重金属离子印迹技术

分子印迹技术(molecular imprinting technology,MIT)是指制备对特定目标分子具有专一识别性能的聚合物技术。离子印迹技术(ion imprinting technology,IIT)以离子为模板,通过静电作用、配位作用等与单体结合形成螯合物,聚合后用酸性试剂等将模板离子洗脱,最终制得具有与目标金属离子相对应的三维孔穴结构的印迹材料。作为分子印迹技术的重要分支,离子印迹技术因存在配位作用而具有很多优势,近年来得到了快速的发展。重金属离子是离子印迹领域最典型且最受关注的目标物。本文介绍了离子印迹技术原理、制备及其在金属的痕量和超痕量分析中的优势,针对环境监测中典型重金属污染离子(铅、汞、铜、镉、铬、砷)的印迹聚合物应用进行了简述,并对金属离子印迹技术未来的挑战与发展作出了展望。