二维Hubbard模型光电导谱的研究

我们用巨正则量子蒙特卡洛和最大熵方法研究了二维正方格点上Ｈｕｂｂａｒｄ模型的光电导谱，在半满条件下，光电导谱呈现一能隙区，掺杂后，光电导谱在ω＝０处出现Ｄｒｕｄｅ峰，在能隙区出现一新峰，同时谱权重从高频区向能隙区转移，这些特下与高温氧化物超导体的光电导实验相符合。     

Enhanced laser characteristics of pyrromethene 650 using modified PMMA as solid hosts

Solid-state samples based on modified polymethyl methacrylate (MPMMA) with methanol doped with the dye pyrromethene 650 (PM650) are prepared.The effects of a volume percentage of methanol on the laser characteristics of the sample,including spectra properties,slope efficiency,photostability and tunable properties,are investigated.The broadband dye laser output wavelength is around 655 nm and a highest slope efficiency of 32.23% is achieved.Pumping the samples at a repetition rate of 5 Hz with a pulse energy of as high as 100 mJ (the fluence is 0.26 J/cm 2),the longest lifetime (168000 shots) is obtained in the sample (MMA:methanol=18:2),and the corresponding normalized photostability reaches 109.19 GJ/mol.When the sample (MMA:methanol=18:2) is placed in a Shoshan-type oscilla-tor,the narrow-linewidth operation is a continuous tuning range (up to 64 nm).The results indicate that the laser characteristics of solid-state dyes can be greatly enhanced by using modified PMMA with methanol serving as the solid host.     

外加磁场对射频磁控溅射制备铝掺杂氧化锌薄膜影响的研究

利用射频磁控溅射法制备了铝掺杂氧化锌(AZO)透明导电薄膜,在传统的磁控溅射系统中引入外加磁场,研究了外加磁场对AZO薄膜沉积速率、形貌结构及光电特性的影响.研究结果表明,外加磁场后薄膜的沉积速率从不加磁场的13.04 nm/min提高到了19.93 nm/min;外加磁场后薄膜表面平整致密、颗粒大小均匀,结晶质量较高,而不加磁场薄膜表面形貌呈蠕虫状,薄膜质量较差.溅射时间为90 min时,外加磁场前后AZO薄膜方阻分别为30.74?/和12.88?/.外加磁场对薄膜可见光透过率影响不大,但使薄膜的吸收边蓝移现象更明显.运用ansys软件对磁控溅射二维磁场分布模拟后发现,外加磁场提高了靶上方横向磁场强度,改善了磁场分布的均匀性,加强了磁场对电子的磁控作用,提高了靶电流,是AZO薄膜的溅射速率、光电性能和形貌结构得到提高和优化的原因.     

金属氧化物薄膜在中波红外光谱区内光学常数色散特性

基于金属氧化物薄膜材料在中波红外波段应用的需求,研究了含水状态的TiO2、HfO2、Ta2O5和Y2O34种金属氧化物薄膜在中波红外波段内(2.5~5μm)光学常数的色散特性。利用电子束蒸发沉积技术,在超光滑的硅表面制备了4种氧化物薄膜,基于洛仑兹振子介电常数色散模型,通过透射率光谱反演计算了4种氧化物薄膜的光学常数。研究结果表明:4种氧化物均有少量的水分子、羟基,水含量从少到多的薄膜依次为TiO2、HfO2、Ta2O5和Y2O3,在远离水吸收的位置,消光系数从小到大的薄膜分别为TiO2、HfO2、Ta2O5和Y2O3;在电子束蒸发沉积工艺条件下,为了降低水的影响,TiO2和HfO2是中红外波段较为理想的金属氧化物薄膜材料。     

红外焦平面阵列数据采集系统校准方法

为解决红外焦平面阵列数据采集系统的校准问题,基于传统功能性检查方法,研制出了能够模拟红外焦平面阵列输出的模拟源.该模拟不仅能模拟2048×2048规模的红外焦平面阵列并输出性能稳定的量化图像数据,而且能提供数据采集系统正常工作所需的帧、行、像元及相关双采样同步触发信号.利用模拟源输出的量化图像数据对红外焦平面阵列数据采集系统的噪声、采集电压范围、采集准确度及线性度、最高采集速率等参量的校准方法进行了研究,实现了红外焦平面阵列数据采集系统的定性检查和定量校准,解决了其溯源问题,为红外焦平面阵列参数的量值准确统一奠定了基础.     

Enhancement of Photoluminescence Intensity of GaInNAs/GaAs Quantum Wells by Two-Step Rapid Thermal Annealing

We investigate the effect of rapid thermal annealing on InGaNAs/GaAs quantum wells. At optimized annealing temperatures and times, the greatest enhancement of the photoluminescence intensity is obtained by a special two-step annealing process. To identify the mechanism affecting the material quality during the rapid thermal annealing, differential temperature analysis is applied, and temperature- and power-dependent photoluminescence is carried out on the samples annealed under different conditions. Our experiment reveals that some composition redistribution or other related ordering processes may occur in the quantum-well layer during annealing. Annealing at a lower temperature for a long time primarily can remove defects and dislocations while annealing at a higher temperature for a short time primarily homogenizes the composition in the quantum wells.     

室温下单个甘氨酸分子在Cu(111)表面的操纵研究

先用低能电子衍射(LEED)证明了甘氨酸(NH₂-CH₂-COOH)能在室温下在Cu单晶表面产生比较稳定的吸附，然后用扫描隧道显微镜(STM)进一步研究了其吸附情况，看到单个甘氨酸分子在Cu(111)面上吸附稳定并至少有三种吸附状态.分子操纵研究结果表明，甘氨酸分子是被针尖“推着”移动的，它在Cu(111)面有固定的吸附位，并且移动时其吸附状态可以不变.研究结果表明，甘氨酸适合做室温下小分子的可控操纵研究，并且也说明室温下小分子的可控操纵是可能的. 关键词：     

谈谈“和圆有关的比例线段”的学习

圆是初中数学的重要内容之一 ,是全国各省市中招考试必考的重要知识 ,尤其是“和圆有关的比例线段”的相关内容是中考试卷中经常出现的题目 .和圆有关的比例线段 ,知识点多 ,综合性强 ,题型广泛 ,方法灵活 .因此 ,同学们在学习这节内容时 ,要给予高度重视 .以下谈谈“和圆有关的比例线段”的学习需注意的几个要点 ,并举例说明 ,供读者阅读参考 .一、熟练掌握相关定理及推论1.相交弦定理 :圆内的两条相交弦 ,被交点分成的两条线段长的积相等 .如图 1,弦AB ,CD相交于P点 ,则有PA·PB =PC·PD .2 .相交弦定理的推论 :如果弦与直径垂直相…     

含橡胶的摩阻材料之摩擦机理浅谈

作者从含橡胶的摩阻材料的摩擦状况出发,对其摩擦机理提出了一个新的观点——气穴排空说,並进行了简单的实验论证。认为弹性材料在与刚性对偶在负荷下接触时,由于材料的弹性变形使接触面间空隙中的气体被排出或部分排出而形成真空状态,因此弹性体上除了受外加负荷之外,还增加了部分大气压力,因而摩擦力也随之增大。摩擦力增大的部分为: △F=f·△P 式中f为材料间的摩擦系数,△P为正压力增大部分,其值可表示为: ΔP=A_(app)·P_(ntm)· 此处A_(app)为表现接触面积;P_(ntm)为大气压强;η为排空率(％)。η受材料弹性模量,负荷及对偶表面状态等的影响。