2-(2,5-二羟苯基)四苯基卟啉及其金属配合物的合成与表征

对苯二酚与 2 硝基 5 ,10 ,15 ,2 0 四苯基卟啉 1及其铜 (Ⅱ ) 2、镍 (Ⅱ ) 3、锌 (Ⅱ ) 4等金属配合物直接加热反应 ,分别制得 2 (2 ,5 二羟苯基 )四苯基卟啉 1′(81% )及相应金属配合物 2′(71% ) ,3′(6 1% ) ,4′(40 % )。它们的结构由IR ,MS ,UV及1 HNMR ,2D NMR等确定。发现对苯二酚通过碳 碳键与卟啉的吡咯环直接相连 ,氢醌与卟啉环趋于共平面 ,其中一个羟基位于卟啉环的去屏蔽区 ,H原子的核磁位移向低场移动 (δ =7 5 2 ) ,另一个则处于中位苯环的屏蔽区 ,H原子的核磁位移为δ =4 18;氢醌环上的质子也表现出不同的核磁位移 ,其中 6位上H的位移值为δ =4 93,明显向高场位移。     

A study of time over threshold (TOT) technique for plastic scintillator counter

A new charge measurement method, time over threshold (TOT), has been used in some gas detectors lately. Here TOT is studied for TOF system, made of plastic scintillator counter, which can simplify the electronics of the system. The signal characteristics are measured and analyzed with a high quality oscilloscope, including noise, pedestal, signal amplitude, total charge, rise time and the correlation between them. The TOT and charge are related and can be fitted by some empirical formula. The charge measurement resolution by TOT is given and this will help the design of TOF electronics.     

Multiple Partial Attacks on Complex Networks

We numerically investigate the effect of four kinds of partial attacks of multiple targets on the Barabási Albert （BA） scale-free network and the Erdos-Rényi （ER） random network. Comparing with the effect of single target complete knockout we find that partial attacks of multiple targets may produce an effect higher than the complete knockout of a single target on both BA scale-free network and ER random network. We also find that the BA scale-free network seems to be more susceptible to multi-target partial attacks than the ER random network.     

Improvement of photorefractive properties in Hf:Fe:LiNbO3 crystals with various [Li]/[Nb] ratios

Photorefractive properties of Hf:Fe:LiNbO3 crystals with various [Li]/[Nb] ratios have been investigated at 488 nm wavelength based on the two-wave coupling experiment. High diffraction efficiency and large recording sensitivity are observed and explained. The decrease in Li vacancies is suggested to be the main contributor to the increase in the photoconductivity and subsequently to the induction of the improvement of recording sensitivity. The saturation diffraction efficiency is measured up to 80.2%, and simultaneously the recording sensitivity of 0.91 cm/J is achieved to in the Hf:Fe:LiNbO3 crystal grown from the melt with the [Li]/[Nb] ratio of 1.20, which is significantly enhanced as compared with those of the Hf:Fe:LiNbO3 crystal with the [Li]/[Nb] ratio of 0.94 in melt under the same experimental conditions. Experimental results definitely show that increasing the [Li]/[Nb] ratio in crystal is an effective method for Hf:Fe:LiNbO3 crystal to improve its photorefractive properties.     

大型强子对撞机上的CMS探测器

CMS探测器是大型强子对撞机(LHC)上的4个实验之一,它的设计思想是在质心能量为14TeV及积分亮度为1034cm-2s-1的条件下对质子-质子对撞进行研究.它的特点是非常紧凑,其μ子室几乎覆盖了4π立体角.另外,CMS探测器还有可提供超强磁场的超导磁铁和由超导磁铁环绕的径迹室以及电磁量能器和强子量能器.CMS探测器对于末态为电子、光子、特别是μ子的物理过程有很好的测量精度.     

基于增益光栅的注入锁定单频自调Q激光器

空间光束在增益介质中相互干涉,产生空间烧孔现象,形成增益光栅。通过四波混频作用形成的增益光栅具有自适应性、自调Q性和空间滤波能力,能够得到全息的共轭输出。但其都起始于腔内的自发辐射,自发辐射容易受到抽运的影响,而且带宽很宽,导致输出的频率会有一定的波动。实验可知,在基于增益光栅的自启动单频调Q激光器中,采用外部注入单频窄线宽的种子源引导形成增益光栅,可获得锁定在种子光频谱范围内的稳定的单频调Q脉冲输出。对比实验发现,在相同的观察时间内,注入种子源输出的频谱稳定程度远高于自启动输出的频谱稳定程度。这一现象也证明了通过外部种子注入形成光栅,利用增益光栅的自适应性能够得到稳频输出。     

电化学联用技术研究微生物的胞外电子传递机制

胞外电子传递（EET）是指氧化还原反应所产生的电子在微生物细胞内和细胞外的电子受体/电子供体之间互相转移的过程,这一过程伴随着能量和物质的转化。阐明EET机制是提高微生物能量和物质转化效率的基础,为元素的生物地球化学循环、金属防腐以及生物电化学系统的应用等提供理论支撑。电化学技术作为研究电极/溶液界面电子转移的简便、有效方法,在研究微生物的直接电子传递和间接电子传递机制中发挥了重要的作用,也促进了EET机制的研究从宏观层面到微观层面不断深入。本文综述了研究微生物EET机制所涉及的电化学联用技术（包括微电极、扫描电化学显微镜、电化学联用光学显微镜和光谱电化学等）;详细介绍了这些电化学联用技术的功能和优势;重点阐述了这些电化学联用技术如何推动着EET机制的研究,从宏观的生物膜层面到微观的单个微生物细胞、蛋白和分子层面不断深入;展望了新的电化学联用技术在EET研究领域的应用前景。     

应用 Ma t h ema t i c a软件优化高中物理教学研究

Ma t h e ma t i c a软件具有数值处理、 符号操作等多方面的功能, 将之应用于物理教学能够直观展示物理 情境, 提升物理教学的可视化效果, 进而增强学生学习积极性, 提高教学效率和效果. 以初高中物理教学中较为抽象 的电学与磁场的相关知识点为例, 探讨了 Ma t h e ma t i c a软件对提高物理教学效果的重要价值及具体的运用途径     

可倾瓦径向滑动轴承支承的转子系统瞬态响应计算

研究了可倾瓦径向滑动轴承支承的转子系统瞬态响应的计算方法,提出了可倾瓦径向滑动轴承非线性滑膜力计算的数据库方法,将可倾瓦与轴颈的结构和运动参数归结到三个参数中,建立了起可倾瓦的非线性油膜力数据库,通过精确插值到每一运动参数组合下轴承提代的油力和轴瓦上所受的油膜力矩。     

高端电子制造中电镀铜添加剂研究进展

电镀铜填充微孔技术是集成电路高端电子制造中电子互连材料制程中的主要技术工艺,铜互连材料的填充质量直接影响集成电路的可靠性和稳定性.电镀添加剂是实现电镀铜填微孔及影响填充质量和行为的关键因素.针对当前集成电路发展对高密度电子互连材料制造的高要求,本文概括了近些年国内外集成电路上电镀铜添加剂的研究现状,着重阐述加速剂、抑制剂和整平剂分子结构与表界面作用机制以及添加剂协同作用下实现超填充的填充机制,并针对现有研究现状提出未来需要深入探讨的科学问题和研究方向,为电子电镀铜添加剂的开发提供参考.