用准经典轨迹的理论方法研究H+ +H2反应

在新的势能面上,用准经典轨迹的方法对H H2反应体系进行了动力学研究．理论计算的结果发现,这个反应体系的前向和后向的角分布基本是对称的．同时还给出了在不同碰撞能下这个反应体系的转动态的分布情况．在碰撞能的从0．124到1．424 eV时,反应H H2的积分截面是随着碰撞能的增加而逐渐降低的．而且理论计算结果与实验结果也符合的非常好．     

吡啶团簇的飞秒光电离和从头计算研究

用飞秒激光电离飞行时间质谱研究了吡啶分子团簇在400 nm波长下的多光子光电离,实验观测到一系列的质子化和非质子化团簇离子.结果表明,质子转移也能发生在弱氢键结合的分子间.通过分析离子峰宽和离子信号强度随气源压力的变化,得到质子化团簇离子来源于大团簇离子的碎裂,而非质子化团簇离子是中性团簇直接电离的结果.从头计算结果表明,吡啶团簇是通过弱氢键C-H…N 结合在一起的,并且团簇离子离解倾向于生成质子化产物.     

应用反射式飞行时间质谱仪研究氨团簇离子解离动力学

用直射式和反射式飞行时间质谱研究了氨分子团簇体系在 355 nm激光下的多光子电离,得到一系列的质子化团簇离子 (NH3)nH+,同时还观察到超价氨团簇离子 (NH3)n H2＋。在反射式飞行时间质谱研究中观测到质子化氨团簇离子在自由飞行过程中的解离现象,表明在该实验条件下生成的质子化氨团簇离子是一些亚稳态团簇离子。对子离子产率的分析,得到质子化团簇离子解离速率常数,从而可以估计亚稳态团簇离子的寿命。团簇尺寸从 n＝3增大到 20,其寿命从 21 ms减小到 120 μs,大约小了两个数量级。解离速率在 n＝5到 6有一个阶跃式上升,这是由于 5个氨组成的质子化团簇离子(NH3)4NH4+ 的结构相对比较稳定。     

转动传能中NH2()精细结构态变化的研究

利用高分辨光谱技术他NH2（A~2A1,090)423(F1/F2) 在单次碰撞条件下的精细态色散光光谱,发现NH2（A~2A1)在与团壳层分子碰撞传能过程中,母能级的自旋－转动耦合守恒,从实验上直接证实了在开壳层－ 壳层分子碰撞过程中电子自旋为一旁观者的假设;由于长程作用力造成子能级有保持原来自旋－转动耦合的倾向。     

Sn(5P~(23)P_(0,1,2))与N_2O、Ar、N_2、He和O_2的碰撞截面实验研究

在分子束—气装置上用原子吸收方法测量Sn(5p~2~3P_(0,1,2))分子束强度随背景气体的压力变化,得到锡原子三个电子态Sn(5p~2~3P(0,1,2))与N_2O、Ar、He、N_2和O_2等五种粒子的总碰撞截面,并估算出Sn原子与O_2和N_2O的反应碰撞截面。为了探讨SnO分子的化学激光体系,近年来报导了有关Sn原子与N_2O在气相状态下的反应。但是Sn+N_2O反应生成电子激发态SnO的机理尚不清楚。本文将要报导Sn的三个电子态5p~2~3P_0、5P~2~3P_1、5p~2~3P_2(以下简写成为~3P_(0,1,2))与N_2O等五种粒子碰撞截面的研究.这对于探讨反应机理和Sn原子与其它粒子的相互作用提供了实验的依据。由于Sn金属很难汽化,并且低压下发光很弱。以前研究Sn与N_2O、O_2或其它分子的反应都是在较高压力的实验条件下进行的。由于在较高压力下各种碰撞过程都可能同时产生,对研究反应机理是不利的。而本实验则是在低压条件下,并使用原子吸收方法来监测Sn原子浓度随碰撞气体浓度的变化,从而得出各种碰撞截面。这一新的方法对于研究金属原子与其它分子碰撞的过程,即使是不发光的反应碰撞也是适用的。这一方法的另一特点是可以分辩出原子的不同态,便于研究态—态反应动态学。     

