大粒径单分散金纳米粒子的水相合成

近年来,随着纳米科技的兴起,纳米尺度的金颗粒以其独特的光学、电学性质［１-３］在许多领域表现出潜在的应用价值,引起了人们浓厚的研究兴趣［４-７］．迄今为止,已有多种制备金纳米粒子的方法见诸报导．制备简便、单分散性好、粒径可控,一直是各种方法追求的目标．...     

金纳米粒子组装体系粒子密度与SERS强度的关系

利用纳米粒子组装技术制备出金基底／巯基苯胺自组装膜偶联层／金纳米粒子的“三明治”结构。实验结果显示,该结构对偶联层分子的喇曼光谱显示出很好的增强效应,增强因子可达１０＾５;在表面粒子密度（粒子覆盖度）较低时,表面增强喇曼散射（ＳＥＲＳ）强度与表面粒子密度近似呈线性关系;随着表面粒子密度的增加,这种线性关系出现负偏差并在表面粒子密度较高区域出现一个平台;在６０￣１１０ｎｍ范围内大粒径金粒子对喇曼光谱     

纳米化学

1　聚焦新层次———化学的机遇与挑战　　纳米科技的发展给人们展现了神奇的纳米新世界 ,同时也使化学面临诸多新的挑战。人们已经发现 ,当物质的尺寸逐渐变小而进入纳米领域时 ,会表现出许多不同于宏观“大块”物质的神奇性质 :陶瓷可以摔不碎 ,金属可以不导电 ,等等。这些神奇的特性给新材料的制备和新器件的开发提供了广阔的空间。那么 ,如何制备这些纳米尺度的物质呢 ?化学家们对此有着责无旁贷的义务。　　从化学的角度来看 ,纳米材料是原子数目在 1 0 3到 1 0 9之间的原子或分子的某种聚集体。化学家们对小分子的合成已经积累了相当…     

利用扫描近场光学显微镜的偏振衬度对各向异性微晶的观察

利用扫描近场光学显微镜的偏振衬度对罗丹明6G的微晶进行观察,结果表明,用圆偏振入射光进行观察时,光学图像与表面形貌图有很好的对应关系。而用线偏振入射光进行观察时,随着入射偏振态的不同,成像差别较大:当偏振态方向沿着具有各向异性吸收的晶粒主吸收方向时,在垂直于主吸收方向上有很高的衬度,但图像分辨率较低;而入射偏振态垂直于主吸收方向时,衬度降低,分辨率提高;在与主吸收方向成45°角入射时,可以得到分辨率和衬度都比较好的图像。     

化学力显微镜对ω-巯基正十一胺自组装单分子膜的力滴定研究

采用化学力显微术（ＣＦＭ）研究了一种长链氨基自组装单分子膜的力滴定性质,考察了表面基团性质不同的力探针对力滴定的影响,滴定了金包覆的Ｓｉ３Ｎ经－ＯＨ和－ＮＨ２基功能化的金样品之间的粘滞力,得到了作为淀粉 ＰＨ值函数的粘滞力曲线（力滴定曲线）,结果表明,－ＮＨ２和－ＯＨ基功能化的表面ｐＫ１／２分别为８．４和９．０。     

超洁净石墨烯薄膜的制备方法

化学气相沉积(Chemical vapor deposition，CVD)法制备的石墨烯薄膜具有质量高、可控性好、可放大等优点，近年来受到了学术界和工业界的广泛关注。然而，近期研究结果表明，在高温CVD生长石墨烯的过程中，伴随着许多副反应，这些副反应会导致石墨烯薄膜表面沉积大量的无定形碳污染物，造成石墨烯薄膜的“本征污染”现象。同时，这些污染物的存在会导致转移后的石墨烯薄膜表面更脏，对石墨烯材料和器件的性能带来严重影响。这也是CVD石墨烯薄膜的性能一直无法媲美机械剥离石墨烯的重要原因之一。事实上，超洁净生长方法制备得到的超洁净石墨烯薄膜在诸多指标上都给出了目前文献报道的最好结果，代表着石墨烯薄膜材料制备技术的发展前沿。本文首先对CVD法制备石墨烯过程中表面污染物的形成机理进行分析，然后综述了超洁净石墨烯薄膜的制备方法，并列举了超洁净石墨烯薄膜的优异性质。最后，总结并展望了超洁净石墨烯未来可能的发展方向和规模化制备面临的机遇与挑战。     

Moire patterns and step edges on few-layer graohene grown on nickel films

Few-layer graphene grown on Ni thin films has been studied by scanning tunneling microscopy. In most areas on the surfaces, moir6 patterns resulted from rotational stacking faults were observed. At a bias lower than 200 mV, only one sublattice shows up in regions without moir6 patterns while both sublattices are seen in regions with moir6 pattens. This phenomenon can be used to identify AB stacked regions. The scattering characteristics at various types of step edges are different from those of monolayer graphene edges, either armchair or zigzag.     

石墨烯-六方氮化硼面内异质结构的扫描隧道显微学研究

石墨烯-六方氮化硼面内异质结构因可调控石墨烯的能带结构而受到广泛关注. 本文介绍了在超高真空体系内, 利用两步生长法在两类对石墨烯分别有强和弱电子掺杂的基底, 即Rh(111)和Ir(111)上制备石墨烯-六方氮化硼单原子层异质结构. 通过扫描隧道显微镜及扫描隧道谱对这两种材料的形貌和电子结构进行研究发现: 石墨烯和六方氮化硼倾向于拼接生长形成单层的异质结构, 而非形成各自分立的畴区; 在拼接边界处, 石墨烯和六方氮化硼原子结构连续无缺陷; 拼接边界多为锯齿形型, 该实验结果与密度泛函理论计算结果相符合; 拼接界面处的石墨烯和六方氮化硼分别具有各自本征的电子结构, 六方氮化硼对石墨烯未产生电子掺杂效应.     

关于关注我国化学期刊并大力提高其影响力的倡议书

<正>化学界的同行们、老师们、同学们,您们好!自改革开放以来,经过几代人的共同奋斗,我国化学研究已从十分落后的境地崛起,成为化学大国。这是我们化学界同仁们引以自豪的巨变。其标志之一是,我国学者在SCI化学期刊上发表的论文数从2009年起已超过美国跃居世界首位,在论文被引用数和高被引论文数等方面也已跃居世界第二位。然而,我们也注意到,在此期间,我国自己的SCI化学期刊的国际影响力仍很有限,影响因子(Impact factor)多年来进步很小。据2012年的数据,SCI收录的我国十余种化学期刊中,仅Sci Chin Chem和Chin Chem Let两     

石墨烯的光化学修饰方法

石墨烯是由sp2杂化碳原子组成的具有蜂窝状结构的二维原子晶体.石墨烯的共价化学修饰是石墨烯研究领域的一个新的热点,也是石墨烯材料的表面改性和能带调控、以及合成新型二维石墨烯衍生物的重要途径.完整的二维蜂窝结构和离域大π键使得石墨烯的化学性质非常稳定,难以通过常规的化学反应获得高效的表面修饰,这是石墨烯共价化学的主要挑战.近年来,我们发展了一系列基于光化学原理的石墨烯共价修饰方法,利用光化学过程产生的活性自由基实现了石墨烯的高效共价加成和氧化反应,为石墨烯的光化学能带工程奠定了理论和实验基础.本文将以这些研究成果为主线,系统地阐述石墨烯的光化学修饰方法及其二维反应特性,并对该领域的未来发展趋势和所面临的挑战进行简要的展望.