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研制了一台具有二级透镜的聚焦离子束(FIB)装置。它利用液态金属离子源:镓和金硅合金。离子束束斑在0.3μm左右,最小束斑达0.21μm。能稳定、长时间地运行。文中论述了该系统的总体结构,对聚焦离子束系统的核心部件离子光学系统及辅助系统的参数选择、以及它们的结构特点作了详细的讨论,最后给出了系统的实验结果。并用离子束进行刻蚀工艺的研究,给出了FIB在镀了一层金膜的硅样品进行刻蚀的电子扫描显微镜照的图象。 相似文献
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