TiO2溶胶-凝胶光学膜制备工艺对其光学性质的影响

本文对TiO₂溶胶凝胶光学膜膜厚、折射率随不同温度作了在线测量,并讨论了在线温度对其光学性质的影响.考察了提拉速度对膜光学性质的影响。     

水解反应温度对溶胶-凝胶SiO2增透膜光学性能的影响

在制备高激光损伤阈值溶胶-凝胶二氧化硅增透膜的工艺中,水解反应温度对镀膜溶胶的形成和薄膜的光学性能都有很大影响。本文较为详细地研究了这一重要工艺多数对镀膜溶胶的颗粒度、分散性、稳定性的影响,以及它对薄膜增速效果的影响。     

水含量对溶胶-凝胶SiO2增透膜结构和性能的影响

利用正硅酸乙脂(TEOS)的碱催化,溶胶-凝胶法制备多孔SiO₂增透膜.较详细地研究了工艺参量H₂O/TEOS摩尔比对薄膜结构和性能的影响.结果表明,随H₂O/TEOS摩尔比的增大,薄膜厚度、折射率和致密度减小;而薄膜透射率增大.     

ZnO/SiO2 复合薄膜的光学性能

采用溶胶-凝胶法在玻璃衬底上制备ZnO/SiO₂复合薄膜,分别用XRD、TEM、SEM对样品的结构和形貌进行表征,并研究了不同ZnO含量对复合薄膜透过率及荧光特性的影响。结果表明,样品经500 ℃退火处理生成了SiO₂和ZnO,其晶粒尺寸为18.7 nm,薄膜具有双层结构。复合薄膜的透过率随着其中ZnO含量的增加而降低,禁带宽度减小,光学吸收边红移。样品在355 nm波长激发下产生了384 nm的紫外发射峰和440 nm的蓝光发射带,并随ZnO含量的增加而增强,它们分别来自ZnO的电子-空穴复合发光和缺陷发光,及ZnO/SiO₂复合薄膜双层结构的缺陷发光。     

溶胶-凝胶法制备SiO2-TiO2平板光波导工艺研究

采用溶胶-凝胶法制备了SiO₂-TiO₂平板光波导,计算了平板光波导通光条件,分析了硅/钛溶胶-凝胶材料的热性能,观测了平板光波导的结构形貌,并测试了其通光损耗。结果表明：经过200℃,30 min干燥处理的凝胶薄膜呈疏松多孔状态,对于非对称平板波导,存在芯层通光截止厚度,而且当SiO₂-TiO₂芯层厚度为0.5 μm时,SiO₂下包层厚度至少有6 μm才能防止1550 nm波长光泄露入单晶硅衬底中。制备的光波导对于1550 nm波长光传输损耗最小值为0.34 dB/cm。     

溶胶-凝胶法制备BaTiO3/SrTiO3多层膜的介电增强效应

采用溶胶凝胶法,在PtTiSiO2Si衬底上逐层制备了BaTiO3SrTiO3多层膜.从多层膜的XRD图可看出明显的双峰,分别对应为BaTiO3和SrTiO3的特征峰,表明样品已形成了多层膜结构.与同厚度的Ba05Sr05TiO3单层膜比较,BaTiO3SrTiO3多层膜的介电系数得到了明显的增强,在频率为10kHz时,周期为66nm的BaTiO3SrTiO3多层膜相对于同厚度的Ba05Sr05TiO3薄膜的介电系数从245增强到595,而损耗依然保持较低,分别为0029和0033.研究同时表明,BaTi 关键词： 溶胶-凝胶法 多层膜 介电增强     

不同后处理方法对溶胶-凝胶SiO2膜层抗污染能力的影响

以正硅酸乙酯作为前驱体,利用碱催化方式制备了SiO2溶胶,采用提拉法在K9基片上镀制SiO2单层薄膜,分别用热处理、紫外辐射处理、氨水加六甲基二硅胺烷气氛处理和酸碱复合膜4种后处理法对膜层进行处理,采用分光光度计、红外光谱、扫描探针显微镜、静滴接触角测量仪、椭偏仪等分析了薄膜的特性,通过真空环境加速污染实验对处理前后的膜层进行抗污染能力对比,结果表明：在碱性SiO2膜层上加镀一层酸性SiO2膜的复合膜层整体透过率仍保持在99%以上,疏水角达到128°,膜层真空抗污染能力大大加强。     

不同后处理方法对溶胶-凝胶SiO2膜层抗污染能力的影响

以正硅酸乙酯作为前驱体,利用碱催化方式制备了SiO2溶胶,采用提拉法在K9基片上镀制SiO2单层薄膜,分别用热处理、紫外辐射处理、氨水加六甲基二硅胺烷气氛处理和酸碱复合膜4种后处理法对膜层进行处理,采用分光光度计、红外光谱、扫描探针显微镜、静滴接触角测量仪、椭偏仪等分析了薄膜的特性,通过真空环境加速污染实验对处理前后的膜层进行抗污染能力对比,结果表明:在碱性SiO2膜层上加镀一层酸性SiO2膜的复合膜层整体透过率仍保持在99%以上,疏水角达到128°,膜层真空抗污染能力大大加强。     

