光学干版和制版软片的研究

<正> 随着光学仪器工业的发展,光学分划零件制造日益广泛地采用了印刷、半导体、普通摄影、航测及光谱等多种型号的干版和制板软片,用于制造分划零件、全息光栅板及标牌、面板、印刷电路版的底版等。使用胶片的品种涉及到多种行业,并有专业化系列化的发展趋势。本文将可用于光学分划制造的各种干版和制版软片统称为光学干版和光学制版软片。系统研究光学干版和制版软片,对目前光学仪器制造工业的发展,尤其对分划零件的制造水准将产生重大的影响。     

金属照相复制工艺

重点介绍用于玻璃基体光学元件(如高精度分划板、度盘等)和金属基体分划件(如外用的度盘、游标、刻尺等)的金属照相复制工艺。     

复制法制造光学零件

复制法制造光学零件是美国在复制光栅的基础上于七十年代中期发展起来的新工艺。它不但为非球面和其它特殊形状的光学零件成批生产创造了条件,而且给光学设计带来许多灵活性。这种新工艺首先由美国国防部门应用于军事和空间技术的某些特殊光学零件的制造(例如人造卫星望远镜系统、空中情报收集及照相系统的光学零件),目前已推广到民用市场(例如研究所的某些分析仪器、照相机系统、投影仪系统及信息处理系统中的光学零件)。美国已建立一个专门复制光学零件的公司,并有六个光学公司增设了光学零件的复制车间。图1以非球面反射镜为例说明了光学零件     

初缩照相中图板尺寸与拍摄距离的计算

用照相方法制取光学零件的基本原理是,将欲制造的光学零件按其精度要求,以一定的放大倍率在图板上绘制零件的放大图形。再用照相机把它按一定的比例拍摄下来。一般,这种照相分两次进行,即初缩照相和精缩照相,从而达到提高零件精度的目     

照相陶瓷分划

光学工业中,光学元件标线板的制作方法大体上可分为机械刻度法和照相法两类。刻度法包括刻度腐蚀法,刻度真空镀铬法等。照相法包括无底层虫胶复制真空镀铬法,火棉胶干版胶合保护法,火棉胶干版焙烧法即照相陶瓷分划等。以上各种加工方法用在不同的要求中,它们各有所长。照相陶瓷分划在火棉胶干版中是最牢固的一种,不用胶保护玻璃,能经得住一定的机械     

特凸球面分划镜的制造

我国新设计的一种新式高射机枪配的光学瞄准镜,有一块特凸的双胶合球面分划镜,这种胶合球面分划镜是由一块在凸面刻有分划线条并着锌白的分划镜和一块在凹面上由照相复印所得银线条的分划镜胶合而成,两块球面分划镜的几何尺寸及主要技术要求如图1所示:     

光刻胶照相镀铬法

<正> 一、前言在六十年代,我国开始用光刻胶制造晶体管集成电路,光学界也很快将这一工艺用于照相刻划了。由于光刻胶具有分辨率高、性能稳定、抗腐蚀力强等优点,所以它在光学工业中很有发展前途。在用虫胶照相复制变黑处理制取分划时,线条牢固性不好,需要用玻璃胶合保护。而用光刻胶就可以直接用照相腐蚀铬制取分划,牢固性好而不必用玻璃保护。下面介绍一种以聚乙烯醇肉桂酸酯为光刻胶的照相镀铬分划工艺。二、问题的提出及解决办法众所周知,光刻胶是应集成电路的需要而发展起来的,因此它对于相应的基体(SiO_2、Si、Al和其它金属)具有良好的粘结性。但光刻胶聚乙烯醇肉桂酸酯对玻璃的附着力是很差的,经曝光、显影后用水一冲整个膜层就会脱     

正性光刻胶制作光学分划图形技术

<正> 光刻胶是为适应集成电路的需要而发展起来的一种胶种,有正性和负性二种类型。迄今为止,光学分划元件大部分仍沿用负性胶。最近我们在制作的光学零件分划图形中,用近期     

光学零件接触式曝光机

<正> 我们经过一年的实践,研制出了一台接触式曝光机。这台装有冷却系统、转动式真空吸附复印台、滚动式自动控制快门。和可调光阑的曝光机,具有操作简便和准确、曝光自动控制、夹具通用化和光源稳定等优点。适用于各种大小、各类精度的光学零件的照相复制,较原有设备可提高工效20～25%。整机结构如图所示。     

火棉胶照相——陶瓷烧银工艺

一、概况目前,用火棉胶照相——陶瓷烧银法制作分划主要有如下优点:1.用陶瓷烧银法制作的分划,从侧面用灯光照明时有辉光,因此刻线的亮度,特别是夜间(暗视场)较大。2.与刻度腐蚀法相比,火棉胶照相——陶瓷烧银法制作的分划具有线齐、角尖、颗粒好、密度大、便于加工、尺寸变化小等特点,而且零件配对合格率高。用陶瓷烧银法制作的分划机     

