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1.
为了提高852 nm半导体激光器的温度稳定性,理论计算了InGaAlAs、InGaAsP、InGaAs和GaAs量子阱的增益,模拟对比并研究了不同量子阱的增益峰值和峰值波长随温度的漂移。结果显示,采用In0.15Ga0.74-Al0.11As作为852 nm半导体激光器的量子阱可以使器件同时具有较高的增益峰值和良好的温度稳定性。使用金属有机化学气相沉积(MOCVD)外延生长了压应变In0.15Ga0.74Al0.11As单量子阱852 nm半导体激光器,实验测得波长随温度漂移的数值为0.256 nm/K,实验测试结果验证了理论计算结果。 相似文献
2.
设计并研制了室温连续工作的单模13 μm垂直腔面发射激光器(VCSEL),阈值电流为051 mA,最高连续工作温度达到82℃,斜率效率为029 W/A.采用InAsP/InGaAsP应变补偿多量子阱作为有源增益区,由晶片直接键合技术融合InP基谐振腔和GaAs基GaAs/Al(Ga)As分布布拉格下反射腔镜,并由电子束蒸发法沉积SiO2/TiO2介质薄膜上反射腔镜形成13 μm VCSEL结构.讨论并分析了谐振腔模式与量子阱增益峰相对位置对器件性能的影响.
关键词:
垂直腔面发射激光器
晶片直接键合
应变补偿多量子阱 相似文献
3.
采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法生长了InGaAs/GaAs应变量子阱,通过优化生长条件和采用应变缓冲层结构获得量子阱,将该量子阱结构应用于1 054 nm激光器的制备。经测试该器件具有9 mA低阈值电流和0.4 W/A较高的单面斜率效率,在驱动电流为50 mA时测得该应变量子阱光谱半宽为1.6nm,发射波长为1 054 nm。实验表明:通过优化工艺条件和采用应变缓冲层等手段,改善了应变量子阱质量,该结果应用于1 054 nm激光器的制备,取得了较好的结果。 相似文献
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《中国光学与应用光学文摘》2006,(1)
TN248.42006010122InGaAsP单量子阱激光器热特性研究=Thermal charac-teristics of InGaAsP SQWlasers[刊,中]/张永明(长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室.吉林,长春(130022)),钟景昌…∥半导体光电.—2005,26(4).—291-293从InGaAsP单量子阱激光器热效应分析入手,采用自行设计的热封闭系统对808nmInGaAsP单量子阱激光器温度特性进行了研究。实验表明,在23~70℃的温度范围内,器件的功率由1.12W降到0.37W,斜率效率由1.06W/A降到0.47W/A。实验测得其特征温度T0为321K。激流波长随温度的漂移为0.45nm/℃,其芯片的热阻为2.… 相似文献
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采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法生长了InGaAs/GaAs应变量子阱,通过优化生长条件和采用应变缓冲层结构获得量子阱,将该量子阱结构应用于1 054 nm激光器的制备。经测试该器件具有9 mA低阈值电流和0.4 W/A较高的单面斜率效率,在驱动电流为50 mA时测得该应变量子阱光谱半宽为1.6 nm,发射波长为1 054 nm。实验表明:通过优化工艺条件和采用应变缓冲层等手段,改善了应变量子阱质量,该结果应用于1 054 nm激光器的制备,取得了较好的结果。 相似文献
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LP-MOCVD生长温度对InGaAs性能的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
众所周知,InGaAs在InP和GaAs二个系列材料中具有最大的载流子迁移率和最大的饱和速率,InGaAs/GaAs应变量子阱可以把GaAs的发射波长从0.83μm延伸到1.1μm[1],而InGaAs/InP量子阱激光器又可以实现1.1~1.8μm内任意波长发射[2],并且,InGaAs/InP探测器的响应波长范围为0.93μm~1.65μm[3],因此,它不论对高速电子器件如HBT和HEMT,还是光电子器件如激光器(LD)和探测器(PIN和APD)都具有极重要的意义。 相似文献
8.
利用传输矩阵理论和TFCalc薄膜设计软件分析了分布布拉格反射镜和垂直腔面发射激光器(VCSEL)的反射率谱特性,对比了从谐振腔入射与从表面入射时反射率谱的差异,为白光反射谱表征VCSEL外延片提供了依据.利用Crosslight软件模拟了InGaAs/AlGaAs应变量子阱的增益谱随温度的变化特性及VCSEL器件内部温度分布,设计了增益-腔模调谐的VCSEL.采用金属有机物化学气相淀积设备外延生长了顶发射VCSEL,制作了氧化孔径为7.5μm的氧化限制型VCSEL器件,测试了器件的直流特性、光谱特性和眼图特性;6 mA,2.5 V偏置条件下输出光功率达5 mW,4级脉冲幅度调制传输速率达50 Gbit/s. 相似文献
9.
InGaAsP分别限制量子阱激光器 总被引:1,自引:0,他引:1
长波长InGaAsP量子阱激光器,以其低阈值、窄光谱线宽和高的调制频带宽等优良特性而成为大容量通信的基础。为此,我们利用低压MOVCD技术生长了1.62μm和1.3μm的InGaAsP材料,测得其77K光荧光(PL)谱线半峰高宽分别为18.7meV和28meV.利用X射线双晶衍射测得两种材料的晶格失配度不大于1×10-3.并生长了四个不同阱宽的InGaAsP/InP量子阱结构,测得77K温度下的PL谱,分析了阱宽对发光波长及半峰宽的影响,并提出在量子阱激光器中减小界面层影响的方法。在此基础上,生长了分别限制量子阱激光器结构,并利用质子轰击制备出条形结构激光器,测得其最低阈值电流为100mA.直流工作光谱峰值波长为1.52μm左右,单面输出外微分量子效率约为36%. 相似文献
10.
