高纯水制备技术

近年来,随着大规模集成电路研制工作的发展,对高纯水中离子、微粒、细菌和胶体都提出了苛刻要求,这些杂质对MOS器件参数和成品率影响极大。在制备高纯水中,除了严格管理和操作之外,还必须选择合理流程和装置。 为了进一步改善我室水质以满足静态4K RAM和动态16KMOSRAM电路研制工作的需要,八二年分别应用电子工业部第十设计院及江苏宜兴超滤设备作为高纯水的后处理。根据永川地区水质状况,选用宜宾D201多孔树脂、采用多级过滤、微滤,超滤和紫外线杀菌等技术作后处理系统。为我室MOS电路研制工作提供了高纯水。     

薄膜晶体管彩色液晶显示器厂生产用纯水制备系统论述

结合具体工程设计实例，论述薄膜晶管彩色液晶显示器厂生产用纯水制备系统。     

高纯水制备工艺的两点改进

一、凝聚过滤法预处理原水国内外电子工业用高纯水,大多用市政自来水或厂备深井水作为原水来制备.预处理工艺一般仅包括选用各种粗、细及活性炭吸附过滤器,除去原水中各种悬浮颗粒、胶体、有机物、细菌、色素及产生的浊度等.很少用到加药凝聚过滤预处理.     

高纯水的制取

通常采用电阻率、粒子大小和细菌数目来衡量高纯水的纯度。目前主要以电阻率为标准,它的单位以兆欧·厘米来表示。水在25℃时的最高电阻率为18.3兆欧·厘米。水质的好坏与电阻率的高低成正比。 按电阻率高低,可将纯水分为四类: (1)软化水:硬度为0.1～5°之间; (2)脱盐水:25℃时电阻率为0..1～1兆欧·厘米; (3)纯水:25℃时水的电阻率为1～10兆欧·厘米; (4)高纯水:25℃时水的电阻率为10兆欧·厘米以上。 由于用途不同而对水的质量的要求也不同。如,对于集成电路的生产用水,其要求是:电阻率为18～19兆欧·厘米,粒子尺寸<0.45微米,细菌数为0～10个/毫升。     

对反渗透器生产高纯水的初步评价

一、试验为了统一条件,便于比较,水温恒定于24℃左右,原水电阻率为2.8～3kΩ·cm;试验装置如图1所示.反渗透器直径为68mm,长500mm,工作压力为27～28kg/cm~2.在回收率为60%时,脱盐率可达90%,出水量为15升/小时;     

用于高纯水制备中外压式毛细管超过滤器

本文介绍了外压式毛细管超过滤器的结构、性能，并与内压式毛细管超过滤器进行了对比。外压式毛细管超过滤器完全可以除去７０　以上的胶体、二氧化硅、细菌和内毒素，是适应ＶＬＳＩ需要的最佳终端设备。     

高纯水技术发展的新趋势

随着科学技术的不断发展,高纯水在现代科学、现代工业、尤其是在电子工业生产中的重要作用,正在日趋突出、日益显著。它不仅与电子产品的质量及成品率有着直接的关系,而且对     

兆位电路用高纯水,气和化学试剂的质量控制

本文阐述了高纯水、高纯气和高纯化学试剂的质量对兆位电路的影响,研究了高纯水中颗粒、金属、非金属、细菌以及总有机炭对VLSI性能的影响,研究了半导体器件工艺中氯化氢、氨、氮及硅烷气体中氧、水、二氧化碳、总碳氢化物等杂质对VLSI工艺的影响;研究了化学试剂中杂质对VLSI工艺的影响。     

大规模集成电路工艺用高纯水及其与电路成品率的关系

为了制备大规模集成电路工艺用高纯水,本文描述了我所高纯水制备过程中各部分的水质及控制指标。文章还介绍了用普通的光栅光谱仪、火焰原子吸收分光光度计及万能分光光度计等仪器检测高纯水水质的一系列方法。为了明确高纯水中Na含量对电路成品率的影响,文章给出了在工艺基本稳定的情况下Na含量与电路相对成品率的统计曲线和讨论。     

高纯水与紫外线杀菌技术

紫外线杀菌装置在电子工业高纯水制造工艺中得到广泛应用。本文对紫外线杀菌原理、杀菌效果的影响因素、杀菌装置的构造等方面进行了讨论，并介绍了近年来开发的箱内浸水式杀菌装置。     

大规模集成电路工艺中的高纯水

一、水在大规模集成电路工艺中的意义 1.电离杂质的影响 据报导如果在硅片表面二氧化硅膜上附着粒径为0.1μ的氯化钠粒子,由于潮解作用,可扩展为半径50μ的圆,这时钠的表面浓度为1.5×10~(11)/cm~2,这些钠如果都变为可动离子在1000A的氧化膜中移动,则使MOS开启电压偏移0.7V,这个值足以使产品造成不良影响。又如在硅片上附着粒径为0.1μ的金粉,热处理全部扩散至基片中,并均匀地分布     

大功率发射机高纯水冷却系统设计

发射机中一些大功率器件(如前向波管、行波管、速调管等)的强迫液体冷却是一种常用的冷却方式。本文结合实例比较系统地介绍了雷达发射机前向波管加行波管放大链的全密封纯水冷却系统的设计计算等有关问题,提出了全密封纯水冷却系统的设计方法。     

高纯水系统的污染控制管理

一、引言 高纯水的制取是一个复杂的物理、化学、生物过程。为保证高纯水系统能够正常可靠地运行,必须解决好运行中的若干问题,而最重要的是对系统进行污染控制管理。有效地控制水质污染,提高系统运行的稳定性,这是非常重要的关键问题。     

大功率发射机高纯水冷却系统设计

发射机中一些大功率器件的强迫液体冷却是一种常用的冷却方式。本文结合实例比较系统地介绍了雷达发射机前向波管加行波管放大链的全密封纯水冷却系统的设计计算等有关问题，提出了全密封纯水冷却系统的设计方法。     

高纯水与紫外线杀菌技术

紫外线杀菌装置在电子工业高纯水制造工艺中得到广泛应用。本文对紫外线杀菌原理、杀菌效果的影响因素、杀菌装置的构造等方面进行了讨论,并介绍了近年来开发的箱内浸水式杀菌装置。