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为缩短衰减倍率调整的时间,提高激光参数测试的效率,提出激光光强快速衰减算法。衰减倍率精确调整量由当前衰减倍率和采集到的光斑光强真实的最大灰度值共同决定。当因光电接收器件(CCD)饱和造成采集光斑图像失真时,即衰减倍率过小时,由于激光光斑的光强通常满足高斯分布,通过对光斑图像进行处理,去除饱和部分光强信息,对剩余部分光强信息利用最小二乘法进行三维高斯拟合,还原出激光光斑光强的真实分布并获得最大灰度值;当衰减倍率过大时,根据采集光斑图像可以直接获得当前最大灰度值,最后通过计算获得最佳的衰减倍率调整值,实现了激光光强快速准确的调整。算法的有效性通过步进电机带动的双轮可变衰减器及CCD配合得到验证。 相似文献
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掺铒光纤吸收增加光学双稳态 总被引:1,自引:1,他引:1
报道了的掺铒光纤中观测到的吸收增加非线性和无腔光学双稳运转。双稳是低功率的(亚毫瓦级)。分析了掺铒光纤吸收增加双稳态产生的机理 相似文献
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为了快速获取大田玉米作物长势信息, 基于多光谱图像开展了大田玉米叶绿素指标的非破坏性诊断研究。应用自主开发的2-CCD多光谱图像感知系统, 在田间采集玉米冠层可见光[Blue(B), Green(G), Red(R);400~700 nm]和近红外(Near-infrared: NIR, 760~1 000 nm)图像, 并使用SPAD同步测量样本叶绿素指标。采集后图像经自适应平滑滤波处理后, 进行图像玉米植株提取。为了选择最优算法实现玉米植株与杂草、土壤背景的分割, 首先比较了最大类间方差(OTSU)分割算法和局部阈值处理分割算法, 选取了基于局部统计的可变阈值处理方法对玉米NIR图像进行初步分割, 进而采用区域标记算法进行精细分割, 分割准确率达95.59%。将分割结果应用于玉米植株可见光图像R, G, B各通道, 从而实现了玉米植株多光谱图像中可见光图像的整体分割。基于分割后R, G, B和NIR四个通道的玉米冠层图像, 提取了各通道图像灰度均值(ANIR, ARed, AGreen和ABlue)并计算了归一化植被指数(NDVI)、比值植被指数(RVI)和绿色归一化植被指数(NDGI)作为光谱特征参数, 建立了玉米冠层叶绿素指标诊断的偏最小二乘法回归模型。结果表明, 建模R2达0.596 0, 预测R2达0.568 5, 该方法通过玉米多光谱图像特征参数评估叶片叶绿素含量, 可为大田玉米长势监测提供支持。 相似文献
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Tunable spectral shift of high-order harmonic generation in atoms using a sinusoidally phase-modulated pulse 下载免费PDF全文
High-order harmonic generation (HHG) from an atom illuminated by a sinusoidally phase-modulated pulse is investigated by solving the time-dependent Schrödinger equation. The spectral shift that occurs in atomic HHG can be achieved easily using our laser pulse. It is shown that the photon energy of the generated harmonics is controllable within the range of 1 eV. The shift of the frequency peak position is rooted in the asymmetry of the rising and falling parts of the laser pulse. We also show that by varying the phase parameters in the frequency domain of the laser one can adjust and control the shift in atomic harmonic spectra. 相似文献
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Degradation mechanisms for a-InGaZnO thin-film transistors functioning under simultaneous DC gate and drain biases 下载免费PDF全文
Tianyuan Song 《中国物理 B》2022,31(8):88101-088101
Degradation of a-InGaZnO thin-film transistors working under simultaneous DC gate and drain bias stress is investigated, and the corresponding degradation mechanism is proposed and verified. The maximum degradation occurs under the bias stress condition that makes the electric field and electron concentration relatively high at the same time. Trapping of hot electrons in the etching-stop layer under the extended drain electrode is proven to be the underlying mechanism. The observed degradation phenomena, including distortion in the transfer curve on a logarithmic scale and two-slope dependence on gate bias on a linear scale, current crowding in the output curve, and smaller degradation in transfer curves measured under large drain bias, can all be well explained with the proposed degradation mechanism. 相似文献