十四烷基三甲基氯化铵/十二烷基苯磺酸钠混合表面活性剂双水相体系的萃取性能

研究了十四烷基三甲基氯化铵(TTAC)与十二烷基苯磺酸钠(SDBS)混合表面活性剂水溶液双水相体系的分相情况、萃取性能及两相的微观结构.结果表明,TTAC/SDBS混合表面活性剂水溶液在30℃下能够形成稳定的双水相体系;该双水相体系对亚甲基蓝、靛红都具有一定的萃取分离作用.其上、下两相的微观结构明显不同,这是其能够形成稳定双水相体系且具有萃取作用的重要原因.     

高温液相二醇还原法制备钴纳米粒子

应用高温液相二醇还原法,首次用1,10-癸二醇作还原剂,在两种表面活性剂存在下制备出磁性钴纳米粒子。用X射线衍射、X射线光电子能谱、透射电镜、激光光散射仪和热分析仪分别对钴纳米粒子的结构、价态、颗粒尺寸与热性能进行了表征分析。结果表明该方法制备的钴纳米粒子具有hcp相,平均粒径大约为50nm。     

用电沉积法制备稀土填充热电材料Bi2Sb3Rex

分别以脉冲电沉积法和直流电沉积法制备了稀土填充热电材料Bi2Sb3Rex(Re=Ce,Nd)。结果表明,采用脉冲电沉积法,在通断脉宽为Ton=10ms(电流1A),Toff=40ms(电流0A),电流密度2000A.m-2,电沉积时间180s的条件下制得的电沉积膜Bi2Sb3Ce2,表面均匀、光滑、致密;在通断脉宽为Ton=0.4ms(电流1A),Toff=2.4ms(电流0A),电流密度2800A.m-2,电沉积时间120s,占空比为0.142的条件下制得的电沉积膜Bi2Sb3Nd0.1,表面均匀、光滑、致密。     

烷烃同系物对液膜振荡的影响

基于表面活性物质在互不相溶的油水两相间自发迁移引起油水界面电位的周期性变化的液膜振荡可用于模拟生物膜振荡,并根据生物膜对某些分子具有的独特电位振荡作为识别分子的信号,可用于化学分析。 建立了水（十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）/正丙醇 水溶液）/油（苦味酸硝基甲烷溶液）/水（葡萄糖水溶液）液膜振荡体系。 通过向体系中添加正己烷、正辛烷、正癸烷、正十二烷、正十四烷、正十六烷、环己烷和异辛烷等物质,考察了不同碳数的烷烃同系物、烷烃同分异构体以及混合烷烃对振荡的影响。 结果表明,加入不同类型的烷烃,振荡曲线的诱导期和振荡区的振幅和频率呈现一定规律性变化,以此可进一步进行液膜振荡在烷烃同系物识别与分析中的应用研究。     

SiO2气凝胶的制备及微孔分布

本文以正硅酸乙酯(TEOS)为原料，水和乙醇为溶剂，盐酸和氨水为催化剂，采用溶胶-凝胶，水热合成和低温冷冻干燥等工艺，制备了SiO₂气凝胶，研究了pH值、TEOS浓度及焙烧温度对气凝胶的比表面积、孔径分布的影响。结果表明：在碱性条件下，制得的气凝胶比表面积较大，孔径较窄。气凝胶在较高温度下，比表面积有所下降，孔径略微变粗。     

单一稀土镧在不同基底上的电沉积及其性能的研究

研究在低温熔融盐体系中于不同基底上电沉积单一稀土金属镧（La）。经X-射线能谱仪测定,在镍片基底上沉积的La的质量分数为100％,铜片基底上沉积的La质量分数为72．84％;在镍铁合金灯丝上沉积得到La-Ni合金薄膜,其中La的质量分数为50．02％,Ni的质量分数为2．48％。经扫描电子显微镜观察,所得的沉积膜为均匀、光滑、致密的黑色沉积薄膜。经X-射线衍射仪分析,镧在不同基底上沉积所得的沉积膜为不同晶型,以镍片为基底得到的单质镧为α-六方晶型;以铜片为基底得到的单质镧为面心立方晶;均与基底晶型相匹配。在镍铁合金灯丝上电沉积所得的La-Ni合金薄膜致密均匀,在无水乙醇中久浸而不脱落,并呈现强磁性。     

正负离子混合表面活性剂双水相界面张力的研究

用旋转滴法测定了正负离子混合表面活性剂形成的双水相界面张力, 研究了双水相界面张力与表面活性剂的分子结构、正负离子表面活性剂的摩尔比、总浓度、外加无机盐及温度的关系. 结果表明, 双水相界面张力在一定正、负离子表面活性剂的摩尔比时属于超低界面张力范围. 观察到三种界面张力曲线类型, 第一类为摩尔比1:1 的两边的两条曲线, 界面张力随过剩表面活性剂组分的比例增加而降低; 第二类为一条跨过摩尔比1:1的马鞍型曲线; 第三类为位于摩尔比1:1的一边的一条马鞍型曲线. 界面张力曲线的类型主要取决于表面活性剂的分子结构, 包括亲水基类型、疏水链长度及对称性.     

添加剂Ce^4＋对化学镀镍的影响

本文探讨了添加剂Ｃｅ＾４＋对化学镀镍过程的影响，结果表明，Ｃｅ＾４＋可降低Ｎｉ－Ｐ合金镀层在３％ＮａＣｌ溶液中的腐蚀电流，提高其耐蚀性，并发现热处理可使其抗 腐蚀性能进一步提高。但各合金镀层在０．１ｍｏｌ／ＨＣｌ中的耐腐蚀性由于Ｃｅ＾４＋的加入普遍下降。     

Ti/Ti-类金刚石多层膜的制备与表征

采用电子回旋共振-化学气相沉积结合中频磁控溅射的真空镀膜技术, 以99.99%Ti为靶材, 乙炔为碳源制备了Ti/Ti-类金刚石(DLC)多层膜. 利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪 对Ti/Ti-DLC多层膜进行了相结构、组织、成分及形态分析. 采用显微硬度仪、摩擦磨损仪、表面粗糙度仪对Ti/Ti-DLC多层膜进行了力学性能考察. 结果表明: Ti/Ti-DLC多层膜中主要含有TiC晶相; Ti层和Ti-DLC层中未出现柱状晶体生长模式, 分层中均以岛状模式生长; 当调制周期Λ≤ 50 nm时, 分层结构变模糊; 调制周期Λ对Ti/Ti-DLC多层膜的复合硬度、摩擦系数、表面形貌、表面粗糙度都有影响, 当调制周期Λ较小时表现出纳米增硬效应, 表面出现大颗粒, 表面粗糙度和摩擦系数均变大.     

聚酰亚胺柔性基底上磁控溅射金属铜膜的电学性能研究

为了制备用于挠性电路板中的挠性覆铜板,在聚酰亚胺上使用中频磁控溅射方法制备金属Cu膜.实验中,通过改变制备温度、衬底偏压、制备时间等工艺参数,制备出导电性符合要求的Cu薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)研究薄膜的成分、结构以及表面形貌,用触针式台阶仪、四探针电阻测量仪测量薄膜的膜厚以及电阻,并计算薄膜的电阻率.最终得到制备导电性符合工业应用标准的Cu膜的最佳工艺条件:制备温度100℃,直流偏压50 V,无脉冲偏压.