侧面外延T颗粒微晶的结构与性能研究

在定向剂作用下以ＡｇＢｒＩＴ－颗粒为主晶，用ＡｇＢｒ对主晶进行外延生长，制备了ＡｇＢｒＩ侧面外延Ｔ－颗粒复合晶体，并对其几何性质，晶体的活性部位及光电性质进行了研究，发现外延部不稳定是显影的活性部位，外延的结果导致乳剂微晶的离子电导降低，外延晶体的光电子衰减符合一级反应历程，光电子寿命较外延前增加，并对这些现象的产生进行了探讨。     

免疫纳米金催化氯金酸与羟胺反应-共振散射光谱检测痕量青霉素G

小粒径的金和免疫金纳米粒子对氯金酸-盐酸羟胺这一反应具有较强的催化作用,其产物在580 nm处有一共振散射峰。以半抗原青霉素G为模型,用粒径为9 nm的金纳米微粒标记羊抗兔青霉素噻唑蛋白抗体制备了青霉素G的免疫纳米金共振散射光谱探针。在pH5.4的柠檬酸-磷酸氢二钠缓冲溶液中,青霉素G与金标兔抗青霉素发生特异性结合生成胶体金免疫复合物,离心分离。取适量金标羊抗兔青霉素的上层清液做催化剂,在pH3.36盐酸-柠檬酸钠缓冲溶液－40μg/mL氯金酸－21.6μg/mL的盐酸羟胺条件下,进行催化反应后金纳米粒径增大,在580nm共振散射强度处增强。随着青霉素G浓度c增大,上层清液中免疫金纳米微粒数量降低,I580nm值降低。其降低值△I580nm与c在0.15-225 ng/mL范围内成线性关系,其回归方程为△I580nm=0.28c+5.16,检出限为0. 05 ng/mL。该法用于牛奶中青霉素G的检测,结果较好。     

小孔径微通道板

从空间分辨能力、时间分辨能力和动态范围方面介绍了通道小型化发展的趋势,根据微通道板性能和结构的关系分析了这种小型化带来的微通道板变形、破裂、结构错位等生产难题和解决方法.分析表明:美国MCP的孔径发展依次是12 μm,10 μm,9 μm,8 μm,6 μm和5 μm,先进国家微通道板孔径已经能够做到4 μm～5 μm,夜视仪的分辨能力已超过100 lp/mm;通道直径降至5 μm、4 μm甚至更低,通过改进材料成分和拉丝、排丝、压屏、酸溶工艺及设备可以实现5 μm以下小通道微通道板的制造.     

KB镜束流截面测量系统研制

为了对衍射极限储存环的束流横向截面尺寸及发射度进行测量,设计了一套Kirkpatrick-Baez(KB)反射镜聚焦成像系统,并在上海光源(SSRF)储存环进行预制研究。该系统主体由两面垂直放置的KB反射镜组成,分别在水平及垂直方向对弯转磁铁光源点进行成像,系统工作在硬X射线波段,聚焦光斑被闪烁体X射线相机采集。对影响系统成像质量的像差和点扩散函数进行了计算。目前,实现了对束流的实时成像,可精确测量束流横向截面尺寸为75.9 μm(水平方向)和20.2 μm(垂直方向),系统稳定性(RMS)小于0.1 μm。     

基于BEPCⅡ数据的数字束流位置测量器算法离线分析

介绍了数字BPM算法的原理和架构,并基于高能物理研究所自制的数字BPM硬件平台获取了BEPC Ⅱ束流流强为600 mA条件下的ADC采样数据。然后在MATLAB环境中设计了NCO模块、CIC滤波器、FIR滤波器以及BEPC Ⅱ束流逐圈位置数据计算模块,并给出了各模块的具体设计参数。最后通过实际ADC数据对各算法模块进行检验,给出了各模块处理后的频域分析结果,并得到了实际束流下水平方向和垂直方向上的逐圈位置分辨率分别为4.55 μm和4.28 μm,为FPGA在线算法的实现与优化提供了可靠的理论依据。     

镉标准电池的试制报告

在进行物理化学实验及器械分析的实验时,想要精密测定某一电动势,即需用标准电池来比较测出。故标准电池为标准电动势的唯一来源。在制造精密的电工仪表时,往往也需用它来检验校正电动势,所以标准电池的用途很广。过去,曾以克拉克(Clark)电池作标准电池,但近数十年来,各国     

用大规模铁乳胶室研究超高能γ族事例

用大规模铁乳胶室观测到ΣE_γ=7631TeV的大γ族事例,介绍了铁乳胶室观测大族的优点和族的各项特征,并与模拟计算结果作了比较.     

非对称形式的两核心事例

介绍了在高山乳胶室中观测到的能量: ΣE_γ=1000TeV的两核心事例. 粒子在两核心中分布的情况不同, 是否预示着存在两种不同形式的集团呢?对此进行了讨论.     

一道综合性力学题

“美国物理杂志”1982年11期刊登了B. C.Hall编的一道期末考试题,该题综合性很强,基本上包括了普通物理质点动力学和刚体动力学的主要内容,对培养学生分析问题和熟练掌握力学知识有一定参考价值.根据我国实际情况,作了少量修改,现整理如下: 从一个半径R=2 m、质量为 100 kg的均质圆柱体上截下一个质量为 1kg的圆柱帽,将该圆柱帽放在一个摩擦系数为0.1的圆形槽内,圆形槽的高度h=10m,水平距离l=3.64 m.如果使圆柱帽以初速 5 m/s沿圆槽下滑,当它滑至圆槽底部B时,再经过一无摩擦的水平引板滑至截顶圆柱的顶部,最后结合成一个完整的圆柱体而在…