铜氧团簇负离子的产生

自Smalley等利用激光蒸发／超声分子束载带（ix／un）法产生c。。问起，这种方法逐渐成为形成高质量气相团簇的常用实验手段，其中分子束载带的主要作用是缓冲气体通过提供三体碰撞稳定动力学激发的团簇并促进高质量团簇的形成．但0’Keef6门和Cre。Sy同的实验发现无需利用缓冲     

van der Waals团簇ArHCl的光电离研究

用同步辐射光源和光电离质谱研究了分子束中ArHClvanderWaals（vdW）团簇的光电离过程．测量结果表明，分子束中的ArHCl的浓匠与气源压力近似满足如下关系式：a（ArHCl）％＝179×10-8.首次给出了ArHCl团簇的光电高效率曲线，并测得ArHCl 的出现势为12.52±0.03eV。根据实验测量的HCl和ArHCl的电高能，计算出Ar－HCl 的解高能为022±0.03eV.用Gaussian－94w量化程序计算出解高能约为0.16eV.实验表明当团簇内的Ar电离时，ArHCl 质谱峰强度明显低于预计的强度，是由于体系电离后发生了电荷转移及解离过程．     

在分子束-气装置上研究Sn+N2O反应的动态学

在分子束-气装置上测量了Sn+N_2O和Sn+O_2反应的发光光谱, 得到了压力为10~(-2)～10~(-4)乇时两个反应的发光光谱随反应压力的变化, 结果表明: Sn+N_2O反应生成的SnOa~(3∑)态主要是由其它电子态经碰撞而布居的。实验用化学发光方法测得了Sn+N_2O反应的总碰撞截面为0.32 nm, 说明发光态是由Sn(~3P_2)+N_2O反应直接产生的。     

氰化钾团簇的结构和形成机理研究

利用激光气化铁氰化钾或亚铁氰化钾并利用飞行时间质谱检测方法对氰化钾团簇的形成机理进行了研究，结果发现：团簇正离子可归属为［Ｋ（ＫＣＮ）＿ｎ］￣＋，ｎ＝０～３７，它们的幻数为ｎ＝４、１３、２２、３７；团族负离子可归属为［（ＫＣＮ）＿ｎＣＮ］￣－＝，ｎ＝０～１３，它们的幻数为ｎ＝４、１３。这些幻数与氯化钠等碱金属卤化物团簇体系完全一致。这表明：它们的团簇结构应该是相同的，即１×３×３（ｎ＝４）、３×３×３（ｎ＝１３）、３×３×５（ｎ＝２２）、３×５×５（ｎ＝３７）结构。因此氰化钾晶体的初期形成过程也应采取ＮａＣｌ型结构的增长途径。在激光气化产生的等离子体中，正、负离子与中性团簇的碰撞增长反应、正离子与负离子的复合反应以及团簇的亚稳态解离反应造成了团簇离子的不同丰度分布。氰化钾团簇中稳定立方体结构的产生决定了幻数的出现。     

氨和甲醇团簇中的质子转移反应

应用激光多光子电离质谱和分子束技术研究了氨和甲醇二元团簇,实验观测到两个系列质子化的团簇离子: (CH3OH)nH+和(CH3OH)nNH4+(1≤n≤14 ),其产生是经过二元团簇内的质子转移反应。同时也研究了氘代甲醇CH3OD和氨混合团簇,结果表明OD原子团中的D转移概率比CH3原子团中的质子转移概率大几倍。在HF/STO-3G和MP2/6-31G*　*水平上对氨和甲醇二元团簇进行了计算,结果表明与CH3相比OH中的质子转移更加容易,因为CH3中的质子转移过程要克服高度约120 kJ/mol的能垒。