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1.
2.
3.
采用火焰原子吸收光谱法分别对染镉小鼠和N-对羟甲苯甲基-D-葡糖二硫代氨基甲酸钠(HBGD)、N-苯甲基-D-葡糖二硫代氨基甲酸钠(BGD)、二乙基二硫代氨基甲酸钠(DDTC)、二巯基丙醇(BAL)、乙二胺四乙酸(EDTA)等五种螯合剂治疗组小鼠睾丸中镉、钙、铁、锌等金属浓度进行了测定和研究.结果表明:镉染毒(Cd 2.5 mg·kg-1,腹腔注射)后,小鼠睾丸中镉、钙、铁、锌等金属浓度显著高于对照组(p<0.05),染镉30 min后用各螯合剂治疗(0.400 mmol·kg-1,腹腔注射),24 h后除EDTA外,其余螯合剂能明显降低睾丸中镉的浓度并抑制钙、铁、锌浓度的增加(p<0.05);染镉24 h后注射各螯合剂,治疗24 h后,HBGD、BGD和DDTC显著降低了小鼠睾丸中各金属浓度(p<0.05);提示HBGD和BGD有望成为染镉中毒的理想解毒剂. 相似文献
4.
本文研究镜面Heisenberg-Virasoro代数的导子代数和自同构群,确定该代数的外导子和系数在它自身的一阶上同调群. 相似文献
5.
3 GPa熔融盐固体介质三轴高温压力容器的轴压摩擦力标定 总被引:1,自引:0,他引:1
在温度标定和围压标定的基础上,采用轴压循环方法,对3 GPa固体介质三轴高温高压实验系统的轴压摩擦力进行了标定,分析了围压、温度、轴向位移速率、装样方式(盐套类型)等实验条件对轴压摩擦力的影响。结果表明:静摩擦力、挤压摩擦力和滑动摩擦力3种轴压摩擦力对轴向应力的影响不同,其中静摩擦力和挤压摩擦力对轴向应力的影响很小,影响应力精度的主要是滑动摩擦力。静摩擦力及滑动摩擦力与围压正相关;静摩擦力与轴向位移速率正相关,但受其影响较小,滑动摩擦力不受其影响;静摩擦力和滑动摩擦力与温度负相关,并且受其影响较显著;盐套类型对轴压摩擦力的影响较大,当实验条件接近盐套熔点时,轴压摩擦力显著降低,当样品周围的盐套处于熔融状态时,轴压摩擦力最小。基于此,确定了标定轴压摩擦力的具体步骤,并对角闪岩的应力-应变曲线进行了轴压摩擦力标定。对比轴压摩擦力校正前、后的应力-应变曲线发现,经过轴压摩擦力校正的应力-应变曲线能更好地反映样品的实际变形情况。 相似文献
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7.
通过可控水热法,制备出层状、花形和棒状钛酸铋(Bi4Ti3O12,BIT)纳米结构。通过X射线衍射(XRD)和场发射扫描电子显微镜(FESEM)观测其结构和形貌特征。XRD图显示,所制备的样品为层状钙钛矿结构。FESEM结果表明,通过控制水热过程的反应参数可以得到不同形貌的纳米粉体。紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)表明BIT样品的带隙能约为2.63~2.95 eV。利用可见光(λ>420 nm)照射下的甲基橙降解实验评价了BIT样品的光催化性能。结果表明,BIT的光催化活性比掺氮TiO2(N-TiO2)高得多。所制备的层状BIT纳米结构光催化效率最高,经可见光照射360 min,甲基橙溶液的降解率可达95.0%。同时还研究了结构和形貌对不同条件下制备的BIT样品光催化活性的影响。 相似文献
8.
研究了基于InP基的In0.65Ga0.35As/In0.52Al0.48As赝型高迁移率晶体管材料中纵向磁电阻的Shubnikov-deHaas(SdH)振荡效应和霍耳效应,通过对纵向磁电阻SdH振荡的快速傅里叶变换分析,获得了各子带电子的浓度,并因此求得了各子带能级相对于费米能级的位置.联立求解Schrdinger方程和Poisson方程,自洽计算了样品的导带形状、载流子浓度分布以及各子带能级和费米能级位置.理论计算和实验结果很好符合.实验和理论计算均表明,势垒层的掺杂电子几乎全部转移到了量子阱中,转移率在95%以上. 相似文献
9.
通过分析不同温度下HgMnTe磁性二维电子气Shubnikov-de Hass(SdH)振荡的拍频现象,研究了量子阱中电子自旋 轨道相互作用和spd交换相互作用.结果表明:(1)在零磁场下,电子的自旋 轨道相互作用导致电子发生零场自旋分裂;(2)在弱磁场下,电子的自旋-轨道相互作用占主导地位,并受Landau分裂和Zeeman分裂的影响,电子的自旋分裂随磁场增加而减小;(3)在高磁场下,电子的spd交换相互作用达到饱和,电子的自旋分裂主要表现为Zeeman分裂.实验证明了当电子的Zeeman分裂能量与零场
关键词:
磁性二维电子气
Zeeman分裂
Rashba自旋分裂 相似文献
10.
Field Emission from Silicon Nanocrystallite Films with Compact Alignment and Uniform Orientation 下载免费PDF全文
Patterned silicon nanocrystallite (SINC) films were fabricated on (100) orientation p-type boron-doped sificon wafer by the hydrogen ion implantation technique and the anodic etching method. The efficient field emission with low turn-on field of about 3.5V/μm at current density of 0.1μA/cm^2 was obtained. The emission current density from the SiNC films reached 1mA/cm^2 under a bias field of about 9.1V/μm. The experimental results demonstrate that there are great potential applications of the SiNC films for fiat panel displays. A surface treatment with hydrogen plasma was performed on the SiNC films and a significant improvement of emission properties was achieved. 相似文献