有机硅连接体在固相有机合成中的应用

固相合成方法具有传统液相反应无可比拟的优越性,已被越来越多的化学家认可.反应物与高分子支持体的连接则是固相合成中的重要环节,连接体在其中扮演着重要的角色.近20多年来发展起来的有机硅连接体基本满足了理想连接体的要求,具有广阔的应用发展前景.本文从直接法和间接法两方面综述了26年来具有代表性的多种有机硅连接体的设计、制备及其在固相有机合成中的应用.     

一种可溶性氯铟酞菁化合物的光限幅性能研究

本工作通过无中心金属酞菁合成了可溶性金属酞菁化合物--四-α-(2-乙基丁氧基)氯铟酞菁,用纳秒脉冲激光在532 nm处检测了它在四氢呋喃溶液中的光限幅过程,发现该化合物具有非常明显的光限幅性能.在很低的入射光能量下,输出能量即开始偏离Beer定律,透过率随着入射光能量的增加迅速下降.这一效应归因于酞菁分子的反饱和吸收.通过纳秒激光闪光光解实验测定了上述化合物在四氢呋喃溶液中的瞬态吸收光谱及三线态寿命,实验结果表明在很宽的波长范围内分子具有较强的激发态吸收性能.     

四吡咯环状化合物的光物理和三阶非线性光学性质的研究

本论文在设计合成一系列四吡咯环状化合物的基础上,运用多种光谱手段研究周边取代对包括酞菁、三明治型酞菁、芴取代卟啉与氮杂卟啉在内的四吡咯环状化合物及其配合物的光物理性质和受355nm的光激发后所经历的光物理过程;研究不同结构因素对四吡咯环状化合物及其配合物的光物理性质的影响;用光限幅和Z-扫描方法检测四吡咯环状化合物的三阶非线性光学响应,研究其三阶非线性光学性质的来源,计算衡量其光限幅性质和三阶非线性光学性质的参数,并分析其产生的原因、结构与非线性光学性质的关系和影响其强弱的因素.     

烯烃光敏顺反异构化反应

烯烃光顺反异构化是一个重要的基元有机光化学反应.本文从垂直中间态理论和势能面的角度对烯烃光敏顺反异构化反应机理进行了综述,并介绍了这些理论在异构体激发三重态能量的确定和敏化剂筛选中的应用.     

Fluorescence Quenching of Poly[2-methoxy-5-（2′-ethylhexoxy）-p-phenylene vinylene] （MEH-PPV） in Solutions

Fluorescence quenching processes of poly[2-methoxy-5-(2‘ethyl-hexoxy)-p-phenylene vinylene] (MEH-PPV) in solution by electron acceptors, O2 and acid, have been studied. Static quenching of the fluorescence from MEH-PPV by an electron acceptor (DDQ or TCNE) occurs due to electron transfer from MEH-PPV to the electron acceptor and this electron transfer quenching can be promoted by chloroform. Photooxidation takes place in the MEH-PPV solution and singlet oxygen is an intermediate in the photooxidation, according to the results of ESR spectroscopy. Acid also plays an important role in the fluorescence quenching process of MEH-PPV, by the protonation of the alkoxy groups in the molecular chain.     

高压对有机化合物晶体结构和电子结构的作用

压力作为与温度同等重要的一个环境物理参量，在众多研究领域中越来越受到重视。经过几十年的发展，现在已经可以实现对超高压的可控调节。将高压作为一个重要的环境物理参量引入到科学研究的各个领域，将会大大扩展研究的范围．文章介绍了近年发展起来的一种简单安全的高压产生技术，以及利用这种高压产生技术在超高压条件下开展的一些有机化合物光物理性质的研究工作。     

含偶氮苯基共聚物的合成及其光控释放小分子化合物能力的研究

本工作合成了带有偶氮苯基的乙烯基化合物MAAAB。通过与不同丙烯酸酯的共聚得到了两组含不同组成有光响应能力的共聚物。比较了含小分子偶氮苯化合物的高分子薄膜与MAAAB共聚物的光控释放小分子的能力,发现后者具有较强的光控功能。此外,还对不同高分子母体材料的分子结构,分子运动以及松弛等对所构成薄膜光控能力的影响进行了讨论。     

我国光化学研究的进展及展望

本文对我国开展光化学研究的历程和目前光化学研究的现状进行了简单的介绍,并对今后几年光化学的发展进行了展望.     

先进光刻胶材料的研究进展

本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的研究进展进行了综述,特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍,以期对我国先进光刻胶的研发工作有所帮助.     

可显式求解二维扩散方程组的三层差分格式

1．问题的提出在区域D三队1）x阻1）x叮n考虑二线扩散方程组的初边值问题：的差分解．假定系数人心民小。,q二1,…,川满足条件KI～＊3：KI．A。P（x,yt）二AP。（x,y,t）,B。P（x,yt）＝BO。（x,y,t）;KZ．存在常数。1,。2＞0使得对于V（2,从t）ED八佰,…,（M）ERM,有如下不等式成立：＊3．人p和民p在D二队则x叮11x叮n上充分光滑,且关于土为h耶．连续,于是存在常数K＞0,使得对于一维清形,陈光南山采用了一种三层主对角隐格式,通过引入高阶人工粘性项使格式绝对稳定,沈隆钩等［2,3］在研究Shrsdinger型方程…