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在27keV Ar+离子轰击时,用收集膜技术结合俄歇谱仪(AES),研究了三元合金Cu76Ni15Sn9系统的择优溅射行为。同时使用扫描电子显微镜(SEM)与电子探针微分析(EPMA).观察了靶点表面形貌变化并测定了形貌特征微区的合金组份原子的相对百分浓度。结果表明,Cu原子较Ni原子、Ni原子较Sn原子,在所测定范围(0─60°)内择优发射。最后讨论了靶点表面形貌特征和“元素局域富集”现象对择优溅射过程的影响。
关键词: 相似文献
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用原子捕获膜技术结合卢瑟福背散射谱,测定了具有相同原子能量(16keV/原子)的~(25)Si_m~-(n=1,2)离子冲击Ag靶的溅射原子角分布。结果表明,~(26)Si_1~-冲击引起的Ag原子角分布较~(25)Si_2~-冲击在小发射角θ(Ag原子发射方向与靶表面法线方向之间的夹角)区有更大的增强。结合扫描电子显微镜对靶点表面的分析,我们认为这种角分布变化,可能暗示必须考虑靶点表面形貌特征差别的影响。
关键词: 相似文献
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利用嵌入原子方法的原子间相互作用势,通过分子动力学模拟,详细研究了贵金属原子在Pt (111)表面的低能溅射现象.模拟结果显示:对于垂直入射情况,入射原子的质量对Pt (11 1)表面的溅射阈值影响不大.当入射原子的能量小于溅射阈值时,入射原子基本以沉积为主 ;当入射原子的能量大于溅射阈值时,溅射产额随入射原子能量的增加而线性增大;当入射 原子能量达到200 eV时,各种入射原子的溅射产额都达到或接近1,此时入射原子主要起溅 射作用.溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似.研究表明:与基于二体碰 撞近似的线性级联溅射理论不同,当入射原子能量大于溅射阈值时,低能入射原子的溅射产 额正比于入射原子的约化能量和入射原子与基体原子的质量比.通过对低能入射原子的钉扎 能力分析,提出了支配低能溅射的入射原子反射物理机理.
关键词:
分子动力学模拟、低能溅射 相似文献
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离子轰击诱发表面原子偏聚的发现与研究离子轰击诱发表面原子偏聚(bombardment-indnced-gibbsian-segregation,简称BIGS)是1981年我国学者在研究离子轰击导致合金表面成分改变时观测到的一种新现象[1,2]。这种原... 相似文献
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采用嵌入原子方法的原子间相互作用势,通过分子动力学方法模拟了低能Pt原子与Cu,Ag,Au,Ni,Pd替位掺杂Pt(111)表面的相互作用过程,系统研究了替位原子对表面吸附原子产额、溅射产额和空位缺陷产额的影响规律,分析了低能沉积过程中沉积原子与基体表面的相互作用机理以及替位原子的作用及其影响规律.研究结果显示:替位原子的存在不仅影响着沉积能量较低时的表面吸附原子的产额与空间分布,而且对沉积能量较高时的低能表面溅射过程和基体表面空位的形成产生重要影响.替位原子导致的表面吸附原子产额、表面原子溅射以及空位形
关键词:
分子动力学
低能粒子
替位掺杂
表面原子产额
溅射
空位 相似文献
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固体酸SO^2—4/Ti—La—O的制备及催化酯化活性的研究 总被引:24,自引:0,他引:24
研制了稀土复合固体酸SO^2-4/Ti-La-O以均苯四甲酸二酐和2-乙基己醇的酯化为模型以应,研究催化剂制备条件与催化剂的表面结构对催化活性的影响。XRD表明SO^2-4/Ti-La-O在400℃~450℃焙烧呈非晶态,X光电子能谱解析中可知原子所处的状态已不完全和单组份氧化表面相同,金属原子极化程度增加了,氧化物表面的硫为高价氧化态S^+6,FT-IR表面SO^2-4以螯合状双配位方式吸附在金 相似文献
9.
采用嵌入原子方法的原子间相互作用势,通过分子动力学模拟详细研究了以不同角度入射的低能Ni原子与Pt (111)基体表面相互作用过程中的低能溅射行为.结果表明:随着入射角度从0°增加到80°,溅射产额Ys和入射原子钉扎系数S的变化均可以根据入射角θ近似地分为以下三个区域:当θ ≤ 20°时,Ys和S几乎保持不变,其值与垂直入射时接近,溅射原子的发射角分布和能量分布也与垂直入射时的情
关键词:
分子动力学模拟
入射角
低能溅射 相似文献
10.
用SEM及XPS方法对非晶态Ni65Nb35合金氧化处理以后表面的结构及化学组成进行分析。结果表明,弱氧化条件下,Nb以及Nb2O5的形式在表面偏析:强氧化条件下,Ni妈金属Ni及NiO的形式在表面偏析,金属原子与氧的亲和力可能是上述偏析过程的主要驱动力。 相似文献
11.
