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1.
HL-2A装置边缘等离子体在中平面的特性是通过可移动的探针组、快速扫描气动4探针和LHW天线边缘的固定4探针进行研究的。用于测量主等离子体边缘的温度、密度、悬浮电位、空间电位、径向和极向电场、雷诺协强、径向和极向等离子体流速及其径向分布。偏滤器靶板上的14组嵌入式静电3探针阵列用于测量同一环向截面的内外中性化板上的电子温度、密度、悬浮电位及其分布。  相似文献   
2.
本文应用表面分析技术研究HL-1装置中SiC涂层的等离子体辐照性能。结果表明,SiC材料应用于孔栏和壁涂层有利于减少杂质和提高等离子体品质。  相似文献   
3.
偏滤器等离子体物理分析主要是确定靶板上的温度和密度、功率分散、内外非对称性,以及杂质和中性粒子的控制能力等等。上述参数可以随放电密度和加热功率的变化而划分为3个不同的状态,即线性状态、高再循环状态和脱离状态。描述偏滤器性能的主要参数是温度、密度和功率的衰减长度(λr,λn,λp),以及聚变产物排除装置的时间。  相似文献   
4.
快速扫描探针系统在国内外的很多托克马克装置上得到广泛的应用,在等离子体的边缘SOL层所测量的物理参数都具有很高的时空分辨率。HL-2A装置上的扫描探针系统由传输杆、光栅尺、快速响应电磁阀、步进电机构成。在同一次放电条件下能测量的物理量有电子温度、电子密度、悬浮电位、极向电场和径向电场等参数。HL-2A装置的大半径为1.65m,小半径为0.4m,加热方式有中性束注入和电子回旋共振加热。  相似文献   
5.
HL—1M装置边缘等离子体测量   总被引:1,自引:1,他引:0  
本文研究了HL-1M装置运行初期第一壁材料对等离子体删削层杂质流通量及分布的影响,并与HL-1装置的结果进行比较。利用热通量探针测量,给出了HL-1和HL-1M装置删削层的热通量分布。在不同运行状态下,利用马赫探针组,测量了HL-1M装置边缘等离子体流的变化特性。  相似文献   
6.
在HL-1装置的输样机构上安放了硅收集探针。经过55次高功率托卡马克放电辐照后,对于因石墨孔栏被腐蚀而溅射蒸发,并沉积在硅收集探针上的杂质涂层进行了俄歇电子能谱(AES)分析,获得无主动冷却石墨孔栏被腐蚀而溅射蒸发出来的碳杂质流通量约为8×10~(13)cm~(-2)·S~(-1),金属重杂质镍和铬较GH39高镍钢孔栏时降低44%左右。  相似文献   
7.
在聚变装置中等离子体边界条件对整个等离子体约束性能的影响是非常敏感的。L-H模转换机制与边界径向电场Er,Er的梯度及极向旋转速度等参数密切相关。同时,边缘等离子体的径向输运与边缘极向电场Eθ的变化有关。在HL-1M装置中利用低杂波(LHW)注入和电子回旋加热(ECRH)实验,观测边缘等离子体流速和电场的径向分布和变化来研究改善约束性能与Eθ、Er,dEr/dr及边界涨落的关系。  相似文献   
8.
HL-2A装置上首次实现了偏滤器位形放电。采用专门研制的可在强磁场和强噪声环境下工作的快响应真空电离规对偏滤器室内的中性气体压强进行了测量,给出了HL-2A装置偏滤器有关结构的基础数据。初步研究了偏滤器位形和孔栏位形放电期间偏滤器室中性气体压强的特性。  相似文献   
9.
The electron density profile peaking and the impurity accumulation in the HL-2A tokamak plasma are observed when three kinds of fuelling methods are separately used at different fuelling particle locations. The density profile becomes more peaked when the line-averaged electron density approaches the Greenwald density limit nG and, consequently, impurity accumulation is often observed. A linear increase regime in the density range ne< 0.6nG and a saturation regime in ne > 0.6nG are obtained. There is no significant difference in achieved density peaking factor fne between the supersonic molecular beam injection (SMBI) and gas puffing into the plasma main chamber. However, the achieved fne is relatively low, in particular, in the case of density below 0.7nG, when the working gas is puffed into the divertor chamber. A discharge with a density as high as 1.2nG, i.e. ne = 1.2nG, can be achieved by SMBI just after siliconization as a wall conditioning. The metallic impurities, such as iron and chromium, also increase remarkably when the impurity accumulation happens. The mechanism behind the density peaking and impurity accumulation is studied by investigating both the density peaking factor versus the effective collisionality and the radiation peaking versus density peaking.  相似文献   
10.
HL-2A等离子体边缘的快速单探针测量   总被引:2,自引:2,他引:0  
介绍了对HL-2A装置中平面边缘等离子体的单探针测量。单探针是安装在可径向移动、并可绕轴旋 转360o的传动杆上的。在1MHz的快速采样频率下,测量了主等离子体边缘的温度、密度、悬浮电位、空间电位、极 向等离子体流速的径向分布。测量的结果表明,利用单探针测量的主等离子体边缘参数与朗缪尔四探针测量结果 基本一致。  相似文献   
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