二甲基亚砜中Er—Co合金膜的电化学制备

研究了室温条件下ErCl3-CoCl2-LiClO4-二甲基亚砜（DMSO）体系中的Er-Co在铜电极上的共沉积,利用恒电位电解法制备出了Er的不同质量百分含量的Er-Co合金膜,0.08mol/L ErCl3-0.1mol/L CoCl2-0.1mol/L LiClO4-二甲基亚砜溶液在-2.58V(ts SCE）时恒电位电解得到了表面均匀,附着力好、有金属光泽的黑色沉积膜,应用EDAX和XRD分析了沉积膜组成及形态。     

DMSO和DMSO-尿素体系中制备Pr-Co合金膜

研究了室温条件下CoCl2＿Pr(CH3SO3)3＿TBAP(高氯酸四丁基铵)＿DMSO(二甲基亚砜)体系中的Pr＿Co在铜电极上的共沉积,选定一系列的阴极电位进行恒电位电解,制备出w(Pr)=38%～42%的Pr＿Co合金膜。向DMSO中添加4 0mol·L-1尿素,发现混合体系的熔点从18 54℃下降至5 35℃,电导率上升,电沉积效果明显提高。通过EDAX分析了合金膜的组成及形态,发现在添加尿素体系中制备出来的Pr＿Co合金膜的表面更光滑致密,膜中w(Pr)在18%～23%之间。     

DMF中Nd—Ni合金膜的制备

研究了室温下在含有少量水的ＮｄＣｌ３－ＮｉＣｌ２－ＤＭＦ溶液中电沉积制备Ｎｄ－Ｎｉ功能合金膜,选定一系列的阴极电位进行恒电位电解,制备出不同Ｎｄ含量的Ｎｄ－Ｎｉ合金膜．ＥＤＡＸ和ＸＲＤ分析表明：在０．１０ｍｏｌ／ｄｍ３ＮｄＣｌ３＋０．１０ｍｏｌ／ｄｍ３ＮｉＣｌ２的ＤＭＦ溶液中,控制电位为－１．７５Ｖ（对ＳＣＥ）进行恒电位电解,可得到有金属光泽、附着力强的银白色Ｎｄ－Ｎｉ合金膜     

酰胺低温熔盐中Y—Ni合金薄膜的电化学制备

用恒电流电解法在乙酰胺－尿素－溴化钠熔体中电沉积出Y的质量分数（w(Y))高达87．50％的Y－Ni合金，在铜片上获得附着力强的合金薄膜。实验结果显示电沉积出的Y－Ni合金中的w(Y)随着电流密度增大而增大，在低电流获得的是有金属光泽的银白色合金薄膜，在高电流密度获得的是黑色的合金薄膜。     

二甲亚砜中电沉积La—Co合金膜的研究

研究在非水溶剂二甲亚砜中电沉积La-Co合金膜。体系中加入柠檬酸为络合剂,聚乙醇－100为添加剂,用于改善沉积层的质量。在沉积过程中,应用了恒电位电解技术和脉冲电解技术。所得La-Co合金膜的表面是光滑,致密。粘附性好和有金属光泽。恒电位电解技术沉积得到的La-Co合金膜中La的质量分数是22．42％－50．29％,脉冲电解技术沉积得到的La-Co合金膜中La的质量分数是1．46％－42．63％。脉冲电解技术沉积得到的La-Co合金膜通过电镜观察发现金属粒子的大小约为100nm。     

低温熔盐中Gd-Pr-Co合金膜的电沉积研究

应用循环伏安法研究了在353 K的乙酰胺-尿素-NaBr熔体中Co2 在Cu电极上的电化学行为,获知Co(Ⅱ) 2e Co(0)是一步完全不可逆反应,测得传递系数α=0.28,扩散系数D0=4.06×10-7cm2/s.Gd(Ⅲ)、Pr(Ⅲ)不能单独还原为Gd和Pr,但可以被Co(Ⅱ)诱导共沉积.由恒电位电解法得到非晶态的Gd-Pr-Co合金,合金膜中Gd和Pr的含量随电解电位、时间和浓度的变化而变化,合金膜中Gd和Pr的最高质量百分数分别可达到68.18%,29.26%.     

p—甲苯磺酸稀土盐—有机溶剂体系中电沉积Eu—Co和Nd—Co

ｐ－甲苯磺酸稀土盐－有机溶剂体系中电沉积Ｅｕ－Ｃｏ和Ｎｄ－Ｃｏ＠刘鹏童＠叶翔＠杨绮琴＠杨燕生￥中山大学化学与化学工程学院ｐ－甲苯磺酸铕，ｐ－甲苯磺酸钕，Ｅｕ－Ｃｏ电沉积，Ｎｄ－Ｃｏ电沉积ｐ－甲苯磺酸稀土盐－有机溶剂体系中电沉积Ｅｕ－Ｃｏ和Ｎｄ－Ｃｏ刘鹏童...     

