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很多初学者都会被“光圈”、“快门”、“180”、“曝光补偿”以及“AV档”、“TV档”.“M档”等概念弄得晕头转向,虽然能把这些名词讲出来,看着解释也似乎还都明白,但并不一定真正理解。其实,这些功能无非都是为了达到同一目的——正确曝光。 相似文献
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随着等离子显示器(PDP)制作技术的逐渐成熟,光刻技术在PDP的制作中也越来越重要。本文论述了在PDP制作中影响曝光质量的有关因素,从曝光的主要影响因素进行阐述,并结合实例进行了分析论证。 相似文献
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《电子科技》2002,(18):56-56
个人电脑上有一些一旦记住以后会很方便的数字以及与这些数字对应的常识和惯例,比如,我们经常见到256这个顺口数字、1MB是1024KB以及普通显示器画面的纵横比是3∶4等等。相机曝光上也有许多常见的数字和约定俗成的东西。这里,我们就曝光调节来谈谈这些“准则”。首先,请读者看一看下面六张照片。尽管看起来一样,但是每一张的快门速度、镜头光圈和ISO感光度三项值都不相同。▲快门速度:1/4秒,光圈值:F8.0,ISO感光度:100▲快门速度:1/8秒,光圈值:F5.6,ISO感光度:100▲快门速度:1/15秒,光圈值:F4.0,ISO感光度:100… 相似文献
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ExposureCorrection 《数码》2003,(6):92-93
一位摄影大师曾经说过:“摄影就是一门和影的艺术”。所有的摄影参数的调节都是为了寻找那恰当或者某种具有个人意识的不恰当的光。即所谓的曝光之光量。 相似文献
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光刻机的曝光量和焦距会随着做片量的增加发生漂移,具体表现为曝光场内和圆片内出现曝光不均的质量异常。设计了针形解析图形和方形显开解析图形,利用Ultra Step 1000光刻机进行实验,分析了曝光量和焦距的变化对解析图形解析值的影响。结果表明,曝光量对针形光胶解析图形影响较大,焦距对方形显开解析图形的影响较大。设计了解析图形在曝光场内和圆片内的布局方案,以及在线检测曝光场内和圆片内的曝光均匀性的具体方法,利用该方法可以有效提高光刻机曝光均匀性的在线监控效率,提早预防曝光不均异常现象的发生。该监控方法可以应用于其他类型的光刻机。 相似文献
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在航空摄影中,快门曝光时间均匀性对于获得高质量的航空相片十分重要。为评测卷帘式航摄快门曝光时间的均匀性,根据有效曝光时间的分析计算,提出了一种可变缝宽式快门有效曝光时间均匀性的测试方法。在不同帘缝宽度下,依据光电测试法,利用每个测试位置的多次测量结果,运用最小二乘法得到帘缝宽度与有效曝光时间的拟合曲线,与理论曲线比较可衡量出有效曝光时间的不均匀性程度。最后对某卷帘式航摄快门进行了实验测试,测试结果表明有效曝光时间不均匀性为2.8%,满足快门4%的精度要求。经过飞行实验验证,所获得的照片均匀性良好,满足图像判读要求。 相似文献
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近年来的半导体集成电路的发展十分惊人,称这种集成电路为现在的集成化电子系统是很合适的.这就是所谓的系统LSE.其系统规模从大规模集成电路(LSI)向甚大规模集成电路(VLSI)扩大,并且器件数量向超过100万个的超大规模集成电路(ULSI)方向发展.21世纪初,ULSI系统本身就是电子仪器系统.可以说,它的发展给社会带来很大影响,以至出现了高速信息化社会. 相似文献
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孙云蕾 《电视字幕·特技与动画》2011,17(2):37-39
摄像的好坏与曝光量有很大关系,正确的曝光量需要正确的快门和光圈的组合.同样,学会手动调节光圈和快门速度是摄像师的基本功.本文对如何正确手动调节光圈和快门以及具体应用进行了探讨. 相似文献
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电子束曝光中电子散射模型的优化 总被引:4,自引:1,他引:4
提出了在0.1 keV~30 keV能量范围内进行电子束曝光Monte Carlo模拟的分段散射模型优化方案.在该方案中,对所有的弹性散射均采用精确的Mott弹性散射截面.而对非弹性散射,当能量处于E0≤10 keV,10 keV<E0≤20 keV和E0>20 keV时,分别采用了Jov修正的Bethe公式、通常的Bethe公式和相对论效应修正的Bethe公式来计算总能量损失率;当E0≤20 keV和E0>20 keV时,分别采用了Grvzinskv截面和Moller截面计算离散的能量损失率.发现模拟结果与实验结果很好地吻合,这比采用单一的散射模型和不考虑二次电子的Bethe公式得到的模拟结果更加符合实际的电子散射过程,其精度更高. 相似文献
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本文阐述一种具有电脉冲快门和图象运动补偿装置的高分辨力电视摄象机,介绍了解决卫星电视摄象的图象运动补偿方法,并给出了详细的工程设计以及飞机试飞实验结果。 相似文献
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丝网模版的正确曝光是模版制作的关键。该文从影响晒版曝光的工艺因素诸如感光乳剂、丝网、光源、曝光管理等方面去探讨与正确曝光之间的联系。 相似文献
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廉子丰 《电子工业专用设备》1996,25(1):1-8
本文介绍了液晶显示器制造装置的市场动态;对LCD用曝光机在生产工艺中的地位进行了分析,总结了各类曝光机的特点;并对几种典型的曝光机的独特技术进行了剖析,提出了选准突破口发展我国LCD装置业的设想。 相似文献