大视场高分辨率精缩制版镜头设计

前言精缩制版镜头为半导体集成电路制版工艺的重要设备之一。集成电路特别是大规模集成电路的制作对精缩制版镜头提出越来越高的要求。希望精缩镜头有尽量大的视场,尽量高的分辨本领。     

简化工序的激光蚀刻工艺

<正> 为了在超大规模集成电路的硅芯片上制作电路图案,目前采用的加工工艺主要包括感光剂涂敷、烧结、图案曝光、显影、蚀刻等7个过程。在整个制作过程中,一块基板往往要往复加工十余次。最近,日本东芝公司研制了一种制造超大规模集成电路的新的基础技术。这种新技术把电路图案的曝光和蚀刻工艺合并为一步,完全取消了感光剂涂敷等其他的工艺过程。新技术的发明是基于一种新现象的发现。东芝公司的科学家发现.如果在氯     

用体效应器件替代半导体集成电路能简化互连问题

在集成和大规模集成电路中相互连接图案太复杂,因而严重地限制了微型设备的发展。可能解决的一条途径是利用某种物质的体效应。这里表明,半导体材料中发生的一些体效应如何用来替代那些目前主要由集成线路产生的功能。     

集成电路同步幅射光刻镜扫描控制系统

在进行大规模集成电路光刻时 ,采用同步辐射光源是一项新技术。本文介绍了同步辐射光刻镜扫描控制系统。通过提高光刻镜扫描的控制精度和优选扫描振动频率 ,能够改善光栅的均匀度 ,以满足曝光的需要     

载波相移全息干涉计量

本文报道了一项称为载波相移全息干涉计量的自动相位估算的新技术。该技术的主要特点是不同相移的条纹图案可用双曝光全息重视。这样即可用来对与时间相关的问题进行自动相位估算。     

磁性量子元胞自动机功能阵列的实验研究

采用电子束光刻、热蒸镀和剥离工艺在室温下制备了多组磁性量子元胞自动机器件功能阵列. 实验研究了曝光剂量和曝光时间对三个不同间距参数磁性量子元胞自动机阵列图案的影响, 发现100 pA电子束束流和0.38 μs曝光时间可获得理想的阵列图案. 对制备的反相器阵列结构进行了磁力显微测试, 结果显示了正确的逻辑功能, 成功实现了不同间距参数功能阵列的实验制备. 此外, 实验还发现纳磁体阵列制备中容易出现缺陷, 模拟结果表明丢失纳磁体缺陷导致了信号传递反相.     

TDX-200透射电子显微镜自动曝光原理研究

通过分析透射电子显微镜的曝光机理,得出了荧光屏亮度与曝光时间之间的关系表达式。设计了TDX-200透射电子显微镜自动曝光电路,并通过实验对自动曝光参数进行了标定。通过对多种实际样品在不同工作模式下进行自动曝光试验,得到了相对清晰的电子显微像。结果表明,TDX-200透射电子显微镜自动曝光的设计满足要求。     

193nm光刻曝光系统的现状及发展

投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193 nm光刻设备曝光系统的发展现状和趋势,以及为提高曝光质量所采用的相关分辨率增强技术;通过分析曝光系统的构成和其中的关键技术,探讨了国内研制相关曝光设备所面临的挑战。     

铬盐感光胶的工艺性能分析

随着光学刻度技术的发展,对感光化学及材料的研究和应用巳显得非常重要。在工业照相领域,从标牌制作、印刷制版、量具刻度、印刷线路、光学刻度、全息照相乃至电子工业的大规模集成电路,都与感光材料密切相关。作为记录介质和中间掩膜的感光材料,种类繁多,工艺各别。它们可通过照相系统缩微各种图形,也能和母板接触复制各种分划。不同的感光膜层依靠光化学反应能记录精密刻划机械投影图形或接触式光刻图形,加工出明暗不同、正反各异的刻度模板,并     

193nm光刻曝光系统的现状及发展

投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节，曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193nm光刻设备曝光系统的发展现状和趋势，以及为提高曝光质量所采用的相关分辨率增强技术；通过分析曝光系统的构成和其中的关键技术，探讨了国内研制相关曝光设备所面临的挑战。     

新型温控仪的研制

本文提出了一种新型的温度控制仪     

光学小波匹配滤波器与图形识别

小波变换弥补了傅里叶变换的不足，在信号及图像处理方面具有广阔的应用前景。文章深入讨论了小波变换匹配滤波器的理论基础及光学实现方法，并将其用于图形识别，给出了计算机模拟结果，与传统的匹配滤波器进行了比较，证实了小波变换在光学信息处理中的优越性。     

大基阵指向性图的合成

本文借助对假想基阵的分析,求出任意形状大基阵指向性图和加权函数的对应关系,导出了加权函数的近似表达式。通过圆弧阵和线列阵两个数值例子,说明运用合成方法能实现预定的设计要求。设计波束宽度存在最佳值。以均匀间距线列阵作了实验验证,波束宽度理论值和测量值一致性较好。     

形态变换在模式识别中的应用

首先讨论数学形态学中的击中与否变换应用于模式识别，然后对击中与否变换进行改进，并应用于多目标识别（探测）系统，增加了识别（探测）的容错性。结果表明，只要结构元素选取得当，这种方法是可行的。     

目标红外迷彩伪装技术研究

随着红外迷彩伪装涂料的出现,利用其对目标红外热图像进行分割,破坏目标图像特征的特点,为目标红外对抗提供了一种新的有效手段.首先,以传热模型为基础,模拟出目标的表面温度,并通过实测得出背景的表面瞬态温度.然后,利用随机生成的方法,生成背景的红外纹理图像.最后,以目标与背景的辐射对比度为基础,对红外迷彩涂料的设计参数进行了优化,分析了红外迷彩涂料的设计参数和图案设计对目标伪装效果的影响,达到了较好的红外伪装效果.     

凹面镜成像规律的讨论

本讨论了物体在空间各区域时凹球面镜成像的规律。     

实现光学多特征图形识别的一种方法

本文提出从输入图形和参考图形的互相关阵决定输入图形在Schmidt正交化基函数(标准图形)上的投影,从而为多特征图形的识别提供了一种新方法,实验结果与理论相一致。 关键词：     

迈克尔逊干涉仪的干涉花样及调节

本较详细地讨论了迈克迩干涉仪在各种不同条件下产生的干涉条纹的性质及干涉花样。     

劈尖干涉条纹变形原因的研究

介绍了劈尖干涉条纹变形原因的查找方法和指导该实验采取的教学方法；论述了在实验教学过程中注重发挥教师指导作用的必要性。     

RADIATION PATTERN MEASUREMENTS ON A MILLIMETER-WAVE OPEN RESONATOR

Far-field radiation patterns can be used for identifying different kinds of resonant modes in a gyrotron cylindrical open resonator. The operating TE₀₂₁ mode is identified among its closest competitors TE₂₂₁ and TE₆₁₁ by measuring radiation patterns obtained experimentally based on millimeter wave source for exciting the open resonator. A good agreement between experimental and, theoretically predicted values was found.