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本文通过实验说明采用固着磨料抛光不同玻璃材料的光学零件时,在抛光液(水)中有选择的加入适量添加剂,可使抛光效率提高0.2~1倍多,并能改善零件表面粗糙度. 相似文献
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添加剂在氧化铈抛光中的作用机理的探索 总被引:2,自引:0,他引:2
本文在试验基础上,对添加剂在氧化铈抛光中作用机理—提高氧化铈抛光效率的机理和防止玻璃抛光表面腐蚀的机理作了探索,指出在一定的抛光工艺条件下,每一种添加剂对于一定品位的氧化铈和一定牌号的光学玻璃有一最佳的加入量。 相似文献
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氟化镁整流罩的高速抛光 总被引:2,自引:0,他引:2
整流罩在高速飞行中对空气进行整流 ,并同时起光学窗口的作用。热压多晶氟化镁常用作整流罩材料。但在加工中发现 ,这种材料易出现散射颗粒 ,严重影响零件的表面质量。通过高速抛光工艺的摸索 ,提高了零件的表面质量 ,缩短了抛光时间 ,提高了生产效率。 相似文献
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本文总结了采用球面零件作为试件,在高速抛光机床上进行抛光液浓度、酸碱度、抛光液温度、流量、机床转速和抛光压力等工艺因素与抛光速率之间的关系的实验。 相似文献
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本文从精磨模具的制造工艺、抛光模具的制造工艺、聚胺脂平盘的预制、胶盘方法和高速抛光胶的制做方法上主要叙述了定时、定光圈的高速精磨、高速抛光模具的制做方法。通过实践,达到了批量生产的定时、定光圈的要求。 相似文献
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本文阐述了准球心弧线摆动高速抛光中与聚氨基甲酸乙酯抛光模相匹配的高纯氧化铈抛光粉经烧制处理后的抛光效率,添加剂的作用以及回收处理。 相似文献
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根据抛光机压力、摆幅和摆角对光学透镜磨抛加工质量的影响程度不同,应用模糊逻辑系统表格查询学习算法,构建了一种二维自适应模糊控制器,为抛光工艺的深入探讨奠定了基础。 相似文献
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本文总结了近几年来中国纺织大学在应用高速摄机技术方面所取得的一些成果,并着重介绍了高速摄影技术在新型纺纱成纱机理探讨方面的应用;织机制梭过程的分析;高速纺丝导丝机构的运动分析;睛纶厂废气处理方面的探讨以及介绍了高速摄影技术在引进先进技术,分析、消化方面所发挥的作用。 相似文献
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有机-无机混合铅卤钙钛矿由于其具有可溶液加工、强吸收、高迁移率等优点,近年来被广泛关注。引入异丙醇作为钙钛矿前驱液的添加剂用一步法旋涂制备出具有大晶粒尺寸的钙钛矿薄膜。用此方法制作钙钛矿太阳能电池并探究最优的异丙醇掺杂浓度。基于异丙醇体积分数为6%的钙钛矿电池性能最高,能量转换效率达到14.6%,比不使用添加剂的对比器件提高了40%。 相似文献
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为了给出射流抛光系统的优化设计参数,从理论上分析了冲击射流流场的结构特点,建立了工件壁面上的速度、压强与冲击角度、射流出口速度以及冲击距离的数学关系。就不同参数对射流流场分布的影响进行了定量计算,结果表明,工件壁面上的压强和速度与出口压强和速度成线性正比关系。当冲击距离大于9.6d(d为射流喷口的直径)时,工件壁面压强和速度随冲击距离的增大而减小,冲击距离增加到15d时,壁面压强最大值减小到0.54p0(p0为射流出口处的压强)。工件壁面压强和速度随冲击角度的减小而减小,当入射角为90°、60°和45°时,分别得到壁面压强最大值ps=0.95 p0,0.74p0,0.475p0,上游速度最大值um02=0.96u0,0.8u0,0.67u0(u0为射流出口处的速度)。 相似文献
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应用高速摄影观测运载基因子弹的运动速度,采用彩色摄影解决了黑白底片在放电时产生烟雾而使图像分辨不清的问题。通过多次实验改进了射腔结构和子弹的形状,从而获得了最佳运动速度。这种方法简单易行,解决了电测法由于高压放电产生的干扰问题以及多种模拟装置的高压放电与控制系统的同步问题。 相似文献
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高速摄影是研究高速运动现象的重要工具,尤其对兵器研究中众多高速迅变现象的观测,它可以给出满意的信息。本文介绍利用调Q红宝石脉冲光源的D ZC-Ⅱ型新型弹道测试系统,介绍该系统的结构性能、主要部件、摄影方法等,以及由该系统对五六式,7.62mm弹道枪弹在外弹道,终点弹道不同瞬态进行高速摄影所获得的重要图片。 相似文献
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微处理机正在引起一场电子技术的生命。高速相机电控制系统的主要发展方向之一就是应用微处理机、使相机智能化。本文对微处理机在高速相机中应用的范围、基本结构提出了一些粗浅的看法;对高速相机采用微处理机的优点及问题进行了粗线条的分祈。 相似文献
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<正> 金刚石工具已被广泛地用于光学零件的粗磨、精磨和滚圆等加工工艺中。近十几年来,对使用金刚石工具抛光光学零件的研究也取得了一些进展,这不仅仅会使抛光工艺发生重要变革,而且对至今还尚未完全了解的抛光机理的研究也是一个推动。一、抛光工艺的变革玻璃光学零件的生产工艺虽然在粗磨成形 相似文献
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大气等离子体抛光是一种非接触式的超精密加工方法,它基于低温等离子体化学反应实现原子级的材料去处,避免了表层和亚表层损伤,特别适合于各种难加工材料的超光滑抛光。该方法首次引入了基于电容耦合原理的射频炬式等离子体源,为测试等离子体特性和进行工艺研究,在加工过程中使用微型光纤光谱仪进行光谱监测和采集,进而运用原子发射光谱分析技术初步讨论了射频功率和气体配比对加工过程的影响,分析结果显示:在一定范围内,射频功率对加工速率有着较明显的促进作用,而气体配比对等离子体区成分和表面生成元素的种类影响较大。电子跃迁轨道分析还揭示了处于不同激发态的活性氟原子对应的不同微观状态,为进一步的微观机理研究奠定了理论基础。基于工艺分析的结果,在单晶硅片上实现了Ra0.6 nm的表面粗糙度和32 mm3·min-1的加工速率。 相似文献
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影响玻璃抛光的因素是极为复杂的。为避免玻璃抛光中存在的盲目性,提高生产效率,必须抓住影响玻璃的主要因素,以及对抛光剂的正确选择,本文就此讨论,并在生产实践的基础上,提出常用玻璃在冷加工抛光中的分类及适用于各种光学零件加工的抛光剂系列。 相似文献