紫外新激光染料IBOP的研究

本文介绍一种新合成的化合物IBOP.经在多种染料激光器上测试表明,其激光转换效率高,光化学稳定性好,能溶于多种溶剂.性能优于DPS等相同波段的常用激光染料.IBOP在各种溶剂中的激光调谐范围为388～428nm,激光峰值波长在400nm左右.本文给出了IBOP的荧光光谱、吸收光谱、激光特性、溶剂效应和浓度效应等数据,并作了讨论.     

ICP／AES操作条件及氢化物发生条件对As,Se和Ge光谱信号影响的…

本文较系统地研究了ＩＣＰ／ＡＥＳ操作条件及酸介质。ＨａＢＨ４溶液溶度对Ａｓ，Ｓｅ和Ｇｅ谱线强度以及信背比的影响，讨论了这些元素的最佳检测条件，考察了一些共存元素对氢化物光谱信号的影响，观察到Ａｓ，Ｓｅ和Ｇｅ氢化物发生中Ｇｅ的光谱信号的一些特殊行为，及Ｃｕ对Ｇｅ的氢化物光谱信号的增强。     

SCHWARZ ALTERNATING METHOD AND MULTIGRID METHOD

In this paper we propose and establish the convergence of several asynchronous parallel algorithms which are defined by combining the Schwarz alternating method with the multigrid method in two ways. In the first we divide the original problem into p related subproblems, then the multigrid method is used to solve these subproblems iteratively. In the second approach we regard the Schwarz iterative method as the smoothing step of multigrid method. All algorithms proposed in this paper can be used on an MIMD computer.     

截取回归方法及其用于自行车需求分析的尝试

以往,我国经济领域所采用的预测方法一般限于回归分析、曲线拟合或定性分析,大多从宏观上进行讨论,对微观分析却很少涉及:而截取回归是进行微观分析的一种方法。虽然很早有人研究截取变量,但把截取变量与回归分析结合起来的工作,是1958年由J· Tobin开始的.G.S.Maddala, T.Amemiya,李龙飞等对截取回归方法也作了深入的研究。 本文主要结合我国自行车需求分析探讨一般截取回归模型,导出极大似然函数的解的算法,做出假设检验,推出几个个量预测式及它们之间的大小关系,并在个量预测的基础上求出总量预测式,为经济预测提供了一个新的途径。 …     

IC卡及其应用

 当今世界信息技术的发展日新月异,一个以采集、开发、利用信息资源为特征的信息技术革命正席卷全球,信息技术已广泛地渗透到社会生活的各个领域:从电话卡到工资卡;从借书卡到售饭卡;从汽车加油卡到健康卡;从ＡＴＭ机到电子商务……无处不见ＩＣ卡的身影。什么是ＩＣ卡?它工作的基本原理是什么?安全性如何?有哪些具体应用?本文拟对此作些介绍。一、ＩＣ卡及其分类1.什么是ＩＣ卡ＩＣ卡即集成电路卡(ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄｃｉｒｃｕｉｔｃａｒｄ)。它是将一个集成电路芯片镶嵌于塑料基片中,封装成卡片的形式。     

薄膜结构分析中的低角X射线衍射方法

利用带折射修正的布喇格衍射定律和薄膜光学理论分析了低角Ｘ射线衍射谱中出现的一系列现象，导出了多层膜周期厚度和周期中不同材料间的配比率的计算公式，对多层膜的低角射线衍射谱中主峰间的次峰现象作出了解释，并对低角Ｘ射线衍射测量单层膜厚度进行了分析，给出了精确的测厚公式。     

本原极矩阵集合的完全刻划

(n,d):={A|A是恰有d个正对角元的n×n本原矩阵},已经知道:本原指数γ(A)≤2n—d—1,A∈(n,d),本文给出了本原极矩阵集合₁(n,d)={A|A∈(n,d),γ(A)=2n—d—1}的完全刻划。     

解线性方程组的数值对称化方法

本文提出了解下述分块形式的线性方程组一种新的并行数值对称化方法,它是对称区域分裂法的离散模拟。将原问题分裂为四个对称的子问题,求解两个子问题后我们即可得到问题的精确解。它适用于MIMD并行计算机。文末附有数值例子。     

STRONG LAW FOR MIXING SEQUENCE

In this article we present some theorems on the strong law for the mixing sequence which is notnecessarily stationary, with the mixing coefficient involving only a pair of variables in the sequence.     

基于壁面反射增强模型的熔石英刻蚀形貌形成机理研究

大气等离子体刻蚀是一种非接触式、材料去除可控的加工方法,在光学元件的高精度加工中具有广泛的应用前景。但是大气等离子体刻蚀后元件存在表面形貌恶化的问题,严重影响元件的性能和使用寿命。进行氢氟酸刻蚀实验,证明了元件表面形貌的恶化是由氟碳化合物和表面凹坑微结构两个原因引起的。为了解释表面凹坑微结构的形成,提出基于micro-mask壁面反射增强理论的凹坑形成模型,并开展了样品表面旋涂金纳米颗粒充当micro-mask的刻蚀实验。实验结果验证了micro-mask壁面反射增强模型的正确性,为解决大气等离子体刻蚀后元件表面形貌恶化问题提供了新的思路和方法。