新型光刻技术研究进展

集成电路光刻作为传统光刻技术的典型代表，支撑着集成电路芯片的快速发展。新一代光刻技术具有工艺多样化、光刻精度高、光刻效率高的优点，在研发新型光电子器件、实现3维微纳结构、构建有序纳米孔通道等方面有很大的潜力。回顾了近些年来涌现的多种新型光刻技术，分析了各自的特征及在新型纳米电子、光子器件、能源、传感等领域中的应用。对未来光刻技术的发展方向进行了展望。     

军用野战数字光端机抗振动冲击能力分析

通过对军用野战数字光端机机箱、印制电路板、电子元器件的抗振动、冲击能力的分析，得知机箱结构的强度、刚度还可进一步减小，从而为今后野战光端机的小型化、实用化探索出了一条有益的途径。     

用户电话光端机的屏蔽设计

本文介绍用户电话光端机的屏蔽设计,主要涉及屏蔽问题的提出、屏蔽设想、结构与工艺措施、屏蔽效果的估算及系统测试结果等。