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1.
InAs0.96Sb0.04红外薄膜的光学性质研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用水平滑移石墨舟液相外延生长技术在n型(100)InAs衬底上生长了InAs0.96Sb0.04薄膜.在1.5~5.5 eV光子能量范围采用紫外—可见光椭圆偏振光谱仪于室温下测试了其介电函数谱ε(E).基于电子带间跃迁和联合态密度理论,采用S.Adachi的MDF模型对ε(E)进行了拟合,并计算了各种临界点电子跃迁对ε(E)的贡献.结果表明:实验数据与模型吻合得非常好,E1和E1 Δ1跃迁发生在布里渊区(BZ)的Λ轴或L点,分别对应于M1型临界点Λ5v→Λ6c(或L4v.5→L6c)和Λ6v→Λc6(或L6v→L6c)跃迁;E2跃迁是由于M1型和M2型鞍点能量简并引起的,沿着BZ的Σ和Δ轴方向.  相似文献   
2.
InAs infrared-sensitive solar cells are fabricated by using the films grown by the liquid phase epitaxy technique. The film microstructures are characterized by x-ray diffraction and scanning electronic microscopy. The current-voltage characteristics of the solar cells in the dark and under AM1.5 illumination at 300 K and 77 K are discussed. The conversion efficiency of p-InAs/n-sub InAs cells decreases when the thickness of the p-type film changes from 1.7 μm to 3.5 μm, which is caused by the reduced effective photons near p?n junction. The p-InAs/n-InAs/n-sub InAs solar cell with the conversion efficiency of 7.43% in 1-2.5 μm under AM1.5 at 77 K is obtained. The short circuit current density increases dramatically with decreasing temperature due to the weakened effect of phonon scattering.  相似文献   
3.
将少量氮原子加入Ⅲ—Ⅴ族半导体后可引起能带减小,因此这种方法可以用来实现能带结构裁剪。这种新型稀氮化物显示出了奇特的物理性质,并且具有应用于新型光电器件的潜力。特别是,备受关注的稀氮InAsN和InSbN在中长波红外光电材料上具有巨大的应用价值,并将在中长波红外器件应用领域发挥重要的作用。  相似文献   
4.
针对像元尺寸为50μm×50μm的长波红外32×32元制冷型凝视焦平面阵列探测器的需要,设计了一种工作波长位于15~35μm的透射式长波红外显微成像光学系统。该系统采用一次性成像方式,且主要由系列透镜构成,其中冷光阑置于光路的出瞳位置。通过对称双胶合透镜组合来校正像差,在-20~40℃温度范围采用光学被动补偿技术实现消热像差。仿真结果表明,当所设计的光学系统的中心波长、焦距、数值孔径、有效放大倍率和空间分辨率分别为27μm,14mm,0.25,10和0.1mm时,在10lp·mm-1特征频率处调制传递函数(MTF)值达到0.369,系统包围圆能量集中度超过80%,能够得到清晰可辨的物像,满足对冷光学系统短结构、高分辨率的应用需求。  相似文献   
5.
PbZrxTi1-xO3(PZT) fims are fabricated on F-doped tin oxide(FTO) substrates using chemical solutions containing PVP polymer and rapid thermal annealing processing.The dependence of the layered PZT multilayer formation and their optical properties on the Zr content x are examined.It is found that all the PZT films are crystallized and exhibit 110-preferred orientation.When x varies in the region of 0-0.8,the PZT films display lamellar structures,and a high reflecti...  相似文献   
6.
用遗传算法设计宽带薄层微波吸收材料   总被引:13,自引:0,他引:13       下载免费PDF全文
针对雷达吸波材料(RAM)的吸收频带宽和厚度薄的优化目标,引入动态跟踪变量约束条件和可动态扩展编码长度等技术,采用基本遗传算法建立了在任意给定的厚度范围内对电磁波的吸收达到特定的反射损耗值有最大合格带宽的多层RAM的优化设计方法.并结合研制的实际吸波材料建立的电磁参数数据库优化设计出了宽带、薄层的涂敷型RAM.用本文建立的优化设计方法可以实现宽带薄层RAM的优化设计.  相似文献   
7.
喇曼-原子力显微镜的研究进展   总被引:1,自引:0,他引:1  
喇曼-原子力显微镜(Raman-AFM)是一种基于探针增强喇曼散射效应(TERS)的新型形貌表征与光电测试设备,能够在纳米尺度上对低维结构材料与器件进行喇曼研究.本文详细介绍了Raman-AFM的基本原理与关键技术特点,并展望了它的发展前景.  相似文献   
8.
The structural and electronic properties of sodium bromide (NaBr) are investigated by the density functional theory (DFT) within the generalized gradient approximation (GGA) for the exchange and correlation energy. The equilibrium lattice constant, bulk modulus and its pressure derivative are obtained by fitting the calculated total energy to the third-order Birch-Murnaghan equation of state. The band structure along the higher symmetry axes in the Brillouin zone, the density of states (DOS) and the partial density of states (PDOS) are presented. The results have been discussed and compared with the available experimental and theoretical data.  相似文献   
9.
阻挡杂质带(BIB)探测器是当前远红外天文探测领域的主流探测器。通过近表面加工技术成功制备出了高性能的Ge:B BIB探测器,响应波数范围从50 cm-1到400 cm-1。在3.5 K温度和30 mV工作电压下,器件在峰值响应84.9 cm-1处的响应率达到21.46 A·W-1,探测率达到4.34×1014cm·Hz1/2·W-1。研究了BIB探测器中界面势垒对响应光谱的影响。提出了一种新的激发模式—电极区内的载流子可以通过光激发的方式越过势垒。此外,还发现了一种增强BIB探测器在小波数处相对响应强度的方法。  相似文献   
10.
The temperature-dependent photoluminescence(PL) spectra of BaIn2O4,prepared by coprecipitation,are measured and discussed.Aside from the reported 3.02-eV violet emission,the 1.81-eV yellow emission involved with oxygen vacancy is also observed at room temperature wherein the deep donor level is at 1.2 eV.With the temperature increasing,the peak energies for both emissions show a red shift.Moreover,the yellow emission intensity decreases while the violet emission intensity increases.The temperature dependence of the yellow emission intensity fits very well into the one-step quenching process equation,indicating a fitted activation energy at 19.2 meV.  相似文献   
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