2800～4100埃连续可调紫外激光器

报导了Nd:YAG脉冲激光器基波(1.06微米)与它的四次谐波泵浦的参量放大器输出(0.42～0.7微米连续可调)在KDP晶体中进行和频,产生0.3～0.41微米连续可调的紫外激光.以及Nd:YAG脉冲激光器的二次谐波(0.53微米)泵浦的若丹明6G染料激光在ADP晶体中倍频,产生0.28～0.3微米连续可调的紫外激光的实验结果.     

波长1530～1570 nm水晶波片增透膜

随着20世纪90年代后期因特网的蓬勃发展,对通信容量及传输速率提出无止境的要求,造就了DWDM系统的极大成功.光纤通讯器件跟电子器件初期发展一样,也是先从分立元件开始,任何光路经过元件的两面一定是要镀膜的,这些元件的薄膜种类很多,本文介绍的水晶波片增透膜就是其中之一.为使此元件在流水线作业上安装及校正的方便、可靠,要求镀制好增透膜的波片不仅有良好的光学性能,即满足波长1530 nm～1570 nm波段处的剩余反射率小于千分之二,而且要求镀好波片O光和E光的位相角差的正负误差范围控制在一定的界限内.为此,我们通过多次试验,优化膜系设计,不断地改变和寻找适当的镀膜工艺来镀制增透膜.目前,已基本满足此种波片的使用要求,并形成一定的小批量生产.(PH6)     

紫外到近红外波段大功率激光器用硬质高抗损伤宽带增透膜

研究了一种在各种基体材料(包括熔融石英和光学玻璃)上制备增透膜的新工艺。这种薄膜镀于熔融石英上,在355nm处损伤阈大于6J/cm~2。由于它波带很宽,机械强度好,不仅能用于大功率激光器,也适用于光通讯等。大功率激光器的研制需要抗损伤的增透表面。目前,多层介质增透膜对于脉冲激光器,特别是在短波段,没有足够的损伤阈。用中性溶液法在抛光的硼硅酸冕牌玻璃BK-7上制备的递变折射率增透表面,在激光波长为1064nm、脉冲宽度(T_p)为1ns时,损伤阈是12     

3～14微米ZnSe基片的分束器和增透膜

在化学汽相淀积的ZnSe上研制成3～14微米波段可得宽带分束、增透(45°角入射)的消色差膜。可用于宇航和实验室等环境的干涉光谱仪上。所得结果与理论设计很一致。     

ZnSe基底7～14μm波段宽带增透膜

简要叙述了7～14μm波段红外增透膜的膜料选择以及硒化锌基底上高性能红外增透膜的设计和工艺研究。介绍了离子辅助沉积技术沉积该膜的的工艺过程。给出了用该方法制备的7～14μm波段宽带减反射膜的实测光谱曲线,其峰值透过率高达98%以上,在设计波段范围内平均透过率大于97%,膜层附着性能好,光机性能稳定。这对于红外光学系统的应用具有十分重要的意义。     

抗静电增透膜

近年来证明,在有电场的仪器中可使用镀膜玻璃。镀膜玻璃是介质,其体电阻率为10~(14)～10~(15)Ω·cm,其表面电阻为10~(15)～10~(17)Ω。介质在电场中偏振,形成的电荷能使外电场严重畸变。此外,在用织物擦净镀了膜的介质元件过程中其表面会出现静电,也会把外电场畸变,并因荷电尘粒吸引而将表面污染。经验表明,为降低体静电荷,电阻须降到10~9～10~(11)Ω。这可通过降低体或表面电阻完成。     

光学增透膜

本文就1973～1980年间发表的几篇美、英、西德专利介绍数种光学增透膜。其中有四种是全可见光波段用,其它是可见光区间的单波长用。衬底有一种是人造树脂,其它均为折射率在1.42～1.85的玻璃。膜材料用MgF_2、SiO_2、ThF_4、LaF_2、NdF_3、BeONa_3(AlF_4)、Al_2O_3、CeF_3、LaF_3、LiF,折射率为1.32～1.62。中等折射率膜材料用MgO、ThO_2H_2、InO_2及MgO-Al_2O_3混合料,折射率为1.7～1.9。能用的高折射率膜材料有CeO_2、ZrO_2、TiO_2、Ta_2O_5、ZnS、ThO_2,折射率为2～2.3。膜层是2～9层。有一种1/4波长结构四层膜系,最佳反射在500nm波长处为0.06％,在440～620nm波段处为0.14％。另一种膜系,最差反射在500nm波长处为0.5％。     

红外高折射率基体材料3～5微米宽带增透膜

一目前,红外光谱区用的窗口或衬底材料大部分都是些半导体材料,如锗、硅、砷化钢和锑化铟等单晶材料。它们对不同的红外区域有一定的透明性。但这些材料的折射率都较高,如锗单晶n=4,硅单晶n=3.45。这样,如果它们在空气中直接使用时,其反射损失是比较大的,或者说根本不能使用。为     

硒化锌基底7.8～10.6μm波段增透膜

文中介绍了研制的7.8~10.6μm的长波红外增透膜,平均透射率大于98%。通过材料选择,合理的膜系设计,离子辅助技术和温度筛选等多种改进工艺,研制出可靠性和光谱特性皆优的ZnSe长波红外增透膜,达到了GJB2485-95光学薄膜通用规范要求。     

