LPCVD设备的高精度串级温度控制系统

在大部分半导体工艺中,温度都是最重要的工艺参数之一,炉温的均匀性和稳定度对工艺都有着至关重要的影响。主要介绍了LPCVD设备中的高精度串级温度控制系统,该系统结构简单,控制效果良好,温度稳定度≤±0.5℃/24h。     

燃气彩偏窑的温度控制与安全保护

燃气彩偏窑是以气体燃料作为能源,通过对燃烧过程的自动控制,达到温度精确控制,满足彩偏磁芯烧结工艺要求。同时,对燃烧过程中的熄火、燃烧气体和助燃空气压力超过正常范围、排烟不畅等进行有效控制,保证安全生产。     

用于GaN生长的生产型MOCVD设备控制系统设计

MOCVD法外延生长GaN基材料作为新世纪的核心技术之一受到全世界的高度重视。MOCVD技术涉及面广,控制对象复杂,且对控制对象的精度、重复性、可靠性要求较高。主要介绍了用于GaN基材料生长的生产型MOCVD(2″×6)设备控制系统的组成与特点。设备运行一年来的结果表明,该系统可靠性高、抗干扰性好、运行效果良好。