光刻机物镜主动阻尼接口设计及测量系统布局

提出一种光刻机物镜主动阻尼接口方案及测量系统布局方案,采用有限元仿真方法评估了在工作台质心变化及动态冲击状态下物镜内部相对静变形及动态响应满足指标需求;结合测量系统布局设计了工作台水平向及垂直向补偿策略,实现了物镜至测量系统间的相对静变形及动态响应满足指标需求;采用机电联合仿真方法评估了物镜主动阻尼方案幅值衰减满足指标需求并通过现场实物开/闭环传函测试验证了仿真的准确性。     

用于MEMS加工的双面深度光刻机对准系统设计

比较了光刻机中几种常用的对准方式,并分析了其优缺点,在此基础上对双面深度光刻机底面对准系统的设计原理、结构及对准过程做了详细阐述,并进行了对准系统的精度分析,最后介绍了为系统实现所采取的其他技术措施。实践证明,该对准系统应用于深紫外双面深度光刻机中,系统运行稳定、可靠,完全能满足系统的精度要求。     

光刻机照明系统专利分析

为了解光刻机照明系统的技术发展方向和技术研究热点及技术成熟度,并为科研人员提供技术参考,对光刻机照明系统技术专利文献进行了检索,并对专利文献数据进行了统计分析,分别从专利权人分布、国际专利分类号分布、专利申请国分布和年度发展趋势及技术生命周期等几个方面进行统计分析,揭示了国内外光刻机照明系统专利申请的主要专利权人依次为阿斯麦、尼康、佳能和蔡司,专利文件分布的主要技术领域为半导体器件和其部件的制造处理等方面,专利文件的年度申请在2004年出现最高峰,之后开始下降,并结合技术生命周期曲线图,指出光刻机照明系统技术已经历了从萌芽、发展、成熟阶段。同时进行了重要专利文件的挖掘,分析了技术研究热点,追踪核心专利文件的技术发展脉络;并对偏振照明技术作出技术-功效矩阵分析图,分析出技术研究热点,并提出我国科研人员应利用未在我国进行保护的重要专利技术,为我国企业提出了专利申请的相关建议,节省研发时间。     

光刻机的演变及今后发展趋势

微电子技术的发展一直是光刻设备和技术发展与变革的动力。通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，结合比较极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来以极紫外光刻机、电子束曝光机和某种常规光刻机结合，来实现工业需要的各种图形的制备。     

通过对准信号强度模拟改进ASM步进器的对准精度

随着光刻技术进入亚微未领域,对准精度的要求变得更棘手。对准精度是对准信号强度的函数。因此,为了减少对准偏差,提高管芯成品率,基于实验室的工艺数据,在ASM步进器上对0.8μmEPROM多晶-1细致地进行了对准信号强度模拟实验。模拟实验的对准标记深度为112.7～126.5nm(假设在阱掩蔽氧化过程中,硅消耗46％)。第一层栅氧化层厚度为20±2.0nm,多晶-1层的厚度定为150nm,变化范围是135～170nm。在早期的工艺开发期间,多晶-1层所使用的抗蚀剂厚度是1.23μm,常得不到令人满意的对准结果。模拟强度曲线在这一光刻胶厚度处出现一个较大下降,这可以解释所看到的对准问题。根据模拟数据,多晶-1层的最佳抗蚀剂厚度是1.36μm,因为这时可获得良好的均匀的强度,并且受对位标记深度变化的影响最小。把抗蚀剂厚度改为1.36μm后,对准误差明显降低到最小值。氧化层厚度的变化对准信号强度无明显的影响。而多晶-1层厚度在影响光学对准来说是最重要的参数。笔者收集了对准信号的强度与生产线中硅圆片上抗蚀剂厚度关系的实际数据,其结果与模拟结果非常一致。在不同的实验室中,对氧化物/氮化物/氧化物(ONO)介质层曾获得类似的结果。若使用非最佳抗蚀剂厚度,则大多数硅圆片会被步进器拒收或造成严重的对准误差。依照对准信号强度     

一种检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法

提出一种精确检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法.将对准标记曝光到硅片表面并进行显影;利用光学对准系统测量曝光到硅片上的对准标记理论曝光位置与实际读取位置的偏差;由推导的位置偏差与非正交因子、坐标轴尺度比例、过程引入误差的线性模型,根据最小二乘原理计算出干涉仪测量系统的非正交性.实验结果表明,利用该方法使用同一硅片在不同旋转角下进行测量,干涉仪测量系统非正交因子的测量重复精度优于0.01μrad,坐标轴尺度比例的测量重复精度优于0.7×10-6.使用不同的硅片进行测量,非正交因子的测量再现性优于0.012μrad,坐标轴尺度比例的测量再现性优于0.6×10-6.     

光刻机光强影响因素分析

曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响。通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各种因素进行了论述和计算,为进一步改善曝光系统光强指明了方向。     

月球激光反射器指向角度计算及对准精度分析

月球激光测距（LLR）是地月间距测量精度最高的技术。其中,月球激光反射器（LRRR）是实现高精度月球激光测距的关键设备。中国计划在月面放置有人部署的新一代月球激光反射器,为使反射器有效工作,需调节反射器的俯仰角、方位角,使其指向对准平均地球。本文设计了一套算法,用于计算月球激光反射器指向对准所需调节的角度,同时分析了部署时间偏差、位置偏差对指向对准的影响。月球激光反射器指向对准偏差估计值约为2.7°,最大不超过5.0°,可以满足反射器对准精度优于5.5°的需求。设计的算法和开展的分析,可以为未来中国月球激光反射器部署任务提供参考。     

JB系列光刻机的原理及维修技术

简述了 JB系列光刻机的基本工作原理以及常见故障的分析和维修 ,同时给出了设备的日常维护保养措施。     

Nikon光刻机对准系统概述及模型分析

对准系统是光刻机中最精密复杂的部分,掌握对准原理是设计和使用光刻机的关键之一。阐述Nikon步进投影光刻机（Stepper）的对准机制,详细介绍目前应用于Nikon步进光刻机硅片对准的三种对准方式：LSA、FIA、LIA,比较它们的优缺点。并结合数学模型对影响Nikon对准模型信号强度进行分析,为提高对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用。     

“双一流”背景下“检测与转换技术”课程改革

在高校“双一流”建设背景下,落实以学生为中心的教育教学理念,针对当前“检测与转换技术”课程的教学现状和课程特点,本文从理论教学方法、课堂互动策略、讨论课方案、随堂测验方式、结课试卷方案、课程考核方案等方面提出对课程教学的改进措施,从新型师生关系的构建方面分析对教学相长的促进作用,充分调动学生的学习积极性,使学生深入理解和掌握检测与转换技术,满足学生的个性化培养需求,提升学生的综合素质、科研精神、创新能力和国际视野,增强学生的获得感和成就感。     

基于LabVIEW的MODBUS测控系统的实现

该文简要介绍了MODBUS通讯协议,阐述了MODBUS测控系统的结构。其次,在LabVIEW环境下,利用Windows API编程实现了MODBUS协议通讯模块,并对其有效性进行了验证。最后利用LabVIEW的Web发布功能对测控程序进行了发布。