N-苄基吲哚三碳菁染料的合成及性能

合成了5种N-苄基吲哚三碳菁染料,通过红外光谱、核磁共振氢谱及元素分析确证了其结构,并研究了电子吸收光谱、荧光光谱、光稳定性及溶解度。结果表明,染料溶液和膜的最大吸收波长均为780～830nm;染料在二氯乙烷中的溶解度大于在乙醇中的溶解度;氮原子上苄基的引入极大地改进了染料的光稳定性(与HITCI比较).     

新型水溶性荧光标示剂吲哚方酸菁染料的合成及光谱性能

用方酸与不同的N烷基取代吲哚啉季铵盐缩合制备了一系列对称的水溶性方酸菁染料. 通过核磁共振氢谱和质谱对合成的染料结构进行了表征, 研究了它们在不同溶剂中的吸收和发射光谱. 结果表明, 随着溶剂极性的增大, 染料的吸收光谱发生蓝移, 表现为负向溶剂化效应, 在极性溶剂中的荧光量子产率比在水中的大. 考察了N位取代基对染料水溶液光稳定性的影响, 结果表明在吲哚环N原子上引入较大的苄基有助于提高光稳定性, 且随着苄基上取代基吸电子能力的增强, 染料的光稳定性增强.     

含镍配合物阴离子的吲哚三碳菁合成及性能

本文合成三种含镍配合物阴离子的吲哚三碳菁染料,通过红外光谱、核磁共振氢谱及元素分析确定其结构,同时研究了电子吸收光谱、溶解度及光稳定性。结果表明,镍配合物负离子引入,染料的稳定性有所改进,但在有机溶剂中溶解度下降。     

吲哚二碳菁染料的合成

合成了五种N－烷基吲哚二碳菁染料，通过质谱、核磁共振氢谱及红外光谱确证了化合物结构。测定了化合物在溶液中的紫外吸收光谱和溶解度，讨论了溶解度、熔点与染料分子结构的关系。     

含N-烷基吲哚环方酸菁染料的合成及性能

本文合成了七个N-烷基取代吲哚环的方酸菁染料,通过红外光谱、核磁共振氢谱、质谱与元素分析确认其结构。测定它们的电子吸收光谱、熔点、溶解度和光褪色。结果表明共轭链上引入方酸桥环提高了光稳定性,N-烷基对染料的λmax的影响很小,但较大地改进了溶解度与熔点,带有支链的烷基有更好的溶解性能。     

近红外吸收菁染料分子链结构对其光氧化稳定性能的影响

本文对具有不同分子链结构及不同链长,而母核结构分别为吲哚类及喹啉类的六种菁染料在溶液中的光氧化稳定性能进行了研究。结果表明菁染料的光褪色主要是由光氧化反应所致,当在分子链上引入不饱和环体结构时,可以使菁染料分子的光稳定性能增加;而随着分子链长的增加菁染料的光氧化稳定性能则明显下降。通过顺磁共振谱测定结果表明,在菁染料的自敏光氧化反应原初过程中,既存在单重态氧过程又存在超氧负离子过程。     

CTP用红外吸收剂的合成与性能

合成了4种菁染料型CTP用红外吸收剂,借助于红外光谱、核磁共振氢谱确证了结构,利用HPLC测定纯 度,并研究了其电子吸收光谱、饱和溶解度、光稳定性和光敏性能。     

菁染料薄膜的光谱性能及稳定性的研究

本文研究了6种长链菁染料薄膜的光谱特性与光稳定性,以及两种抗氧剂对其薄膜光稳定性的影响。研究表明,结构相近的菁染料利用旋涂法成膜后,光稳定性与其母核的结构有关,依吲哚>喹啉> 唑>噻唑>硒唑顺序而变,与溶液状态下相类似,两种抗氧剂均为有效的单重态氧猝灭剂,都能提高菁染料的光稳定性。且抗氧剂的用量对染料的稳定性也会产生一定的影响     

吲哚碳菁染料的合成及其光谱特性的研究

将(未)确定的1-(3'-磺酸丙基)2,3,3-三甲基吲哚啉内盐与原乙酸三乙酯在吡啶或酸酐中回流合成了五个氮原子上带有磺酸丙基的取代吲哚碳菁染料. 这些染料和杂环氮原子上带有烷基取代的吲哚碳菁相比, 它们具有较高的熔点, 在极性溶剂中具有较高的溶解度. 这些染料的最大吸收值在540～580nm之间, 并具有较高的消光系数(1～2×10^5L·mol·cm^-^1) .     

菁染料和份菁染料的合成及其溶液的光稳定性研究

利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器,研究了菁染料和份菁染料的光降解动力学.研究结果表明,染料在乙腈溶液中的光褪色反应遵循假一级或零级动力学衰减.与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料具有相对较好的光稳定性.     

菁染料和份菁染料薄膜的光稳定性研究

利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器研究了菁染料和份菁染料薄膜的光降解动力学.与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料薄膜具有相对较好的光稳定性.运用量子化学中的SCF-MO-PM3方法,全优化计算了这些染料的分子几何构型和电子结构,并解释了染料的光稳定性与其分子结构的关系.     

