光存贮技术

光存贮技术是70年代发展起来的光学信息存贮的新技术。目前,这种技术是光学、光电子学和计算机技术中十分活跃的领域。本文综合介绍了光盘存贮器的结构及分类;比较了光盘、磁盘、磁带、半导体存贮器的记录密度和存取时间;论证了光盘具有高密度记录、非接触记录与再生、抗损伤和灰尘的能力强、再生方式的多样性及随机存取等特征。本文还简要地介绍了光盘存贮系统,其中重点说明了激光器、存贮材料及光学头。最后展望了只读式光盘、追记式光盘及可逆式光盘的应用,预测了到2000年时,计算机领域中将是磁存贮与光存贮相并存的时期。     

光盘物镜的形式及检测

一、前言光盘存贮技术是七十年代初发展起来的高密度信息存贮技术,光盘记录和再生的基本技术之一是微细光学系统的研究,物镜是光学系统的核心。物镜将光束会聚成一个达到衍射极限的微小光斑照射在光盘表面上记录和读出信息。记录的信息凹坑直径和物镜的成象质量、数值孔径有密切关系,且还与波长、照明型式、存贮介质的阈值、熔化、蒸发特性有关。读出信息与物镜的光学特性、成象质量有关。因而设计、研制达到使用要求的光学系统,对其进行象质检验是很重要的。     

主动抛光盘面形测试技术的研究

主动抛光盘技术是新发展起来的一种能够根据需要将抛光盘面实时地主动变形成离轴非球面来磨制深非球度高精度天文镜面的磨制技术。简单介绍了抛光盘变形控制结构和面形检测机构，对深非球面度面形变形进行了精度分析，探讨了主动抛光盘的动态响应和校正，并对抛光盘的改造提出了一些建议。     

近场记录光盘的写入能量的研究

近场记录光盘是一种新的光盘记录技术,它有二个特点：（１）极高的记录密度;（２）很高的寻道速度。本文介绍了近场光盘技术的特性;提出了近场光盘记录技术中动态条件下读写中的写入能量地头盘间的能量传输问题进行了仿真计算。     

对主动抛光盘在加工、测量状态下盘面的变形及提升的数学分析*

用主动抛光盘磨制非球面是一个动态的过程,必须保证在计算机控制下,主轴的移动、旋转。和抛光盘的旋转、倾斜、变形及升降,以及主镜的旋转都步调一致。推导出在模式中诸要点的位置、速度、加速度和时间的关系,并根据所加工的口径φ910mm,焦比为F／2的抛物面主镜参量和所用主动抛光盘的参量分析：1)主动抛光盘基板的变形特性。即它的变形量、变形的速度和加速度。以及近似公式与精确公式之间的差异;2)主动抛光盘背面的三个提升点运动规律。即它的升降量、升降的速度和加速度;3)主动抛光盘的变形量和它在差分变压器式线性微位移传感器(LVDT)测试架上所测得的测量量之间的关系;4)分析主动抛光盘的变形与提升的速度与加速度和抛光盘沿横梁的运动速度V1以及抛光盘自身的转速V2之间的关系和特性。此分析是主动抛光盘的数学基础,它为主动抛光盘的机械和电控设计提供了技术依据,为实现计算机控制下的6轴联动提供了保证。     

大型非球面反射镜的柔性光学制造技术

提出了柔性光学制造技术 (FOMT)的概念。介绍了计算机控制小工具抛光 (CCOS)和计算机控制应力盘(CCSL)抛光的技术特点 ;讨论了CCOS在抛光过程中的工艺技术优化方案 ;给出了应力盘变形的数学物理模型及在周边 12个驱动器的作用下应力盘全口径和 80 %口径范围内的变形仿真结果 ;研究了在全口径 φ5 0 0mm盘上的工程实现途径及应力盘与机床CNC的通讯关系以及抛光工艺研究 ;分析了CCOS、应力盘抛光和经典法抛光技术的综合运用 ;探讨了柔性光学制造技术发展的必然趋势。     

光盘存贮系统的物镜

引言用光学方法在涂有记录介质薄膜的圆盘上记录和读出信息是一项十分吸引人的课题。本文将重点分析和讨论有关光盘存贮技术中对光学系统物镜的要求及其象差校正。对于高密度记录和读出信息的光学头,要求物镜聚焦到光盘上的光斑大小在零点几微米的量级,镜头的成象质量要求达到衍射极限。对这种要同时考虑几何象差和衍射效应的物镜,采用波差进行设计是很合理的,一般用斯特列尔(strehl)     

磁光数据存贮技术进展

介绍了光学数据存贮的基本原理，磁光存贮是目前备受重视的可擦重写光存贮技术，它在计算机外存贮设备中有着广泛的应用前景，详细介绍了磁光存贮技术的进展及未来的发展趋势。     

光盘多信道存贮分光技术

本文对光盘存贮技术中应用的多频声光和衍射光栅分光技术进行了分析、研究.并以二元计算全息理论为基础,用脉位调制技术通过计算机模拟,获得了产生均匀多光束衍射的位相光栅的精确周期结构参数.据此,研制了总衍射效率为73%,最大残余偏差为17.5%能满足实用要求的九光点均匀衍射位相光栅.     

