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11.
LED密码算法是2011年提出的超轻量级密码算法,主要是为资源受限下物联网加密应用研发的.轻量级密码算法结构相对简单,更容易被旁路攻击成功.随机掩码是一种有效抗旁路攻击的方法,在深入LED密码算法结构研究的基础上,提出一种全随机掩码的LED密码算法CMLED.论述了CMLED算法的设计方法,从形式化方面给出了抗高阶旁路攻击选择掩码的原则.同时,对全随机掩码的CMLED与原始算法进行了硬件资源占用与加密效率对比,实验表明CMLED仍然可以高效地在智能卡上实现. 相似文献
12.
分子轨道理论是理解分子电子结构与微观性质的重要理论之一,也是本科生与研究生结构化学教学中的重点与难点。学生对原子轨道组合形成分子轨道、分子轨道能级交叉混合等知识的理解缺乏形象直观、定量的认识。本文通过基于量子化学或密度泛函理论的Gaussian 03计算软件,计算、绘制并分析了F_2、O_2、N_2、HF、CO等的分子轨道能级图,将学生较难理解的内容定量、直观地呈现出来,形象地解释了分子轨道成键原则与电子填充原则等分子轨道理论中的重难点,加深了学生对分子轨道理论的理解,特别是sp轨道混杂导致的σ_(2p_z)与π_(2p)轨道能级交叉这一难点,激发了学生学习的主动性和积极性,提高了教学质量。在此基础上,利用分子轨道理论分析了CO_2的电子结构,使学生学会应用分子轨道理论解决实际问题,巩固了相关课堂理论知识。 相似文献
13.
介绍了Rieffel定义的紧致量子度量空间与量子Gromov-Hausdorff距离和近来Latrémolière定义的量子Gromov-Hausdorff邻距,分别讨论了矩阵代数如何在这两种量子距离下收敛至球面. 相似文献
14.
采用基于密度泛函理论(DFT)的Dmol3程序系统研究了O原子与O2在 Au19与Au20团簇上的吸附反应行为. 结果表明: O在Au19团簇顶端洞位上的吸附较Au20强; 在侧桥位吸附强度相近. O与O2在带负电Au团簇上吸附较强, 在正电团簇吸附较弱. 从O―O键长看, 当金团簇带负电时, O―O键长较长, 中性团簇次之, 正电团簇中O―O键长较短, 因而O2活化程度依次减弱. 电荷布居分析表明, Au团簇带负电时, O与O2得电子数较中性团簇多, 而团簇带正电时, 得电子数较少. 差分电荷密度(CDD)表明, O2与Au团簇作用时, 金团簇失电子, O2的π*轨道得电子, 使O―O键活化. O2在Au19-团簇上解离反应活化能为1.33 eV, 较中性团簇低0.53 eV; 而在Au19+上活化能为2.27 eV, 较中性团簇高0.41 eV, 这与O2在不同电性Au19团簇O―O键活化规律相一致. 相似文献
15.
一、引言 随着科学技术的不断发展,对于多元超音速气动问题的特征线(特征面)求解引起人们的关注。本文以文献[1]的气动方程组为基础,采用文献[2]的普遍理论,求得任意斜交曲线坐标系下的特征锥方程和特征相容关系式,由于采用的方程组是以张量形式表示的普遍方程组,因而所得的结果具有普遍意义。 相似文献
16.
微泡对高强度聚焦超声声压场影响的仿真研究* 总被引:2,自引:1,他引:1
微泡对高强度聚焦超声(HIFU)治疗焦域具有增效作用,而HIFU治疗中不同声学条件下微泡对HIFU形成声压场的影响尚不清楚。本文基于气液混合声波传播方程、Keller气泡运动方程、时域有限差分(FDTD)法和龙格-库塔(RK)法数值仿真研究输入声压、激励频率、气泡初始空隙率和气泡初始半径对HIFU形成声压场的影响。研究结果表明,随着输入声压的增大,焦点处声压升高但焦点处最大声压与输入声压的比值减小,焦点位置几乎不变;随着激励频率和气泡初始半径的增大,焦点处声压升高且焦点位置向远离换能器方向移动;随着气泡初始空隙率的增大,焦点处声压降低且焦点位置向换能器方向移动。 相似文献
17.
本文用CA模型借助部分模拟法求得SO2在锰盐表面上催化氧化反应的动力学相图; 若反应按Langmuir-Hinshelwood机制进行, 且H2O以气态出现, 则模拟结果表明, 相图中有四个双组分中毒相和一个反应相, 反应相在一个线性的浓度区域上出现; 如在催化反应过程中, 尚需考虑反应物种的脱附, 则反应相将随脱附几率的增加而扩大。 相似文献
18.
19.
20.
Pd/Ce0.8Zr0.15La0.05Oδ整体催化剂甲苯催化燃烧性能的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用一次浸渍法分别制备了 Pd/Ce0.8Zr0.15La0.05Oδ及Pd/Ce0.8Zr0.2O2整体式蜂窝陶瓷催化剂,考察了不同温度焙烧的两类整体催化剂甲苯催化燃烧性能.通过X射线粉末衍射(XRD)、比表面积、拉曼光谱(Raman)、程序升温还原(H2-TPR)、PdO分散度等表征结果与催化活性进行关联.结果表明,随着焙烧温度升高,催化剂比表面积下降,Raman图谱CeO2及PdO峰强度增加,H2-TPR中Ce4+还原峰向高温方向移动,同时PdO分散度下降,相应甲苯催化氧化活性下降.与CeO0.8Zr0.2O2涂层催化剂相比,La3+掺杂催化剂在高温焙烧时,其比表面积下降较小,Raman光谱表明其氧缺位比铈锆涂层催化剂多,H2TPR谱图中Ce4+还原峰低约60~80℃,PdO分散度亦比末掺杂催化剂高.1000℃焙烧下的甲苯氧化反应活性远高于未掺杂催化剂,说明镧的掺杂提高了铈锆涂层催化剂的高温反应活性及热稳定性. 相似文献