利用分子动力学模拟方法详细研究了低能Pt原子与Pt(111)表面的相互作用所导致的表面吸附原子、溅射原子、表面空位的产生及分布规律,给出了表面吸附原子产额、溅射原子产额和表面空位产额随入射Pt原子能量的变化关系.模拟结果显示:溅射产额、表面吸附原子产额和表面空位产额随入射原子的能量的增加而增加,溅射原子、表面吸附原子的分布花样呈3度旋转对称性质;当入射粒子能量高于溅射阈值时,表面吸附原子主要是基体最表面原子的贡献,入射粒子直接成为表面吸附原子的概率很小.其主要原因是:当入射粒子能量高于溅射能量阈值时,入射
关键词:
分子动力学
低能粒子
表面原子产额
空位缺陷
溅射 相似文献
12.
采用分子动力学模拟方法研究了样品温度对Ar+与SiC样品表面相互作用的影响。由模拟结果可知,SiC样品中Si原子的溅射产额随着温度的升高而增加,而温度对C原子的溅射产额影响不大。在相同温度下,Si原子的溅射产额要高于C原子的溅射产额。溅射出来的Si原子和C原子主要来源于样品的表层区域,样品中的Si和C原子密度、键密度及它们的成键方式也发生了较大的变化。初始样品中Si和C原子的密度是均匀的,而被轰击过后的样品表面Si原子的密度要高于C原子,而样品中部C原子的密度要高于Si原子。初始样品都是Si-C键,成键方式为Si-Csp3;被轰击过后又有Si-Si和C-C键,成键方式也发生了变化,还有Si-Csp1和Si-Csp2。 相似文献
13.
用卢瑟福背散射技术,测定了NiPd(48.2wt%Pd)合金在不同温度时的溅射原子角分布,从而确定了Ni和Pd原子的部分产额随样品温度的变化关系。结果发现:Ni和Pd的部分溅射产额在居里温度附近均有较大变化,而且Pd的产额变化幅度比Ni的变化幅度大;Ni是择尤溅射元素,但是在磁相转变过程中,其择尤溅射程度却随样品温度的升高而减小。经讨论后指出,上述现象可能是由于在磁相转变过程中原子表面结合能减小和离子轰击引起的表面偏析共同引起的。
关键词: 相似文献
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荷能离子轰击固体表面在往使表面产生特定的结构,因而改变溅射总产额和微分产额。这些变化是由于表面结构改变而引起的几种效应,例如弹离子入射角、形貌对发射粒子的屏蔽以及合金表面元素按微区局域富集等的影响而产生的,本文发展了一种考虑上述诸效应的理论方法,并详细讨论该方法在元素(Cd)和合金(AlxSn100-x)靶实验微分产额方面的应用。
关键词: 相似文献
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双离子束溅射沉积薄膜的光学特性与激光损伤研究 总被引:5,自引:1,他引:4
对氧化物薄膜的双离子束溅射沉积作用了系统地实验研究。考察了离子束溅射工艺参数对薄膜光学特性的影响。制备了折射率接近于块材料的TiO2和ZrO2薄膜,显著降低了TiO2,ZrO2和SiO2薄膜的光吸收损耗,TiO2和ZrO2薄膜的抗激光损伤阈值得到显著提高。用双离束溅射沉积1.06μm多层高反,是到了大于99.5%的高反射率,经高温退火处理的双离子束溅射沉积高反膜的抗激光损伤阈值同热蒸发沉积的高反膜 相似文献
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采用基于密度泛函理论的分子动力学方法,对α-A12O3(0001)表面A1,O原子空位缺陷及其对ZnO吸附进行了理论计算.电子局域函数显示了表面空位处的电子密度变化,表面Al原子空缺处有非常明显的缺电子区域,悬挂键临近O的电子密度增大,有利于对Zn的吸附;O原子空缺处的Al原子处存在孤立电子,其ELF值为0.05-0.3,将有利于同电负性较大的O或O^2-结合.通过吸附动力学模拟与体系能量的计算发现,表面缺陷显著增强了表面的化学吸附,空缺原子处都被吸附原子填补,吸附结合能远大于单晶表面的情况.在Al空缺的表面,由于ZnO的O与表面O形成双键,破坏了α-Al2O3(0001)表面O六角对称结构,减小了O的表面扩散,从而不利于规则的ZnO薄膜生长.相反,O的空缺表面,弥补了α-Al2O3(0001)表面O空位缺陷,不影响基片表面O六角对称结构. 相似文献
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用化学还原法制备了组成为Ni2.52B(原子比)的超细非晶态合金,并用AES研究了氩刻时间,温度及氧对其表面组成的影响,发现其表面存在硼化和氧化物硼两种硼物种;氧优先氧化表面的硼物种,并导致表面镍物种量的下降;对样品的热处理可导致表面可导致表面组成发生突变,镍物种量几乎消失。 相似文献