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胡德绥 《应用数学和力学(英文版)》1989,10(7):675-678
In recent years, a lot of writers have used Cagniard-de Hoop’s method[1][2] to solve some problems of elastic wave. But it is a difficult and complicated task to change the path of integration when we use this method. A differential transform by A.Ungar[3,6] can obviate this difficulty. In this paper, weuse Ungar’s differential transform to solve a case of Lamb’s problem[1][2]. 相似文献
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1-苯基-3-甲基-4-苯甲酰基吡唑酮-5缩氨基硫脲稀土配合物的合成、表征及抑菌活性 总被引:13,自引:0,他引:13
合成了1-苯基-3-甲基-4-苯甲酰基吡唑酮-5缩氨基硫脲,并用此作配体与稀土氢氧化物反应,合成了13个组成的REL3·nH2O(RE=La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu.n=4~6)的配合物。所有化合物均经元素分析、IR、UV、摩尔电导、^1HNMR和差热-热重分析等表征,并对配体和配合物的抑菌活性进行了测试。 相似文献
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考虑了风速分布的季节性差异和风速的随机变化的影响、风电机组的实际功率特性、风电场尾流效应以及风电机组故障状况,建立了风电场可靠性模型.根据某海上风电场实测数据进行数值仿真实验,结果验证了模型的正确性和有效性.模型为进一步研究大规模风电并网以及风电场功率预测等问题打下了基础. 相似文献
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本文基于密度泛函理论,采用B3LYP方法,在6-31G(d,p)基组上对麻醉剂氯普鲁卡因的分子结构进行几何优化,在此基础上以乙醇为溶剂计算分子的前20个激发态,所有计算在Gaussian 09W-D01中进行。利用Multiwfn3.7软件绘制红外光谱图,并对其分子振动进行分析;利用Origin 2018 64Bit软件和Multiwfn3.7软件相结合绘制紫外光谱图,并计算空穴-电子来分析分子的激发态性质;通过计算前线轨道来预测氯普鲁卡因分子的活性位点。结果表明,在所计算得到的激发态中,由基态到第2、3、6、10激发态为局域激发,由基态到第19激发态为电荷转移激发。氯普鲁卡因乙氨基上的N22为亲电反应位点,苯环上的碳原子和脂基上的氧原子为亲核反应位点。本研究对更好的了解氯普鲁卡因分子的反应机理和在医学上的麻醉活性提供理论参考。 相似文献
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提出了一种四边形网格的削角细分方法(Corner-Cuttmg Subdivision Scheme).每细分一次,四边形网格数目增加为原来的两倍,两次细分结果相当于一次二分对偶细分(Binary Dual Subdivision)和一个旋转.细分算法采用线性细分加平滑的形式,具体地讲平滑是采用两次重复平均的方法,因此其生成曲面具有C1连续性.而且由于这种细分方法对网格几何操作简单,所得网格数据量增长相对缓慢,更适合于3D图像重构及网络传输等应用领域.. 相似文献
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聚合酶链式反应(PCR)是分子生物学常用的检测手段,主要用于对生物的DNA或RNA进行检测。由于荧光光谱重叠和滤光片过滤带宽限制,检测时所获得的荧光数据通常会包含荧光通道之间的串扰,串扰的存在使PCR结果分析变得复杂,并可能影响最终的检测结果。选择合适的光学元件,并确定通道间的补偿矩阵,可以降低甚至消除荧光串扰。目前荧光补偿矩阵大多通过迭代计算获得,还没有一种简单的方法可以从混合的多通道荧光数据中找到荧光补偿矩阵。为了快速获得荧光补偿矩阵,减小计算量,采用主成分分析法(PCA)中确定主成分的方式,基于搭建的测试平台进行单一染料实验,获得染料的荧光信号在各个检测通道的分布情况,计算得到荧光补偿矩阵。通过分析补偿矩阵,发现对于搭建的硬件系统,Cy5染料对Cy5.5通道串扰较大,串扰比例为8.76%,同时Cy5.5染料对Cy5通道串扰影响也相对较大,比例约为6.2%;其次是ROX染料对HEX通道串扰,比例约为2.68%; HEX染料对FAM通道串扰,比例约为1.58%; FAM染料对HEX通道串扰相对较小,比例约为0.25%,其余通道无明显串扰,与荧光光谱反映的结果一致。采用得到的荧光补偿矩... 相似文献
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采用电刷镀技术,以Ni-Cr镀液制备了Ni-Cr纳米电刷镀层并对其进行了退火处理;采用X射线衍射仪,扫描电子显微镜,能量色散谱仪分析了不同温度下退火处理的Ni-Cr纳米镀层的形貌以及结构;分别利用MH-5-VM型显微硬度计和CSM摩擦试验机测定了刷镀层的显微硬度和摩擦磨损性能.研究结果表明:镀层晶粒的大小均为纳米级,随温度变化不大,介于10~20 nm之间,在500℃以下,Cr以固溶体形式存在于Ni的晶格中,500℃以上Cr从Ni的晶格中析出;镀层的耐磨性随退火温度的变化与镀层的硬度随温度的变化大致相同:Ni-Cr刷镀层在400℃退火处理时,硬度最大,磨损率最小. 相似文献
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