铬盐感光胶的工艺性能分析

随着光学刻度技术的发展,对感光化学及材料的研究和应用巳显得非常重要。在工业照相领域,从标牌制作、印刷制版、量具刻度、印刷线路、光学刻度、全息照相乃至电子工业的大规模集成电路,都与感光材料密切相关。作为记录介质和中间掩膜的感光材料,种类繁多,工艺各别。它们可通过照相系统缩微各种图形,也能和母板接触复制各种分划。不同的感光膜层依靠光化学反应能记录精密刻划机械投影图形或接触式光刻图形,加工出明暗不同、正反各异的刻度模板,并     

利用数值模拟测量闪光照相中H-D曲线

 在分析高能闪光照相中传统实验方法不足的基础上,提出了采用Monte Carlo模拟结果来建立底片光学密度与照射量之间的关系,并对一个球对称客体进行了实验照相。采用Monte Carlo方法分析了底片光学密度分布左右不对称的各种因素,认为底片光学密度分布左右不对称主要是照相器件几何对中不理想造成的,并说明了底片光学密度左右平均的合理性。在此基础上介绍了H-D曲线的生成方法,采用Silberstein理论得到了具有较高精度的H D曲线。这种结合Monte Carlo模拟的H-D曲线测量方法不但避免了照射量测量误差,而且还考虑了H-D曲线对X射线能谱的依赖关系,更能体现实际情况,具有较高的精度。可用于球对称客体或柱对称客体的辐射照相。     

利用数值模拟测量闪光照相中H-D曲线

在分析高能闪光照相中传统实验方法不足的基础上,提出了采用Monte Carlo模拟结果来建立底片光学密度与照射量之间的关系,并对一个球对称客体进行了实验照相。采用Monte Carlo方法分析了底片光学密度分布左右不对称的各种因素,认为底片光学密度分布左右不对称主要是照相器件几何对中不理想造成的,并说明了底片光学密度左右平均的合理性。在此基础上介绍了H-D曲线的生成方法,采用Silberstein理论得到了具有较高精度的H D曲线。这种结合Monte Carlo模拟的H-D曲线测量方法不但避免了照射量测量误差,而且还考虑了H-D曲线对X射线能谱的依赖关系,更能体现实际情况,具有较高的精度。可用于球对称客体或柱对称客体的辐射照相。     

光学复制

<正> 光学复制就是将光学零件的表面(母模上)利用脱模膜和环氧树脂转移到非光学表面(基体)上,并保持光学品质,使非光学表面变为光学表面,其原理如图1所示。根据文献记载,     

双星点定焦法的讨论

一、概述基于几何光学原理进行的平面光学零件最小焦距测量中,或物镜焦距配对测量中,提高测量精度的关键在于提高确定焦面位置的精度。现在常用的几种定焦方法中,如使被观察的象与目镜(或显微镜)中的分划板同时看清楚的所谓清晰度定焦法,使被观察的象与目镜中     

光学分划元件——酸蚀液的选配

<正> 近代科学技术的迅速发展,对光学仪器的精度要求愈来愈高。而在影响光学仪器精度的各种因素中,光学分划元件的精度和分划线的质量确是最直接、最重要的因素。目前,虽然生产光学分划元件的方法有好几种,但刻划-酸蚀法不仅在我国仍被广泛地采用着,而且就是象美国、日本等工业先进国     

用拼刻法刻制大型中间板

<正> 目前,光学仪器中的分划板,其制作工艺一般采用两种手段:一是刻度;二是照相。对于简单、线条不多、线粗一致、数字和字母较少、精度不太高的分划,经常采用常规工艺即做成铜质的模板在仿刻机上进行比例缩放刻     

景物通过透镜成象的照度公式

在光学中常常会遇到这样的问题,即如何正确地计算出某一景物通过透镜成象后在探测器的面板上或照相底版上的照度,以便正确地确定曝光时间等。下面来推导一下这个象照度的计算公式。     

照像分划板底图的刻漆膜制图法

通常照相分划板制造的第一步,就是按产品图绘制精确的放大底图。有了良好的放大底图,才能照出高质量的分划板。一般绘制放大底图,要付出大量的人力与时间,有时一个复杂的图形,一个有经验的绘图人员需要几个月才能完成。我厂自行设计了一种仪器,其中分划板     

光学仪器胶粘剂应用现状及进展

本文是在对国内光学零件加工及光学仪器产品胶粘剂的应用现状与研究动态的调研基础上，结合作者的工作，综合介绍了光学零件加工过程中工艺用粘接材料与工艺材料用树脂结合剂；光学零件、光学分划元件、光学偏振元件、光学塑料元件等的胶合用光学胶；光学仪器产品结构用结构胶及非结构胶；光学仪器产品及部件用密封胶等的应用现状及其进展概况