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41.
同步辐射具有波段广、强度高、方向性好,偏振度高和脉冲持续时间短等许多优点,已在许多学科中发挥了重要作用,适合于分子研究的同步辐射的能量范围为6eV-1keV,现在人们最常用的是6-100eV,即真空紫外波段。分子在这种高能量光子作用下,被激发到很高的电子态,或者产生电子、离子及中性碎片。测量这些产物,可能获得有关被研究对象的能态、吸收截面、电离效率、能量转移、电离能、离解能、反应通道等重要信息。 相似文献
42.
基于消息传递并行程序设计平台MPI,结合当前微处理器的高性能特征,探讨了二维分子动力学数值模拟程序的优化和并行,且具体应用到高速碰撞物理模型问题。其中,串行优化的性能提高了两倍,并行效率在由8台高性能微机构成的微机机群上。均大于90%。 相似文献
43.
44.
采用紫外-可见吸收光谱法现场监测了苯胺电化学聚合时的动力学降解过程,简单、直观地显示了阳极电位、酸度和苯胺浓度对降解过程的影响,结果表明,阳极电位越正、酸度越强、苯胺浓度越大,聚苯胺的降解速度越快。该方法得到的结果与聚苯胺膜在空白溶液中采用循环伏安法研究其降解动力学时得到的结果类似。 相似文献
45.
用落体法测重力加速度的实验方案选择 总被引:1,自引:0,他引:1
重力加速度是物理学中一个重要的参量.地球上各地区的重力加速度的数值随地理纬度、海拔高度和地质结构的不同而不同.重力加速度的测量不仅在物理中具有重要意义,而且对于研究地层结构和探查地下资源都有实用价值,因此,细致地测量和准确地计算重力加速度是十分必要的.测量重力加速度的方法多种多样,本文利用自由落体原理,借助光电门测重力加速度.为减小误差对具体实验操作及数据处理方法的选择进行深入探讨. 相似文献
46.
利用离子注入机所产生的低能N+模仿宇宙中低能离子作用于人宫颈癌细胞(HeLa cell),探索其对人类细胞的影响及作用机制。因实验中的低能离子产生和加速要在真空中进行,细胞在离子注入同时将受到真空的影响,为此研究人员利用石蜡油保护细胞以防止注入时的水份蒸发。注入处理完毕后收集细胞,采用傅里叶变换红外光谱法(FTIR)分析真空和低能N+束注入后细胞中大分子的相对含量、构型及其构象变化等方面的信息。结果表明:(1)不同处理后的样品在3 300 cm-1附近吸收谱带存在明显差异。对照样品的特征峰位为3 300 cm-1,而其他样品中除了注入5×1014 N+·cm-2外,红外吸收峰均向长波数方向移动,真空2×1015 N+·cm-2样品的频移尤为明显至3 420 cm-1处。(2)与对照样品相比较,各处理样品的1 378 cm-1处吸收峰峰位均向长波数方向频移。(3)处理样品相对于对照样品而言,2 360 cm-1处吸收峰均向长波数方向移动。该结果说明低能离子注入处理可以引起细胞中核酸、蛋白的含量和构象变化。 相似文献
47.
Formation of the intermediate semiconductor larger for the Ohmic contact to silicon carbide using Germanium implantation 下载免费PDF全文
By formation of an intermediate semiconductor layer (ISL) with a
narrow band gap at the metallic contact/SiC interface, this paper
realises a new method to fabricate the low-resistance Ohmic contacts
for SiC. An array of transfer length method (TLM) test patterns is
formed on N-wells created by P+ ion implantation into
Si-faced p-type 4H-SiC epilayer. The ISL of nickel-metal Ohmic
contacts to n-type 4H-SiC could be formed by using Germanium ion
implantation into SiC. The specific contact resistance ρc as low as 4.23× 10-5~Ωega \cdotcm2 is
achieved after annealing in N2 at 800~°C for 3~min,
which is much lower than that (>900~°C) in the typical SiC
metallisation process. The sheet resistance Rsh of the
implanted layers is 1.5~kΩega /\Box. The technique for
converting photoresist into nanocrystalline graphite is used to
protect the SiC surface in the annealing after Ge+ ion
implantations. 相似文献
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50.