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接近式深度光刻机掩模-硅片间的衍射研究 总被引:1,自引:0,他引:1
:近年来 ,微型机电系统技术高速发展 ,对作为其基础技术的微细加工设备的需求也越来越大。重点讨论接近式深度光刻机的掩摸和硅片间的衍射 ,其中对掩模与硅片间的夫琅和费衍射和菲涅尔衍射进行了区别 ,并提出了接近深度光刻机掩模-硅片间的衍射应属于菲涅尔衍射 ,同时具体分析单缝型掩模的菲涅尔衍射公式。对深入理解和认识接近式深度光刻机的掩模 -硅片间衍射的物理本质提供了更为方便的研究手段。 相似文献
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UV-LIGA光刻设备研究 总被引:3,自引:0,他引:3
近几年来微型机电系统 (MEMS)的研究得到了高速的发展 ,而MEMS的工艺基础是微细加工技术。针对电铸 (LIGA)技术所存在的缺点提出了紫外光电铸(UV -LIGA)技术 ,并研制了用于UV -LIGA技术的光刻设备。其中介绍了整机的设计要点、所解决的关键单元技术和实验结果。 相似文献
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为满足掩模移动曝光技术制作微光学元件的要求,研制了接近式曝光系统中使用的x-y二维精密移动工件台.该工件台由x-y二维整体手动工作台子系统、x-y二维掩模精密移动台子系统和承片台子系统组成.利用一个方导轨和两对V形导轨组成的滚动导轨副实现了x向和y向精密移动的导向功能;利用驱动器、电机、光栅、细分卡、单片机构成的闭环控制系统保证了x和y向的运动精度;在气浮的作用下,利用掩模版靠平基片实现了调平功能;利用差动螺旋机构和1∶2杠杆缩小机构实现了间隙的调整功能.经检测,工件台在8 mm的工作行程范围内,沿x,y方向移动的直线性分别达到了4"和3",两个方向的正交性达到了10",运动定位精度达到了1.2 μm. 相似文献
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主要介绍投影光刻机工件台的压力-真空平衡气足设计,对压力-真空平衡气足的径向压力分布、最大刚度、最佳气膜间隙以及承载能力进行了分析,并给出了气足结构参数的优化设计。 相似文献
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