菁染料和份菁染料溶液的光降解机理的研究

利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器,研究了菁染料和份菁染料溶液的光降解动力学,认为染料在乙腈溶液中的光褪色反应服从假一级或零级动力学.利用GC/MS光谱仪检测了染料的光降解产物.与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料具有相对较好的光稳定性.研究结果表明,菁染料光降解反应的中间体可能是染料的半氧化态Dye⁺,并利用纳秒级闪光光解技术研究了Dye⁺的瞬态吸收光谱.     

苯并噻唑类核酸分子荧光探针的合成及光谱性质

设计合成了3种两端杂环氮原子上具有不同取代基的苯并噻唑类不对称三甲川菁染料,并对染料的结构进行了表征。 测试了染料在乙醇中的吸收和荧光发射光谱,染料的最大吸收值和荧光发射值分别在629~635 nm和656~672 nm之间。 染料8、9和10的斯托克斯位移分别为23、37和27 nm。 染料在溶剂中基本无荧光,荧光量子产率小于0.021,可以极大的降低染料自身的荧光背景干扰。 染料的光降解实验表明,两端杂环氮原子苄基取代后可以明显增强染料的光稳定性。 测试循环伏安曲线得到染料的氧化电位分别为0.535、0.456和0.399 V,氧化电位越大,光降解速率常数越小,与光降解实验得到的降解速率常数结果一致。     

新型不对称苯并噻唑三次甲基菁染料的合成及光稳定性研究

合成了系列杂环氮原子具有不同取代基的不对称苯并噻唑三次甲基菁染料,染料结构经过质谱、1H NMR表征.测试了染料在乙醇中的吸收和荧光发射光谱,染料的最大吸收值和荧光发射值分别在628～631和662～666 nm之间.染料在溶剂中几乎无荧光,可以极大的降低染料自身的荧光背景干扰.染料的光降解实验表明:喹啉环上辛烷基取代和噻唑环上苄基取代时,染料的光稳定性最强.染料8a～8d的光降解速率常数分别为6.38×10-4,12.5×10-4,2.68×10-4和6.30×10-4mol min-1.循环伏安实验法测试了染料的氧化电位.     

氯取代硫三碳菁染料的合成及性能

本文合成了七个硫三碳菁.其中四个具有桥环的菁染料。测定了它们的电子吸收光谱,讨论了结构对光稳定性的影响。并发现镍络合物能有效地抑制菁染料的光退色。     

吲哚碳菁染料的合成及光谱特征

在吡啶中, 吲哚啉碘盐与原乙酸三乙酯缩合合成了一些新的吲哚碳菁染料.根据紫外-可见光谱, 荧光光谱讨论了它们的取代基和光谱特征的关系.     

新型不对称五甲川菁染料的合成及光稳定性能研究

合成并表征了5种不对称五甲川菁染料,染料在甲醇中的最大吸收和荧光光谱在646—666nm之间.光降解实验证明两端取代基结构呈不对称的染料,其光稳定性明显高于两端取代基结构对称的染料.染料荧光光谱和pH值的关系表明,染料中引入苯环取代基可以增强染料在酸性或碱性溶液中的稳定性.     

新型含羧戊基不对称五甲川菁染料的合成及蛋白标记

以磺酸基苯肼和7-甲基-8-氧代壬酸为原料合成了2,3-二甲基-3-羧戊基-3H-吲哚-5-磺酸;以2,3,3-三甲基-3H-吲哚-5-磺酸和1,3-丙磺酸内酯为原料合成了1-磺酸丙基-2,3,3-三甲基-3H-吲哚-5-磺酸;然后通过半菁合成法合成了一种新型水溶性不对称五甲川吲哚菁染料(Cy5)。产物经C18反相硅胶柱分离,收率57%,其结构经1H NMR、HRMS进行确证。并检测了目标化合物的光谱性质,初步探讨了其在生物标记方面的应用。染料具有良好的水溶性和光稳定性,水溶液的最大紫外吸收波长和最大荧光发射波长分别为646和666 nm,荧光量子产率为0.2,用n(活化菁染料)∶n(牛血清蛋白)=2∶1标记蛋白,D/P值为1.56。     

吲哚菁染料的研究进展

吲哚菁染料以其特有的结构, 已成为在光谱增感、光盘存储、生物分析、太阳能电池等方面应用广泛的染料品种之一. 综述了十五年来吲哚菁染料的合成进展, 对其应用现状作了简要介绍.     

五甲川菁敏化ZnO纳米结构电极的光电化学行为

采用一种自己合成的新染料五甲川菁染料（Ｃｙａｎｉｎｅｄｙｅ,以下简称ＰＭＣ）——敏化ＺｎＯ纳米结构多孔膜,染料结构由核磁共振、元素分析等数据确定,其结构式如下：测定了其光电流作用谱,光电流瞬态谱和ＵＶＶｉｓ吸收光谱等。采用循环伏安法及ＵＶＶｉｓ吸收光谱,以确定染料电子基态和激发态能级位置,结合光电化学结果,初步探讨了其光致电子传递机理。１　实验部分１１　试剂及实验材料光阳极导电基底ＯＴＥ为铟锡氧化物导电玻璃（北京建材设计院生产,方块电阻８Ω·ｃｍ－２）。所用试剂均为分析纯,使用前未经进一步…