伯数来简化并修正雾滴与热源表面的对流换热系数关联式;借鉴二次成核理论,通过单位时间内,单位面积上覆盖的雾滴数量对核态沸腾换热系数关联式修正。通过上述分析,以对流换热和核态沸腾换热两种机理为中心,建立了新的换热系数关联式。通过与其他文献的关联式、实验测量值进行比较、不同工质进行比较、不同实验系统比较,发现该式预测值和实验测量值偏差在±20%以内,能够很好地预测压力式封闭系统喷雾冷却过程的换热系数。  相似文献   
150.
(n)nc-Si:H/(p)c-Si异质结中载流子输运性质的研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
彭英才  徐刚毅  何宇亮  刘明  李月霞 《物理学报》2000,49(12):2466-2471
采用常规等离子体增强化学气相沉积工艺,以高H2稀释的SiH4作为反应气体源和PH3作为磷原子的掺杂剂,在p型(100)单晶硅((p)c-Si)衬底上, 成功地生长了施主掺杂型纳米硅膜((n)nc-Si:H),进而制备了(n)nc-Si:H/(p)c-Si异质结,并在230—420K温度范围内实验研究了该异质结的I-V特性.结果表明,(n)nc-Si:H/(p)c- Si异质结为一典型的突变异质结构,具有良好的温度稳定性和整流特性.正向偏压下 关键词: (n)nc-Si:H/(p)c-Si异质结 能带模型 电流输运机构 温度特性  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号