酞菁铜/金属薄膜界面电位与光二次谐波特性分析

采用Kalvin探针和光二次谐波 (SecondHarmonicGeneration ,SHG)方法研究了铜酞菁衍生物 (Coppertetra tert butylPhthalocyanine ,CuttbPc )LB(Langmuir Blodgentt)膜与金属 (Al、Au)界面的空间电荷现象与非线性光学效应 .检测到空间电荷感应电场 (SpaceChargeInducedElectricField ,SCIEF)形成的表面电位与金属功函数有关 ,并随膜厚变化趋于饱和值 .尽管酞菁分子为中心对称体系 ,但仍有SHG效应 ,并观察到CuttbPc/Al样品在 12 6 0nm附近有异常增强的SH信号 ,而CuttbPc/Au样品未见该峰 .根据样品结构的物理模型 ,运用电磁场理论分析了界面电介质的非线性极化特性和光学效应产生机制 ,初步认为CuttbPc/Al的SH增强峰源于SCIEF形成的较强表面电位 ,说明SH信号的产生与界面静电现象有密切关系 .     

非晶态Fe—W合金镀层的表面改性

将Ｆｅ－Ｗ非晶态镀层在铬酸盐钝化液中进行化学钝化与电化学钝化，使之形成含多种钝化膜。阳极极化曲线说明，反镀层的孔蚀电位向正向移动了１．６８Ｆ；Ｆｅ－Ｗ非晶镀层在氯化钠溶液中浸泡近１ｈ表面发生严重腐蚀，而经钝化处理的镀层浸泡１个月，表面无变化，仍具有金属光泽。     

银纳米线的TEM表征

通过交流电沉积的方法,以多孔铝阳极氧化膜（Al2O3/Al）为模板,制备金属银纳米线.透射电子显微镜（TEM）分析表明, 银纳米线长度平均约为5 μm, 直径25 nm；银纳米线在多孔Al2O3/Al孔内互相平行,显示凸凹相间的条纹结构.选区电子衍射（SAED）证实,银纳米线具有面心立方（FCC）的多晶结构,探讨了银纳米线凸凹相间条纹结构的形成机理.     

恒电位脉冲法制备聚苯胺薄膜及其表征

采用恒电位脉冲法制备聚苯胺薄膜, 利用扫描电子显微镜(SEM)、红外光谱(IR)、X射线衍射(XRD)及荧光光谱对所制备的薄膜进行比较与表征. 分别考察了循环周期、占空比及脉冲时间对薄膜形貌的影响. SEM形貌分析结果表明, 随着占空比的减小, 聚苯胺薄膜表面颗粒细化; 随循环周期的增加, 聚苯胺薄膜由片层结构转变为纵向生长的颗粒状结构. 荧光光谱分析结果表明, 聚苯胺薄膜具有光致发光性能, 发射峰位置约520 nm, 且发光强度随占空比的增大而增强. 电化学性能测试结果表明, 恒电位脉冲电位法制备的聚苯胺薄膜具有良好的电容特性.     

[NiFe/Cu/Co/Cu]n纳米多层线的电化学制备及表征

采用电沉积法,在阳极氧化铝(AAO)模板中制备了[NiFe/Cu/Co/Cu]_n多层纳米线.利用扫描电子显微镜(SEM)及透射电子显微镜(TEM)对纳米多层线的表面形貌及结构进行了表征,纳米线阵列高度有序、直径均一、层状结构清晰,NiFe层厚度约40 nm,Cu层厚度约60 nm,Co层厚度约15 nm,各子层厚度可控.利用X射线能谱分析仪(EDS)对纳米多层线NiFe层的成分进行了测试,Ni,Fe的原子比为4:1.利用X射线衍射仪(XRD)对[NiFe/Cu/Co/Cu]_n纳米多层膜和多层线结构进行了测试,多层膜为面心立方(fcc)结构,多层线NiFe层为面心立方(fcc)结构,Cu层为六方密排hcp(100),Co层为面心立方(fcc)结构.与组成、结构完全相同的多层膜相比,[NiFe/Cu/Co/Cu]_n多层纳米线具有更优越的巨磁电阻性能.     