Co－WC复合电沉积过程的研究

研究了具有电催化性能的Ｃｏ－ＷＣ复合镀层的电沉积过程．讨论了镇液中ＷＣ微粒的浓度、温度、阴极电流密度、ｐＨ值及电沉积时间对复合镀层中ＷＣ体积百分含量的影响．结果表明：选择适当的电沉积条件可制备出ＷＣ微粒分散均匀的复合镀层，Ｃｈ－ＷＣ共沉积机理符合Ｇｕｇｌｉｅｌｍｉ两步吸附模型，强吸附步骤为其速度控制步骤．     

乙酰胺-尿素-NaBr熔体中Tb-Ni薄膜合金的制备

在 35 3K的乙酰胺_尿素_NaBr熔体中 ,Ni(Ⅱ )一步不可逆还原为Ni,测得α为 0 18和D为 1.44× 10 - 6cm2 ·s- 1 。Tb(Ⅲ )不能单独还原为Tb ,但是可以被Ni(Ⅱ )诱导共沉积。由恒电势电解法得到非晶态的Tb_Ni合金膜。铽的质量分数随着阴极电势的负移和Tb(Ⅲ ) Ni(Ⅱ )摩尔比增大而增大。铽的质量分数可达 84.32 %     

二甲基亚砜中电沉积Eu-Co合金膜的研究

研究了二甲基亚砜 (DMSO)中Eu3 + 和Co2 + 在铂和铜电极上的电化学行为。Co2 + 在铂和铜电极上一步不可逆还原为Co ,Eu3+ 在铂和铜电极上为二步不可逆还原 ,先还原为Eu2 + ,Eu2 + 再还原为Eu。利用循环伏安法测定了 30 1K时 ,0 0 10mol·L- 1 CoCl2 - 0 10mol·L- 1 LiClO4-DMSO体系中Co2 + 的扩散系数和传递系数分别为1 34× 10 - 6 cm2 ·s- 1 和 0 16。在铜电极上于 - 1 80～ - 2 5 0V (vsSCE)下恒电位电解 ,可获得黏附性好、有金属光泽的Eu_Co合金沉积膜 ,铕的质量分数为 7 2 6 %～ 2 2 93%。加入乙二胺作为络合剂 ,使沉积层中铕的质量分数明显提高 ,沉积层中铕质量分数最高达 41 41%。     

水溶液中镁-镍合金的电沉积合成

由于水溶液中镁离子的还原电位较负,镁难以从水溶液中沉积出来,且镁与镍的沉积电位相差2V以上,镁与镍很难共沉积,研究表明,镁一镍合金确实可以从一水溶液中沉积出来,镁一镍的共沉积也被XRD和AAS的分析所证实．XRD及循环伏安法研究还发现,沉积合金具有多相的结构,恒电流暂态极化实验表明镁一镍合金的电沉积过程是一成核长大过程．     

熔盐电解法制备Yb-Co合金的研究

利用循环伏安法探讨了在353K的乙酰胺-尿素-NaBr熔体中Yb—Co合金膜的电化学制备。结果表明：Pt、Cu电极上,Yb（Ⅲ）不能单独还原为Yb（0）,但可以被Co（Ⅱ）诱导共沉积。由恒电位电解法得到非晶态的Yb—co合金中,Yb的含量随阴极电位的负移,Yb（Ⅲ）／Co（Ⅱ）摩尔比增大及电解时间延长而变化。     

氯化物熔体中镨钴合金形成的电化学研究

用循环伏安法，恒电位电解断电后的电极电位－时间曲线研究了Ｐｒ（Ⅲ）在ＮａＣｌ－ＫＣｌ－ＰｒＣｌ３熔体中，钴电极上还原的电极过程，首先生成Ｐｒ２Ｃｏ１７，随后依次形成含Ｐｒ量较多的Ｐｒ－Ｃｏ金属间化合物，然后才析出纯金属镨；验证了在１０７３Ｋ形成Ｐｒ－Ｃｏ合金的数目．测得Ｐｒ２Ｃｏ１７，ＰｒＣｏ５，Ｐｒ５Ｃｏ１９和Ｐｒ２Ｃｏ７在１０７３Ｋ的标准生成自由能分别为－１５６．３３，－４９．２２，－１８８．１８，－３４．７４ｋＪ·ｍｏｌ－１．并发现在ＮａＣｌ－ＫＣｌ－ＰｒＣｌ３－ＣｏＣｌ２熔体中，Ｐｒ（Ⅲ）和Ｃｏ（Ⅱ）在钼电极上可发生共沉积