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741.
细胞的微观形貌、电学和力学功能在细胞生物学研究中具有重要意义.但传统细胞表征方法无法实现对活体细胞微/纳观尺度的无损、原位表征.扫描离子电导显微镜(scanning ion conductance microscopy, SICM)作为新型的扫描探针显微镜技术,由于非接触式扫描模式及纳米探针的使用,可实现对活细胞无损、高分辨地实时表征,近年来被广泛用于各种细胞生物学和细胞表征研究中.本综述主要介绍了SICM的发展历史及其在细胞表征中的应用.首先介绍SICM的仪器组成和工作原理、三种常见的工作模式及优缺点,之后分类介绍SICM在细胞生物学领域的应用进展,包括SICM在细胞形貌表征、细胞电学性质和力学性质研究中的具体应用实例,总结和比较了SICM与传统细胞生物学表征方法在细胞原位表征中的优势.最后,提出SICM在细胞表征方面面临的挑战,对其未来技术发展方向进行了展望. 相似文献
742.
合成了四取代双酰胺萃取剂N,N,N',N'-四丁基丁二酰胺(TBSA),并对萃取剂的结构进行了表征.研究了其萃取Pr(Ⅲ)的性能,考察了硝酸浓度、萃取剂浓度、硝酸锂浓度以及温度等对萃取分配比的影响.萃取反应在298K时,TBSA以甲苯为稀释剂时的热力学焓变为-12.83 kJ/mol.萃合物的组成结构为Pr(NO3)3·3TBSA. 相似文献
743.
744.
745.
有机抛光液的成分分析 ,对于调整抛光液的组成 ,控制抛光具有十分重要的意义。抛光液的分析方法很多 ,但是对于不同组成的抛光液的成分分析 ,要采用不同的分析方法 ,这样才能获得可靠的分析结果。否则 ,将给分析结果带来较大的误差 ,甚至使分析无法进行。例如 ,在采用磷钼酸铵沉淀法测定有机抛光液中磷酸浓度的方法时 ,由于柠檬酸的存在 ,使分析结果产生很大误差。本文采用镁混合剂法测定有机抛光液中磷酸的浓度 ,硫酸和柠檬酸等物质的存在对分析不产生影响。1 试剂镁混合剂 :称取 Mg Cl2 · 6H2 O2 .75g及氯化铵52 .5g加水稀至 50 0 ml… 相似文献
746.
热分析法观测Na2CrO4熔点 总被引:2,自引:0,他引:2
在现有文献中收录的Na2CrO4熔点数据各不相同,有792℃、392℃,两者相差400℃左右。利用热分析法观测Na2CrO4熔点,确定其熔点应为792℃。并且在419.6℃存在着一个可逆的固-固相变,转变焓为148.6J.g^-1。 相似文献
747.
748.
以287例上海及上海周边地区牧场的生鲜奶作为真奶样本集组成3个真奶样品集合,配制了526例含有糊精(或淀粉)+三聚氰胺(或尿素、或硝酸铵)的掺假牛奶形成6个不同种类的假奶样品集合,其中糊精、淀粉在掺假奶中的含量为0.15%~0.45%;硝酸铵、尿素和三聚氰胺的含量分别为700~2 100, 524~1 572与365.5~1 096.5 mg·kg-1,以保证掺假奶中凯氏定氮法测得的蛋白含量不低于3%。所有样本的近红外光谱均经过标准正态变换(SNV)预处理。将3个真奶样品集合和6个假奶样品集合进行不同的组合并对其采用改进与简化的K最邻近结点算法(IS-KNN)和改进与简化的支持向量机法(ν-SVM)建立了判别糊精、淀粉、三聚氰胺、尿素、硝酸铵这5类掺假物质的近红外判别模型,探寻掺假物质的浓度与识别正确率之间的关系。结果表明IS-KNN和ν-SVM两种方法对含三聚氰胺、尿素、硝酸铵的掺假牛奶的平均判别正确率分别在49.55%~51.01%,61.78%~68.79%与68.25%~73.51%区间波动,说明在该研究的掺假物浓度范围内,很难用近红外模型良好区分不同类型伪蛋白的掺假奶;IS-KNN和ν-SVM两种方法对含淀粉的掺假牛奶的判别正确率分别为92.33%与93.66%、对含糊精的掺假牛奶的平均判别正确率分别为77.29%与85.08%。从整体结果上来看ν-SVM法进行建模判别的结果大部分优于IS-KNN法进行建模判别的结果。对判别正确率与样品中掺假物质的含量水平分析表明近红外光谱结合非线性模式识别方法能良好地区分掺假奶中含量较高(0.15%~0.45%)的糊精和淀粉,而对含量偏低的三聚氰胺等伪蛋白的判别效果不佳,说明近红外光谱技术不适于鉴别牛奶中含量低于0.1%的掺假物质。 相似文献
749.
痕量锌 ( )对 H2 O2 氧化铬黑 T(EBT)的褪色反应有强的催化作用 ,且与锌 ( )量线性相关。据此建立了测定痕量锌 ( )的分光光度法。在 p H 4 .75的 HAc- Na Ac缓冲溶液和 OP存在下 ,有色溶液的最大吸收波长为 5 30 nm,方法检出限为 0 .70μg/ L ,锌 ( )量在 0— 0 .2 0 mg/ L范围内符合比耳定律 ,加标回收率为 99.2 %— 10 5 .3%之间。本法可测定电镀废水中的微量锌 ( )。 相似文献
750.
Improvement of laser damage thresholds of fused silica by ultrasonic-assisted hydrofluoric acid etching
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Polished fused silica samples were etched for different durations by using hydrofluoric(HF) acid solution with HF concentrations in an ultrasonic field. Surface and subsurface polishing residues and molecular structure parameters before and after the etching process were characterized by using a fluorescence microscope and infrared(IR) spectrometer, respectively. The laser induced damage thresholds(LIDTs) of the samples were measured by using pulsed nanosecond laser with wavelength of 355 nm. The results showed that surface and subsurface polishing residues can be effectively reduced by the acid etching process, and the LIDTs of fused silica are significantly improved. The etching effects increased with the increase of the HF concentration from 5 wt.% to 40 wt.%. The amount of polishing residues decreased with the increase of the etching duration and then kept stable. Simultaneously, with the increase of the etching time, the mechanical strength and molecular structure were improved. 相似文献