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1.
ICP—MS测定高纯钪,钇,钬,铥和镥氧化物中痕量稀土杂质研究   总被引:15,自引:1,他引:15  
研究了用电感合等离子体质谱测定高纯钪、钇、钬、铥和镥氧化物中痕量稀土杂质的方法,用内标法有效地校正了基体抑制效应,改善了精密度。与ICP-AES分析相比,本法具有灵敏度高、流程简单快速、耗样少等特点,测定下限可降低1-2个数量组。方法可用于99.999%的高纯稀土的分析。  相似文献   
2.
建立了一种电感耦合等离子体质谱法测定银菊珍珠胶囊中稀土元素的方法。利用该方法分析了国家一级灌木枝叶标准物质(GBW 07603)和国际柑橘叶标准物质(NIST1572)中的稀土元素,结果与标准值一致。该方法已被用于分析银菊珍珠肢囊样品中的稀土元素。  相似文献   
3.
细电子束Cockcroft–Walton加速器的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
尹明  孙晓军 《中国物理 C》2004,28(3):304-307
细电子束由加速器通过电子枪发射电子,经电子透镜及偏转射向目标靶.以SDS-3电子束曝光机为基础,完成了电子束Cockcroft-Walton加速器噪声抑制的最优状态实验.系统为加速器调整电路提供一个正比于输入电压的电流.补偿放大器是由一个主放大器和一个辅助放大器组成,辅助放大器消除了主放大器自身的失调漂移.文中介绍了复合调整式Cockcroft-Walton加速器的总体设计方案,给出了实现加速器高稳定度的关键技术措施.从加速器总输出中滤去噪声信号,获得稳定的输出电压,并使电子束曝光机刻蚀出的图形质量和线条分辨率都得到了提高  相似文献   
4.
5.
符廷发  尹明 《分析化学》1994,22(3):311-314
描述了ICP-MS法直接测定高纯氧化钇中痕量稀土杂质的研究。选择了工作参数,考察了各种干扰,采用铯为内标,直接测定了稀土杂质总量小于2μg/g的高纯氧化钇样品,方法简便快速。  相似文献   
6.
现代数字电路因规模庞大、复杂性高而导致测试困难,系统维护成本较高。内建自测试(Built In Self Test, BIST)是针对该问题的一种有效的可测性设计技术。由于内建自测试是通过在电路内部设计测试生成与分析模块,因此需要消耗额外的硬件资源。通过对测试生成与特征分析模块的结构分析,提出基于硬件结构复用的可重构逻辑块观测器,并基于该模块设计了可重构的内建自测试结构。仿真结果表明,该测试结构通过结构的时分复用,能有效的降低硬件资源消耗,测试逻辑正确有效,测试时间较短。  相似文献   
7.
电感耦合等离子体质谱法测定高纯氧化镨中稀土杂质   总被引:7,自引:0,他引:7  
尹明  李冰  曹心德  张岩 《分析化学》1999,27(3):304-308
深入考察了ICP-MS法测定高纯氧化镨时基体对稀土杂质测定的影响,研究了P507萃淋树脂分离大量基体Pr6O11的实验条件,建立了采用内标补偿直接测定大部分稀土杂质和经P507萃淋树脂分离基体后测定被干扰离子Tb相结合测定高纯Pr6O11中稀土杂质的ICP-MS分析方法。  相似文献   
8.
通过合成镧叶绿素a(La-Chla),研究稀土在叶绿素中的赋存状态。La-Chla的紫外可见光谱(UV-vis)、红外光谱(FT-IR)证实,镧离子已配位到叶绿素a的卟啉环上。其磁圆二色谱(MCD)在Soret带具有双层夹心卟啉结构的特征结构。通过扩展X射线吸收精细结构谱(EXAFS),采用双层夹心结构模型拟合,确定La周围的近邻结构,取得满意结果。表明合成镧叶绿素a具有双层夹心结构。La夹于两个卟啉环之间,与上下卟啉环上共八个N原子配位,La-N平均键长0.261nm。  相似文献   
9.
刘倩倩  王红霞  尹明 《应用声学》2014,22(11):2454-3456
针对故障预测与健康管理(PHM)的复杂性,对融合技术进行了深入的分析和研究,提出了一种基于神经网络的特征融合方法,融合结果最大限度的给出决策分析所需要的特征信息,提高了故障诊断的可靠性;在预测方法上,提出了一种基于故障预兆监控与推理和失效物理(PoF)模型方法相融合的预测方法,充分利用了每种预测方法的优势,故障预兆监控与推理的方法能够提供故障诊断功能,而失效物理(PoF)模型的方法则有助于确定故障根源,融合预测方法能更加及时准确的预测故障;融合技术丰富了PHM的理论体系,提高了其实用价值。  相似文献   
10.
电子束曝光机偏转系统及可动物镜分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
尹明  张玉林 《光学学报》2004,24(3):23-426
电子束大扫描场偏转系统设计中 ,像差的确定是一个必须解决的实际问题。以SDS 3电子束曝光机的磁复合偏转系统为基础 ,以双通道扫描原理进行扫描 ,分析了像差与电子束主轨迹的关系。给出了可动物镜的条件 ,并利用这一条件分析电子束最佳轨迹的结构和方法。并使用计算机辅助设计研究电子束曝光机聚焦偏转系统的结构。由该电子束曝光机试验结果表明 ,复合系统结构简单紧凑 ,像差小而可以不用动态校正。采用矢量描写电子轨迹 ,以积分式表示像差。以 0 .0 0 5rad半张角 ,5× 10 -5的高压纹波 ,5 0mm的像距 ,10mm× 10mm扫描场的边脚处 ,使动态校正前的总像差为 0 .0 3μm。  相似文献   
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