应变量子阱激光器阱宽与组分的确定和增益特性的理论研究 总被引:2,自引:1,他引:1
本文根据一维势阱和应变效应的简单理论,给出一种既简单又较准确的确定量子阱的组分和阱宽的方法。并且,针对较为常用的波长为1.3μm的InGaAs/InGaAsP材料以及最新兴起的InAsP/In材料应变量子阱激光器,利用该方法得到了组分和量子阱阱宽。再根据这些参数,利用变分法计算了量子阱的能带结构和二维电子气状态密度。然后,在选取不同的线形函数的情况下分别计算了对应于不同的注入载流予浓度时的这两种激光器的线性增益和微分增益。 相似文献
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1 horottionFor a long time GaSh--based IILV antimonial material is the main material systemfor nddinfrared semiconductor l...[l' 2] because of its wide wavelength range Of 1. 7 4. 5 mp offering a convenient choice for different applications. HOwever there aredifficuhies in its material growth and device fabrication. Iall--based InGaAs/InGaAsPstrained QW Inaterial become attractive for nddinfrared semiconductor lasers because ithas relatively loW thermcrresistance and serial resistance a… 相似文献
12.
The result of molecular beam epitaxy (MBE)-grown ridge-waveguide InGaAs/ InGaAsP/InP strained quantum well lasers at 2 μm wavelength is reported. The pulsed electrical luminescence spectrum at room temperature is observed with peak wavelength of about 1.98 μm. At 77 K the lasers become lasing in pulse regime, with threshold current of about 18~30 mA, peak wavelength of about 1.87~ 1. 91 μm, and single longitudinal mode operation in the current range of 160~230 mA. 相似文献
13.
本文首次报导了生长温度为550℃,以三甲基镓(TMGa)和三甲基铟(TMIn)为Ⅲ族源,用低压金属有机物气相沉积(LFMOCVD〕技术,高质量1.62um和1.3umInGaAsP及In0.57Ga0.43As0.98P0.04/In0.73Ga0.27As0.6P0.4量子阶结构的生长,并给出了1.55umGaAsP/InP分别限制应变量子阱结构激光器的生长条件,激光器于室温下脉冲激射,其阈值电流密度为2.4kA/cm2. 相似文献
14.
研究了InGaAsP/InP双异质结发光管在老化,存储过程中的退化现象及其影响因素.有快慢二种退化模式,正向I-V特性变坏是产生突然退化的最主要因素,焊料的润湿不良是导致器件退化的原因之一;在70℃,85℃老化及存储过程中,个别器件有源区内有DSD产生并长大,这并不是引起突然退化的原因. 相似文献
15.
Performance of 0.98-μm InGaAs strained multiquantum-well Fabry-Perot vertical transmission optical amplifiers (MQW FP VTOAs) for optical inter-board connection is analyzed theoretically, and compared with those of GaAs MQW, GaAs bulk, and InGaAsP bulk VTOAs. A low-power operation of about 2 mA and a cascadability of several hundred boards are predicted for an InGaAs strained MQW FP VTOA. 相似文献
16.
基于半导体量子阱激光器的基本理论,设计了合理的1.3μm无致冷AlGaInAs/InP应变补偿量子阱激光器结构,通过低压金属有机化学气相外延(LP-MOVPE)工艺在国内首次生长出了高质量的AlGaInAs/InP应变补偿量子阱结构材料,用此材料制作的器件指标为激射波长:1280nm≤λ≤1320nm,阈值电流:Ith(25℃)≤15mA,Ith(85℃)≤30mA,量子效率变化:Δηex(25℃~85℃)≤1.0dB,线性功率:P0≥10mW 相似文献
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In this contribution we report the research and development of 1.55 μm InGaAsP/InP gain-coupled DFB laser with an improved
injection-carrier induced grating and of high performance 1.3 μm and 1.55 μm InGaAsP/InP FP and DFB lasers for communications.
Long wavelength strained MQW laser diodes with a very low threshold current (7–10 mA) have been fabricated. Low pressure MOVPE
technology has been employed for the preparation of the layered structure. A novel gain-coupled DFB laser structure with an
improved injection-carrier modulated grating has been proposed and fabricated. The laser structures have been prepared by
hybrid growth of MOVPE and LPE techniques and reasonably good characteristics have been achieved for resultant lasers. High
performance 1.3 μm and 1.55 μm InGaAsP/InP DFB lasers have successfully been developed for CATV and trunk line optical fiber
communication.
Presented at the 1st Czech-Chinese Workshop “Advanced Materials for Optoelectronics”, Prague, Czech Republic, June 13–17,
1998.
Kunio Tada and Yoshiaki Nakano for their cooperation in the fabrication of the novel gain-coupled DFB lasers. 相似文献
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本文研究了有源层受主浓度(Pa)对InGaAsP/InP双异质发光管特性的影响。有源层受主浓度Pa≈2×1017~1×1018cm-3的器件,具有较大的光输出功率P≥1mW;截止频率fĉ为30~80MHz,并且有正常的Ⅰ-Ⅴ特性。有源层浓度高于上述浓度的器件,光输出功率降低,并且具有异常的Ⅰ-Ⅴ特性。在器件光谱半宽△λ=(λ2/1.24)nkT关系式中,n值是有源层受主浓度(Pa)的函数。上述结果表明:有源层受主浓度(Pa)是影响器件特性的重要因素之一。 相似文献