主动抛光盘磨制非球面镜面控制技术的研究

介绍了抛光盘机械结构和基本运动方式,探讨了主动抛光盘的控制系统和面形检测,重点对变形技术进行了数学分析,并给出了实验结果。根据实验结果分析了面形误差产生的原因,讨论了主动抛光盘的动态响应和校正,给出了直径910mm,焦比为F/2的实验镜面磨制结果。     

特殊复合整形棱镜的设计

本文根据半导体激光器的发光特性和棱镜的光学折射性质,设计了一组用于半导体激光系统的特殊复合整形棱镜。当波长漂移为±30nm时,其出射角的改变量仅为一般复合整形棱镜变化量的1/58。该复合棱镜可用于可擦光盘存贮、激光打印及光学信息处理等。     

无损伤超光滑LBO晶体表面抛光方法研究

传统的抛光LBO晶体的方法是选用金刚石抛光粉在沥青抛光盘上抛光。沥青盘易于变形不容易修整,金刚石粉特别硬容易损伤抛光晶体表面。抛光过程中,抛光盘和抛光粉的选择是非常重要的,直接影响到抛光效率和最终的表面质量。新的抛光LBO晶体的方法,其抛光过程是一个化学机械过程,抛光盘、抛光粉和抛光材料相互作用。选用两种抛光盘(培纶和聚氨酯盘),三种较软的抛光磨料(CeO2,Al2O3和SiO2胶体),并在LBO晶体的(001)面进行抛光实验。用原子力显微镜测量和分析了表面粗糙度。结果表明,使用聚氨酯盘和SiO2胶体能够获得无损伤超光滑的LBO晶体表面,其表面粗糙度的RMS为0.3nm。     

光盘图象数据信息存贮器

本文阐述了光盘图象信息存档系统的原理及技术,对档案大容量数据存档系统作了简述,对多光束并行记录光盘系统关键组件技术进行了研讨。引言以信息产业为中心的第四次工业革命即将到来,它包括电脑工业、空间工业、生物工程、海洋工程、光导纤维、激光等新兴产业。     

国际光电子科学及工程学术会议(’89ICOESE)将在北京召开

由中国光学学会主办,中国科学技术协会、中国测量及控制联合会和国际光学委员会支持的“国际光电子科学及工程学术会议”,将于1989年7月5～8日在我国北京市召开.会议主要议题为:新型光电、电光、声光、磁光元器件及其集成化,光电检测、传感、测量及控制,红外光学,微光技术,光纤通讯,光盘,光信息显示、存贮及处理,激光技术,光学双稳态和光学计算等.在我国召开这样一次综合性的国际光电会议旨在吸取国际上先进的光电技术,促进光电子科学领域中的国际间学术交流.     

秆Чこ探

逃恐氐闶笛槭?长春 130021旋转盘干涉测量法;;近红外荧光成像技术;;硅光电倍增管介绍了三种在发展新型仪器,特别是生物医学仪器方面可能有较好潜在应用价值的新技术:旋转盘干涉测量法,也称生物光盘;软纳米近红外荧光成像技术(纳米级荧光聚合物泡);硅光电倍增管。讨论了他们的技术特点和潜在应用价值。Several Novel Technolog     

从唱片、磁带、磁盘和光盘看信息存贮技术的发展

 信息存贮技术是将人类活动过程中的音像信息进行加工处理,使得这些音像信息得以永远“活”下来,得到储存。下面就从唱片、磁带、磁盘和光盘,这些生活中常见的不同信息存贮方式来了解信息存贮技术的发展。1.唱片是用机械刻纹录音的方式以音槽形式记录有声音信息的载体。机械刻录是利用声音的变化驱动刻纹刀在蜡盘或胶片上以尖刀刻纹的方法记录声音的过程。唱片上的信息通过电唱拾取出来,还原出声音。唱片按其音槽的距离分为普通唱片(音槽较疏,每厘米33-42槽,每分钟78转)和密纹唱片(音槽较密,每厘米92-105槽,每分钟45转、167转)两种。     

数控抛光技术中抛光盘的去除函数

抛光盘去除函数的确定是数控抛光技术的应用基础,以Ｐｒｅｓｔｏｎ 方程为基础,应用运动学原理推导了抛光盘在行星运动及平转动两种运动方式下的材料去除函数,并通过计算机模拟出相应的工作特性曲线。结果表明,两种运动方式下工作特性曲线均在不同程度上趋近于高斯曲线。因而行星运动及平转动都可作为抛光盘的运动方式应用在ＣＣＯＰ技术中,使加工中的面形误差得到收敛。     

光盘存贮和信息输出用半导体激光器

本文主要阐述了光盘存贮和激光打印机用的半导体激光器的要求、性能,并综述了目前高功率半导体激光器的研究现状及动向。对0.8μm带和0.6μm可见光半导体激光器的构造原理和如何实现短波长化进行了探讨。     

双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究

为了了解在抛光过程中抛光盘位置对光学元件面形的影响,对一种双轴式平面研磨抛光运动过程进行了分析。从Preston方程出发,推导了去除函数的表达式,研究了抛光盘的摆幅及偏心距离对元件的去除量分布的影响。通过定量计算得知,在加工转速不变的情况下,增大抛光盘的摆幅,元件不同圆周上的去除量也不同。增大偏心距,元件的去除量增大,不论抛光盘相对元件的位置如何改变,回转中心的去除量总是最大。     

磁光盘静态测试仪

本文描述了一台由金相显微镜改装的,可擦重写磁光盘材料的评价装置。它具有激光功率,脉宽以及外磁场变化范围大的特点。同时,能进行材料读写性能,灵敏度,均匀性和重复擦写次数的测量。全部测量过程都由计算机控制,操作方便。使用结果表明,它是评价光盘材料和制盘工艺的有用设备。