电沉积Fe-W-ZrO2纳米复合镀层的结构与腐蚀行为

采用复合电沉积工艺制备了Fe-W-ZrO₂纳米复合镀层. 分别用扫描电子显微镜(SEM)、扫描电子显微镜附带能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)、恒电位仪等技术较系统地研究了Fe-W-ZrO₂纳米复合镀层的表面形貌、成分、结构、硬度和耐蚀性. 结果表明, 复合镀层的质量组成为Fe 38.3%(w)、W52.7%(w)、ZrO₂ 9.0%(w) 时, 在ZrO₂纳米粒子的弥散强化作用下, Fe-W非晶合金镀层的裂纹状况得到明显改善, 而且复合镀层成分分布均匀, 组织致密, 结构呈现明显的非晶态特征；复合镀层比Fe-W合金有更高的显微硬度；30 ℃下, Fe-W-ZrO₂纳米复合镀层在3.5%(w)NaCl和0.5 mol·L^-1 H₂SO₄溶液中的耐蚀性较Fe-W非晶合金镀层明显提高.     

半导体硅上电沉积Cu/Co层状薄膜

由磁性层和非磁性层组成的人工调制层状结构多层膜,其物性和磁性都表现出与其它结构的多层膜显著不同的特点,如巨磁阻效应［’,‘l、易磁性方向的改变等”］．其性能的研究不但在磁性理论上具有重大意义,而且有望应用于高性能的磁阻敏感设备及提高磁记录密度等．因而近年来有关这方面的研究越来越引起人们的重视．目前,磁性多层膜的制备主要采用气相沉积、磁控溅射、分子束外延等真空技术．由于电沉积技术具有设备简单、操作方便等特点而成为制备多层膜的颇具活力的工艺．CO／Cll多层膜在C。层厚度较薄时具有较高室温巨磁阻（GMR）…     

锌电沉积与丙烯酸盐聚合的复合过程

锌电沉积与丙烯酸盐聚合的复合过程姚素薇廖川平＊郭鹤桐（天津大学应用化学系天津３０００７２）关键词电沉积，电聚合，复合镀层，聚合物膜１９９６－０６－０７收稿，１９９６－０８－０９修回国家自然科学基金资助课题让锌的电沉积与丙烯酸盐的电化学引发自由基聚合［...     

电沉积复合丝及其巨磁阻抗效应的研究

采用脉冲电沉积工艺在Cu丝上沉积Fe Ni合金镀层 ,成功地制备出巨磁阻抗效应 (GMI)复合丝材料 ,研究了复合丝的磁性能和巨磁阻抗效应 .复合丝外壳磁性镀层软磁性越好 ,巨磁阻抗效应越明显 ,制备的复合丝最高巨磁阻抗效应为 2 7.19% .研究了复合丝阻抗与巨磁阻抗比值GMI随外加磁场的变化 ,其变化曲线的形状受复合丝磁各向异性场的影响 .此外 ,还研究了复合丝巨磁阻抗效应与驱动交变电流频率的关系 ,复合丝Fe17Ni83 样品巨磁阻抗效应的临界频率为 30kHz(GMI为 9.95 % ) ,特征频率为 30 0kHz(GMI为 2 7.19% ) ,截止频率为 10MHz (GMI为 10 .36 % ) .如此低的临界频率和特征频率及较宽的频率段对于实际应用非常有利 .     

Ni-W纳米结构梯度镀层的制备、表征及热应变特性

采用电沉积方法并调节镀液温度、电流密度等工艺参数制备Ni-W纳米结构梯度镀层.SEM能谱测试及X射线衍射测试表明,沿镀层生长方向,钨含量逐渐增加,晶粒尺寸由10.9 nm递减到1.5 nm,晶格畸变度逐渐增大,镀层由纳米晶逐步过渡到非晶结构.结构呈连续梯度分布.热应变特性研究表明,沿镀层厚度方向,热应变变化平缓,有效地缓解了界面处材料热失配,从而缓和了材料的热应力.