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混水平部分因析设计在各类试验中有广泛应用.纯净效应准则是用于选取最优部分因析设计的重要准则之一.本文考虑含有一个八水平因子、一个四水平因子和若干二水平因子的8×4×2~n混水平设计,给出了分辨度为Ⅲ和Ⅳ的该类混水平设计包含纯净两因子交互作用成分最大数的上界和下界.下界通过构造特定设计而得到. 相似文献
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氧化镍薄膜的制备及电化学性质 总被引:5,自引:0,他引:5
分别采用真空蒸镀_热氧化(VE_TO)及脉冲激光沉积(PLD)技术制备氧化镍(NiO)阳极薄膜材料,并利用XRD、SEM、循环伏安、充放电等方法对薄膜的结构和电化学性能进行了表征。结果表明,两种方法均制备了厚度均匀、表面光滑、与基片结合紧密、无缺陷、致密的纳米晶形NiO薄膜。采用PLD技术制备的薄膜颗粒更小、结构更有序,具有更高的电化学比容量,并且能承受大电流充放电。因此,这两种方法制备的NiO薄膜可根据充放电电流密度的要求有选择的应用于全固态薄膜锂离子电池中。 相似文献
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纯净效应准则是选取最优部分因析设计的重要准则之一,近年来已经成为一个活跃的研究课题.对给定的k,通过构造2n-(n-k)设计,Tang等(2002)得到了分辨度Ⅲ和ⅣV的2n-(n-k)部分因析设计的纯净两因子交互作用最大数的上下界,但是这种方法只局限于对称设计的情形.本文提出和研究了非对称情形的纯净效应问题,改进了Tang等对分辨度Ⅲ的2n-(n-k)设计的构造方法,得到了分辨度Ⅲ和ⅣV的4m2n设计的纯净两因子交互作用成分最大数的上下界,其中下界是通过构造特定的设计得到的.比较表明,本文所得设计的纯净两因子交互作用成分数在很多情形下都达到了最大.这说明在纯净效应准则下,用这些构造方法来构造4m2n设计是令人满意的. 相似文献
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本文讨论自动化车床管理中的局部检查策略问题 ,即在某一检测点处不同的策略 ,并对其中的二对策略作了比较 . 相似文献
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Mass, velocity and angle distributions of the ablated species generated from 355 nm pulsed laser ablation of a LiMn2O4 target were investigated with an angle- and time-resolved mass spectrometric technique. Both neutral and ionic species of Li, O, LiO, LiO2, Mn, Li2, Li4, Li6, LiMn, MnO and MnO2 were observed at the laser fluence of 0.8 J · cm-2. The yield and variety of the ablated species increase with increasing the laser fluence. The time-of-flight spectra of ablated species can be fitted by a Maxwell-Boltzmann distribution with a center-of-mass velocity. There exist laser fluence thresholds for the ablated LiMn, Li2O and LiO2 species, and the fluence threshold of ionic species is higher than that of neutral species. The angular distributions of the ionic and neutral ablated species can be simulated by a cosnθor a bicosine function αcosθ+(1- α)cos"θ. In addition, the ablation mechanism of LiMn2O4 by a 355 nm pulsed laser is discussed. 相似文献
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采用角分辨飞行时间质谱法研究了355 nm脉冲激光烧蚀LiMn2O4的反应. 在较低激光能量密度(0.8 J·cm-2)测得的离子和中性烧蚀产物主要有Li, O, LiO, LiO2 , Mn, Li2, Li4, Li6, LiMn, MnO, MnO2等. 激光能量密度较大时, 烧蚀产物中的氧化物不仅相对量增加, 而且物种更加丰富. 它们的飞行时间谱可用带质心速度的Maxwell-Boltzmann分布函数拟合. 烧蚀产物Li, LiO, LiO2 和 Mn存在能量密度表观阈值, 并且离子产物的阈值比相应的中性产物高. 烧蚀产物中原生离子和中性产物的空间角分布可用cosn θ 或θ cosθ+(1-δ)cosnθ拟合. 此外, 对355 nm脉冲激光对LiMn2O4的烧蚀机理进行了讨论. 相似文献
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Clear effects criterion is an important criterion for selecting fractional factorial designs[1].Tang et al.[2]derived upper and lower bounds on the maximum number of clear two-factor interactions(2fi's)in 2^n-(n-k)designs of resolution Ⅲ and Ⅳ by constructing 2^n-(n-k)designs.But the method in[2]does not perform well sometimes when the resolution is Ⅲ.This article modifies the construction method for 2^n-(n-k) designs of resolution Ⅲ in[2].The modified method is a great improvement on that used in[2]. 相似文献