用于0.35～2.5微米的单层梯度折射率增透膜

用化学蚀刻或浸析方法在相分离热处理的敏化玻璃上生产梯度折射率增透膜。这种膜的界面反射率,在0.35～2.5微米的波长范围内,从接近8％减少到小于0.5％。这种宽带增透膜由多孔的单层膜组成,其骨架层基本上是二氧化硅。这种薄膜的光学特性决定于相分离热处理的时间和温度,同时也和薄膜形成时化学蚀刻或浸析的时间和温度有关。根据由不同工艺制得薄膜的性能,说明了在高温下相分离和形成者才具有逐渐变陡的折射率梯度。提出了这种薄膜的许多应用,包括太阳能装置。     

红外锗透镜8～12微米宽带增透膜的研制

一、镀制高效率宽带增透膜的重要性大家知道,光导体锗材料由于具有优良的光学、机械等性能而被选为红外前视透镜及一些红外长泼器件、整机的常用窗口材料。但由于锗的折射率高(N=4),根据T=2N/(N_2 1)=47％知道,未镀增透膜的锗镜,由于表面反射损失,其能量透过率只有47％。镜面愈多,反射损失愈大,相应的透过的能量就愈低。总透过率与透镜个数成乘方衰减,即     

1.06μm、可见或紫外用玻璃衬底宽双波段增透膜

本文介绍用有效界面法来设计以低折射率的玻璃为衬底的宽双波段增透膜。     

KCI衬底增透膜

本发明所述KCl衬底三层耐潮增透膜,吸收10.6μm波长CO_2气体激光束很小,能透足量的0.6328μm波长He-Ne激光束。第一层(紧贴衬底)是As_2S_3层,光学厚度是2.438～2.65μm,第二层是PbF_2层,1.259～1.363μm,第三层是AS_2S_3层,0.959～1.03882μm。图2是第二层As_2S_3(即第三层)的光学厚度从预调的光学厚度增大和减小4％时,本膜系的反射与波长的关系。     

声光可调滤光器400～1000nm宽带增透膜的制备

针对声光可调滤光器的使用要求,对常用的几种薄膜材料进行了沉积实验,采用传统的撕离法及纳米划痕法测试了薄膜材料的附着力。选择TiO_2和SiO_2分别作为高、低折射率镀膜材料,通过不同方案对膜系进行了优化设计。采用电子束蒸发兼离子束辅助沉积技术,制备了附着力牢靠、光谱透射率满足使用要求的TeO2晶体400~1 000nm宽带增透膜。     

递变折射率增透膜

一、前言本文介绍用化学法制作两种递变折射率增透膜。一种是用溶胶～凝胶法制作,是将衬底浸于碱性硼硅酸盐玻璃溶胶中淀积上一层或多层凝胶衍生膜,然后加热将膜相分离,接着用沥滤液腐蚀掉可沥滤的相而留下SiO_2含量高的相成膜,适用于多种不同的激光和光学材料衬底。另一种是用中性溶液法制作,是将可相分离的碱性硼硅酸盐玻璃“衬底”相分离,然后用沥滤液腐蚀掉可沥滤的相而留下SiO_2含量高的相成膜,适用于任何可相分离的大粒度玻璃“衬底”。后一种“薄膜”实际上是玻璃块体     

10～20ps紫外等离子体光探针

我们将主激光分出一部分做为探测束,探测束经过KDP晶体倍频,然后用DMSO液体后向喇曼散射移频到630nm,最后经BBO晶体倍频,最终获得的探测束波长为315nm,脉冲宽度为10～20ps,脉冲能量大于0.2mJ。     

锗基底3～5μm和8～12μm双波段红外增透膜研究

文中简要叙述了双波段(3～5μm 和8～12μm) 红外增透膜的膜料选择以及锗基底上红外双波段增透膜的设计与镀制,介绍了离子束辅助沉积技术制备该薄膜的过程。提出了采用脉冲真空电弧离子镀技术镀制无氢类金刚石膜作为红外增透膜的保护膜,并讨论了镀制类金刚石膜后,镀膜元件的光谱特性。     

Ge基底7.5～11.5μm波段高性能红外增透膜的研制

为了提高Ge基底的红外光能量的透过率和膜层的机械强度,对Ge基底上高性能的红外宽带减反射膜的设计与制备工艺进行了研究.介绍了红外宽带减反射膜的合理的膜料选择、膜系设计和优化方法以及采用离子束辅助沉积技术沉积该膜系的过程.给出了离子束辅助沉积技术各工艺参数,以及在最佳参数条件下制备的7.5～11.μm波段宽带减反射膜单双面增透实测光谱曲线,其峰值透过率高达99.2%,在设计的波段范围内,平均透过率大于98%,膜层附着性能好,光机性能稳定,重复性好,能够通过GJB2485-95所规定的各项环境测试,并且光学性能没有明显的变化,这对于红外光学系统的应用具有十分重要的意义.     

硒化锌基底8～12 μm高性能增透膜的研究

为了提高硒化锌基底的透过率以及膜层的机械强度,对硒化锌基底上高性能的红外宽带减反射膜的设计与制备工艺进行了研究。介绍了红外宽带减反射膜的膜料选择、膜系的设计以及采用离子束辅助沉积该膜系的过程．给出了用该方法制备的8-12μm波段宽带减反射膜的实测光谱曲线,其峰值透过率高达99％以上,在设计波段范围内平均透过率大于98％,膜层附着性能好,光机性能稳定。这对于红外光学系统的应用具有十分重要的意义。     

声光器件介质增透膜

本文报道用电子束镀膜的方法对声光器件用的几种晶体分别做了514.5nm,632.8nm,860nm,1060nm和1300nm等几种波长的增透膜试验。 TeO_2、PbMoO_4晶体蒸镀单层增透膜,透过率T≥96％;对低折射率材料的熔石英蒸镀ZnS-MgF_2非λ/4双层增透膜,透过率T≥99％。该工艺稳定、膜层质量好、透过率高,达到了声光器件研制的需要。