TiO2 颗粒紫外区Mie散射特性

应用Mie散射理论对紫外光下TiO₂微粒光散射特性进行了理论分析与数值计算,得到了散射强度分布、偏振度与散射角、散射强度与参数X以及光学截面与粒子半径的关系。结果表明,前向散射强度随着粒子半径的增大而增强;当粒子半径为50 nm左右,散射截面和吸收截面达到最大值。     

不同后处理方法对溶胶-凝胶SiO2膜层抗污染能力的影响

 以正硅酸乙酯作为前驱体,利用碱催化方式制备了SiO₂溶胶,采用提拉法在K9基片上镀制SiO₂单层薄膜,分别用热处理、紫外辐射处理、氨水加六甲基二硅胺烷气氛处理和酸碱复合膜4种后处理法对膜层进行处理,采用分光光度计、红外光谱、扫描探针显微镜、静滴接触角测量仪、椭偏仪等分析了薄膜的特性,通过真空环境加速污染实验对处理前后的膜层进行抗污染能力对比,结果表明：在碱性SiO₂膜层上加镀一层酸性SiO₂膜的复合膜层整体透过率仍保持在99%以上,疏水角达到128°,膜层真空抗污染能力大大加强。     

溶胶-凝胶法制备的光学薄膜表面粒度及其分布

本文研究了溶胶-凝胶法制备的光学薄膜表面粒度及其分布,结果表明:膜表面的粒度大小与热处理温度及陈化时间有关,粒度分布函数可分为泊松分布、正态分布等.     

用溶胶-凝胶光学干涉膜改善白炽灯的发射光谱

叙述了为交通照明开发的卤钨白炽灯.这种灯涂有多层干涉膜,可用于雾灯、高色温灯、信号灯等给出了膜系设计,介绍了涂有这种膜的灯的特性和实验结果.     

紫外波段有机染料DMT掺杂SiO2薄膜的光谱特性

本文采用溶胶凝胶法合成了紫外波段有机染料DMT掺杂SiO₂薄膜和块体材料薄膜中掺杂浓度高达124×10^-2mol/L,块体材料浓度掺至15×10^-3mol/L由于SiO₂“笼”的束缚作用,在荧光光谱中未观察到荧光猝灭现象;由于SiO₂“笼”的极化作用,370nm的发射峰较其在环己烷中发生了34～44nm左右的红移;580～590nm的发射峰的量子效率比370nm的发射峰略高.     

多晶Ba2FeMoO6的溶胶-凝胶制备及其结构、磁性和磁电阻效应研究

采用一种特殊的溶胶－凝胶方法制备出具有纳米尺寸晶粒的双钙钛矿结构Ba2FeMoO6多晶材料，样品的晶粒尺寸和相纯度可以通过改变烧结温度和不同的混合流动气体Ar/H2比例加以控制，对样品的电磁输运性质测量表明，在约316K处出现顺磁到铁磁的转变，并且样品从室温到低温的一个很宽的温区出现了低场磁电阻效应。     

紫外波段有机染料DMT掺杂SiO2薄膜的光谱特性

本文采用溶胶 凝胶法合成了紫外波段有机染料DMT掺杂SiO2 薄膜和块体材料 薄膜中掺杂浓度高达 1 2 4× 1 0 - 2 mol/L ,块体材料浓度掺至 1 5× 1 0 - 3mol/L 由于SiO2“笼”的束缚作用 ,在荧光光谱中未观察到荧光猝灭现象 ;由于SiO2 “笼”的极化作用 ,370nm的发射峰较其在环己烷中发生了 34～ 44nm左右的红移 ;580～ 590nm的发射峰的量子效率比 370nm的发射峰略高     

透光导电ITO膜的制备及其光电特性的研究

采用溶胶-凝胶方法制备ITO膜,并从制备工艺上研究了各种因素对ITO膜光电特性的影响.最后制出的ITO膜厚度约为50nm,在可见光区平均透射比达97%,最高达99.55%,电阻率在2.0Ω·cm左右,最低达到0.31Ω·cm.     

离子辅助沉积氧化物薄膜的光学特性

考察了不同离子、离子能量、离子束流密度等制备参数对离子辅助沉积的TiO_2、ZrO_2和SiO_2薄膜的折射率、吸收和激光损伤阈值等光学特性的影响。     

膜系自动设计中的隧行方法

针法膜系自动设计可以从单层膜开始优化设计得到一个多层膜,但多层膜还必须克服局部极值得到最佳膜系设计。为此我们讨论了三种可以摆脱局部极值影响的隧行方法。     

计算光学涂层稳定性的改进方法和应用

本文应用鹤法得到光学涂层稳定性表达式。这些方法改进了涂层稳定条件的确定。应用这一方法,在掠角入射下对减反射涂层,全介质反射镜以及带通滤光片进行了计算。