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石墨炉原子化器中原子化过程的研究(Ⅴ)——高氯酸对锂和锗的干扰 总被引:2,自引:0,他引:2
本文详细地研究了HClO4对Li和Ge的干扰.HClO4对Li原子吸收信号有明显的抑制作用,干扰的主要原因是气相中形成LiCl。当预加热温度达2000℃时,残留HClO4干扰可消除。在HClO4分解之前加入NH4NO3,可消除其干扰。HClO4对Ge有增感作用,并与灰化温度有密切关系。500℃以前HClO4增感效应随温度升高变化较小,高于500℃增感效应明显增加。 相似文献
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基于动态目标建模的粒子滤波视觉跟踪算法 总被引:4,自引:1,他引:3
提出一种根据场景变化动态建立目标模型的粒子滤波视觉跟踪算法.该方法首先选择简单且具有互补性的特征描述当前图像,并统一采用直方图法对这些特征进行建模;然后在粒子滤波框架下,根据巴塔恰里亚测度评价各个目标特征和背景特征之间的可区分程度,动态调整特征间的置信度;并对各个特征似然函数的噪音参量进行在线估计和更新,使其似然函数的度量标准达到统一.分析和实验表明,该算法性能优于仅仅采用多特征融合进行粒子滤波视觉跟踪的方法,对摄像机运动、混淆干扰、遮挡及目标外观大小的改变具有更强的鲁棒性. 相似文献
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液晶光学器件在激光光束精密控制上具有重要应用前景,氧化铟锡(ITO)薄膜作为液晶光学器件的透明导电电极,是液晶器件激光损伤的薄弱环节。为此,建立了ITO薄膜激光热损伤物理模型。理论计算结果表明:1 064 nm激光对ITO薄膜的损伤主要为热应力损伤;连续激光辐照下,薄膜损伤始于靠近界面的玻璃基底内;脉冲激光辐照下,温升主要发生在光斑范围内的膜层,薄膜损伤从表面开始。利用泵浦探测技术,研究了ITO薄膜的损伤情况,测量了不同功率密度激光辐照后薄膜的方块电阻,结合1-on-1法测定了ITO薄膜的50%损伤几率阈值。实验结果表明:薄膜越厚,方块电阻越小,激光损伤阈值越低;薄膜未完全损伤前,方块电阻随激光功率密度的增加而增大。理论计算与实验结果吻合较好。设计液晶光学器件中的ITO薄膜电极厚度时,应综合考虑激光损伤、透光率及薄膜电阻的影响。 相似文献
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该文制备了聚乙烯吡咯烷酮(PVP)功能化的磁性氧化石墨烯(PVP/Fe3O4/GO)复合物,透射电镜和红外光谱结果显示,其表面含有大量的结合位点,可显著提高萃取效率。该复合物对Cu(Ⅱ)、Zn(Ⅱ)、Cr(Ⅲ)、Cd(Ⅱ)和Pb(Ⅱ)离子有强吸附作用,最大吸附容量分别为68.03、103.63、13.82、36.51、555.56 mg/g,其对Pb(Ⅱ)离子的吸附作用尤为强烈;吸附和解吸过程仅需20 min。将上述材料应用于上述5种重金属离子的萃取,并采用火焰原子吸收光谱仪检测,其检出限为0.021~3.46μg/L,与文献报道的检出限相当,且其它共存金属离子无明显干扰。该方法成功应用于3种鸡饲料中上述重金属离子的快速萃取,回收率为80.0%~120%,检测结果与微波消解法具有较高的一致性,相对误差为-18.73%~7.50%。该方法萃取速度快、耗时短、易分离、强酸用量小、对环境友好,在饲料重金属离子现场快速前处理领域有着较高的应用潜力。 相似文献
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利用微波技术合成了配合物[Gd2(Gly)6(H2O)4](ClO4)6(H2O)5, 进行了化学成分分析、红外表征和热重分析. 应用X衍射仪测定其晶体结构, 该晶体为一维链结构, 属三斜晶系, P 空间群, 晶胞参数: a=1.1569(17) nm, b=1.4138(2) nm, c=1.5642(2) nm, α=96.910(2)°, β=102.735(2)°, γ=105.512(2)°, V=2.3606(6) nm3, Z=2, Dc=2.144 g•cm-3. 采用精密溶解-反应量热计, 通过设计热化学循环, 计算出了该配合物的标准摩尔生成焓为 -(7960.73±3.23) kJ•mol-1. 相似文献
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以Keggin型铁取代杂多阴离子PW11O39Fe(III)(H2O)4- (PW11Fe)代替传统电芬顿(electro-Fenton)方法中的Fe3+作为电催化剂, 构成一个新颖的电催化体系并用于中性水溶液中硝基苯的降解. 结果表明, 含有1.0 mmol•L-1硝基苯和1.0 mmol•L-1 PW11Fe的混合磷酸盐溶液(pH 6.86), 在-0.5 V电位和60 mL•min-1 O2流速下反应100 min, 硝基苯便完全降解. 降解的准一级表观速率常数与硝基苯的初始浓度有关, 当硝基苯的初始浓度为1.0, 2.0和5.0 mmol•L-1时, kobs分别为7.18×10-2, 3.57×10-2和1.47×10-2 min-1. 降解反应100 min的TOC(有机碳总量)去除率约为35%, 表明硝基苯的降解过程伴随着矿化. 相似文献