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FRAM是一种新型非易失性存储器。这种存储器可以克服目前现有非易失性存储器的缺陷和限制。介绍其基本工作原理、结构及其特点,并把它与其他非易失性存储器的性能特点作了比较。 相似文献
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富士通公司和精工爱普生公司近日宣布,双方已签署协议将联合开发下一代铁电随机存储器(Ferroelectric Random Access Memory,FRAM)非易失性存储器技术。 相似文献
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《半导体技术》2007,32(5):432-432
世界项尖的非易失性铁电存储器(FRAM)和集成半导体产品开发商及供应商Ramtron Intemadonal Corporation宣布推出半导体业界首个4Mb FRAM存储器,这是目前最高容量的FRAM产品,其容量是原有最大FRAM存储器容量的4倍。FM22L16是采用44脚薄型小尺寸塑封(TSOP)的3V、4Mb并行非易失性FRAM,具有高存取速度、几乎无限的读/写次数和低功耗等特点。FM22L16与异步静态RAM(SRAM)在管脚上兼容,适用于工业控制系统如机器人、网络和数据存储应用、多功能打印机、自动导航系统,以及许多以SRAM为基础的系统设计。FM22L16以德州仪器先进的130nmCMOS制造工艺为基础,在标准CMOS逻辑工艺内嵌入非易失性FRAM模块时仅增加了两个掩模步骤。[第一段] 相似文献
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引言 本世纪末,存储器市场的预测表明,存储器将占集成电路总市场份额的二分之一。 当然,这个市场的主要部分是由DRAM所占有,但与此同时,非易失性存储器(NVM)显得越来越重要,它们将占总市场的11%。在非易失性存储器市场中,闪速存储器预计占60%以上的份额。事实上,闪速存储器对整个非易失性存储器市场来讲将成为非常重要的分支。 相似文献
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通过研究铁电存储器、磁性随机存储器、相变存储器和阻变存储器4种新型非易失性存储器的抗辐射能力,总结了每种非易失性存储器的总剂量效应和单粒子效应。针对总剂量效应和单粒子效应进行了对比与分析,得到了目前的新型非易失性存储器的抗辐射能力仍然取决于存储单元以外的互补金属氧化物半导体(CMOS)外围电路的抗辐射能力。该结论为抗辐射非易失性存储器的研究提供了参考。 相似文献
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详细说明了ONO结构在ETOX和SONOS两种存储管中的应用,分析了EEPROM和Flash中存储阵列的结构和工作原理,介绍了ONO结构应用的新进展。文中也提及了作者在ONO结构应用方面所作过的一些工作。 相似文献
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面向纳电子时代的非易失性存储器 总被引:1,自引:0,他引:1
Roberto Bez 《电子设计技术》2010,17(3)
目前,业界对两大类全新的非易失性存储器进行了可行性调研,其中一类是基于无机材料的存储器技术,如铁电存储器(FeRAM)、磁阻存储器(MRAM)或相变存储器(PCM),另一类存储器技术则基于有机材料,铁电或导电开关聚 相似文献
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引言 本世纪末,存储器市场的预计表明,存储器将占集成电路总数的二分之一。 当然,这个市场的主要部分是被DRAM所占有,但与此同时,非易失性存储器(NVM)显得越来越重要,这样,它们将占总市场的11%。在非易失性存储器市场中,闪速存储器预计占60%以上的份额。事实上,闪速存储器对整个非易失性存储器市场来讲将 相似文献
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在非易失性存储器领域,非易失性静态随机存储器(NVSRAM)可以克服现有非易失性存储器的缺点与限制,并完全替代静态随机存储器(SRAM)。首先,对几种新型非易失性存储器进行了简单阐述;其次介绍了NVSRAM的基本工作原理和特点,针对NVSRAM在解决传统SRAM掉电数据储存问题、加快读取速度以及减少功耗等方面的优势进行阐述。对近年来基于阻变存储器的NVSRAM的研究背景和国内外研究现状进行了调研,着重比较和分析了已有结构的优缺点,重点探讨了提高恢复率、减少漏电流和降低功耗的关键优化技术。最后,展望了NVSRAM未来的应用和研究发展方向。 相似文献