同步辐射软X射线多层膜反射偏振元件研究

利用多靶磁控溅射方法分别镀制了W/C和Mo/Si两种周期性结构多层膜。通过对其相关参数周期数、厚度比以及周期厚度的调整,使薄膜的布拉格衍射峰出现在布儒斯特角附近,两种多层膜的应用能量范围分别落于C的近K边处和Si的L边前。在北京同步辐射装置3W1B光束线的软X射线光学实验站上进行了反射率的测量,得到W/C膜的反射率在214eV时达到4.18%;Mo/Si周期性多层膜的反射率在89eV处达到32.3%。根据测量结果,分析了在同步辐射装置作为偏振元件的可行性     

北京同步辐射装置3B3前端区和光束线输出特性诊断

北京同步辐射装置(BSRF)新建3B3光束线通过重新安装、准直和在线调试, 其光学输出特性均达到或超出原设计指标, 光通量达到7×10¹⁰phs/s(100mA下), 能量分辨本领(E/ΛE)达到5000(3.206keV). 介绍了前端区和光束线输出光学特性的诊断方法和光束线在线调试过程, 给出了输出特性的测试结果. 分析了BPM与荧光靶在调试过程中所起的作用及局限性.     

磁性纳米粒子富集-电感耦合等离子体发射光谱法测定食具中铬、镍、镉、铅、砷的迁移量

采用氩电弧等离子体法制备磁性碳包铁纳米粒子,考察了其对水溶液中Cr,Ni,Cd,Pb和As的富集能力,建立电感耦合等离子体原子发射光谱同时测定食具中Cr,Ni,Cd,Pb和As迁移量的分析方法。研究了纳米粒子表面经H2O2处理后,pH值、吸附时间、吸附剂用量等因素对各元素富集效率的影响。结果表明,H2O2表面处理可有效提高纳米粒子对待检元素的吸附率。在pH 8.0～9.5范围内,选用30 mg碳包铁纳米粒子定量富集,振荡3 min后,Cr,Ni,Cd,Pb和As均可被磁性碳包铁纳米粒子定量富集,酸性溶液(pH 1～2)可洗脱吸附离子。采用本方法测定了实际样品,各元素回收率在87%～106%之间。     

基于修正Linde模型的复材层板的损伤模拟

基于连续损伤力学方法,建立含初始损伤的三维复合材料层合板的有限元模型.采用Linde等提出的应变失效准则,并引入参数对损伤函数进行修正,模拟层合板的纤维和基体的失效行为.参数的改变可以描述损伤变量随应变的变化程度.数值模拟表明,计算结果随着参数的变化幅度较大,在试验值的±15%范围内变动.本文引入的参数一方面可以拓宽Linde材料损伤判据的适用范围,另一方面在适用范围内可以达到更为精确的数值模拟结果,为后续的结构分析打下基础.     

铝对多巴胺和左旋多巴氧化的化学催化作用的电化学和光谱学研究

用电化学、紫外-可见光谱和^13C-核磁共振谱研究了铝(Ⅲ)对多巴胺和左旋多巴氧化的化学催化作用。结果表明,在中性和碱性条件下铝(Ⅲ)均能促进多巴胺和左旋多巴的氧化,这一促进作用提高了用多巴胺和左旋多巴作电活性配体示差脉冲伏安法间接测铝的灵敏度。但是抗坏血酸有抑制铝(Ⅲ)的催化效应的作用。     

阿尔茨海默氏病及其药物治疗研究进展

阿尔茨海默氏病(AD)是一种中枢神经系统进行性退变疾病,其病因仍未确定。文章综述了近年来AD的研究以及所出现的AD治疗药物的新进展。     

有机硅-丙烯酸酯微乳液的合成与表征

采用高温乳化种子单体滴加法制备了有机硅-丙烯酸酯共聚微乳液。对合成条件及微乳液的性能进行了研究。用红外光谱(FT-IR)、透射电镜(TEM)、动态激光粒度仪(PCS)对微乳液的结构和粒子形态进行了表征。结果表明:有机硅氧烷与丙烯酸酯发生了共聚反应,生成的微乳液粒子大致为球形结构,粒子大小比较均一,粒径较小。     

Pb(Zr0.3Ti0.7)O3铁电薄膜激光感生电压效应

采用脉冲激光沉积(PLD)技术在LaSrAlTaO₃(LSATO),LaAlO₃(LAO)和SrTiO₃(STO)的单晶倾斜衬底上成功制备了Pb(Zr_0.3Ti_0.7)O₃(PZT)薄膜,在三种倾斜衬底上生长的PZT薄膜中都首次发现了LIV效应.对PZT/LSATO薄膜在a,c轴两种不同取向择优生长下的LIV效应做了研究,发现在薄膜c轴取向择优生长 关键词： 激光感生电压效应 铁电薄膜 薄膜生长取向 原子层热电堆     

青蒿素类似物的立体专一性合成

青蒿素(1)是从青蒿中分离到的一个具有独特结构的抗疟新药.它的结构包含一个C—O—O—C基团并连接着C—O—C—O—C的交替排列,这种特殊的结构可能与其抗疟活性有关.我们曾用青蒿酸(2)进行光敏氧化,经由⊿⁵-烯-4-氢过氧化物3合成了天然青蒿素B(4)^[1].因而若从5得3的双氢化合物6,再经臭氧化和内分子缩酮反应,似可在C₄和C₆位之间架一个过氧桥,从而得到一个类似青蒿素结构的化合物.根据这一设想,我们已成功地合成了这个化合物.具有这种独特结构的过氧化物还是首次被合成.     

软X射线Mo/Si多层膜反射率拟合分析

由于多层膜的表界面粗糙度和材料之间的相互扩散等因素，导致多层膜的实际反射率小于理论计算的反射率，因此，多层膜结构参量的确定对镀膜工艺参量的标定具有重要意义。由于描述单个非理想粗糙界面散射的Stearns法适用于软X射线短波段区域，采用它的数学模型来描述软X射线多层膜的粗糙度，利用最小二乘法曲线拟合法对同步辐射测得的Mo／Si多层膜的反射率曲线进行拟合，得到了非常好的拟合结果，从而确定了多层膜结构参量，同时分析了多层膜周期厚度，厚度比率，界面宽度以及仪器光谱分辨率对多层膜反射特性的影响，这些工作都为镀膜工艺改进提供了一定的理论依据。