多晶薄膜X-射线衍射

作者在普通X-射线衍射仪上实施了样品倾斜X-射线衍射(STD)技术,不需要专用薄膜附件(TFA)也能很好地进行薄膜结构的测定,并且给出其衍射能量方程和方位角方程,从而使理论、实验和结构解析结合为一体。目前,应用该技术已经成功地解决了一些其它简便方法所无法解决的诸如物相纵向分布变化测量等问题。本文还通过几种摩擦学用膜的测定结果阐明了该技术的应用及功能。     

超声辐射法制备与表征DDP修饰锡纳米微粒

金属纳米微粒因自身特殊的光、电、磁和热力学等性能而在催化、光电装置、信息存储以及润滑等领域中有着广阔的应用前景[1~5],因而制备具有特定性能的金属纳米微粒一直是纳米技术领域中的一个研究热点[6~8]。目前制备金属纳米微粒常用的方法主要包括物理法(机械粉碎[9]、气相沉     

聚乙烯亚胺和聚对磺酸钠苯乙烯分子沉积超薄膜的制备及其摩擦学性能研究

制备了以聚乙烯亚胺为聚阳离子,聚对磺酸钠苯乙烯为聚阴离子的分子沉积膜,用紫外-可见分光光度计、接触角测定仪和椭圆偏振光测厚仪对所制备的超薄膜进行了表征,用DF-PM型动静摩擦系数精密测定装置考察了超薄膜的摩擦学性能,并采用扫描电子显微镜对薄膜磨痕表面形貌进行观察.结果表明,所制备的超薄复合沉积膜具有良好的耐磨性能;随着相对湿度增大,摩擦系数减小;复合沉积膜的磨损机理主要为粘着磨损.     

不同金属基体上MoS2纳米微粒LB膜摩擦学行为研究

研究了Ｃｕ、Ａｇ及Ａｕ等金属基体上二烷基二硫代磷酸修饰ＭｏＳ２纳米微粒ＬＢ膜的摩擦学性能,用红外显微镜分析ＬＢ膜在摩擦过程中的结构变化,用电子探针分析考察不同金属基体上ＬＢ膜的磨痕形貌．结果表明：ＤＤＰ修饰ＭｏＳ２纳米微粒ＬＢ膜可有效降低Ａｇ和Ｃｕ与ＧＣｒ１５钢对摩时的摩擦系数;该ＬＢ膜极易向对偶转移并在摩擦过程中发生摩擦化学变化,主要包括无序化转变及修饰剂的部分分解;无机纳米核起主要承载和抗磨作用．Ｃｕ基体上的ＬＢ膜耐磨寿命较Ａｇ基体上ＬＢ膜的耐磨寿命高１００倍,这主要因ＬＢ膜与Ａｇ基体的结合较弱．     

Bi-Pb-Sn-Cd四元合金纳米微粒的制备及其摩擦磨损性能研究

通过直接对Bi-Pb-Sn-Cd四元块状合金进行超声分散制备了相应的四元合金纳米微粒;采用X射线衍射仪和热分析仪分析所制备的纳米微粒结构;采用透射电子显微镜考察了纳米颗粒的形貌及尺寸分布;采用四球摩擦磨损试验机考察了纳米颗粒的摩擦学性能.结果表明,所制备的纳米颗粒为低熔点共晶合金纳米微粒,颗粒平均尺寸在10～20 nm之间,其作为润滑油添加剂表现出良好的摩擦学性能.     

微乳液中单分散银纳米颗粒的制备及抗磨性能

采用水/液体石蜡/Span 80-Tween 80/正丁醇微乳液体系, 制备了具有良好单分散性的Ag纳米颗粒. 通过X射线粉末衍射仪、透射电子显微镜、傅立叶变换红外光谱仪和热分析仪表征了Ag纳米颗粒的结构、形貌、粒径大小及分布、表面键合性质和热性能. 结果表明, 所制备的Ag纳米颗粒具有立方晶型结构, m(Span 80)∶m(Tween 80)=7∶3时, 粒径分布呈单分散性, 平均粒径约为6 nm. 在四球长时抗磨损试验机上考察了分散于液体石蜡中Ag纳米颗粒的抗磨性能. 实验结果表明, Ag纳米颗粒具有良好的抗磨性, 且能显著提高基础油的承载能力.     

工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响

本文考察了工艺参数对等离子体增强化学气相沉积(PECVD)TiN镀层性能的影响,并且研究了镀层的摩擦学性能与其物理机械性能及结晶学特征之间的关系。结果表明,当N/H比为1、Ti/N比为21、沉积温度为400℃和离化电压为1500V时,镀层具有较好的机械性能及耐磨性能。X—射线衍射分析表明,在本试验条件下所获镀层均为(200)面择优取向。作者指出,要制取理想的TiN镀层,离化电压应不低于1500V,沉积温度必须高于300℃。     

室温离子液体介质中CdS纳米微粒的制备及其摩擦磨损行为研究

合成了1-甲基-3-己基咪唑四氟硼酸盐离子液体,并以此为反应介质通过有机金属化合物热分解法制备出CdS纳米微粒,采用X射线粉末衍射仪和透射电子显微镜对CdS纳米微粒的结构和形貌进行表征,在四球摩擦磨损试验机上考察了含CdS纳米微粒离子液体的摩擦磨损行为．结果表明：所制备的CdS纳米微粒具有六方相结构,粒径均一,约为15nm;含CdS纳米微粒离子液体的减摩抗磨性能明显优于纯离子液体;CdS纳米微粒以滚动／滑动方式起到了减摩抗磨作用,同时可以加速离子液体中阴离子的分解,促进FeF2和FeF3的形成,使复合体系的减摩抗磨性能有所提高．     

溅射MoS_2膜的特征形态及摩擦变化

溅射MoS_2膜显微结构的生长可分为与膜厚有关的三个阶段:(1)成核时形成突起,(2)等轴转化区域和(3)针状结构。每个生长阶段是依据微晶的大小、形状和排列方向来表征的。有效润滑膜的厚度是依据滑动试验时显微结构生长阶段来确定的,此膜在柱状结构区域有破裂的倾向,实际润滑由保留下的0.18～0.22微米厚的膜来完成。为了评价溅射MoS_2膜的完整性还提出了一种直观的方法。润滑性能是用擦抹前后的光学性能变化来识别的,微晶的取向导致所观察到的光学上反射性的变化。