首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到17条相似文献,搜索用时 62 毫秒
1.
以混合中性-阳离子表面活性剂为模板合成MCM-48   总被引:3,自引:0,他引:3  
本文首次将中性和阳离子表面活性剂混和(S^0S^+)形成胶束后,共同作为模板剂合成了立方相中孔分子筛,经此途径得到的中孔分子筛材料既具有MCM-48的立方结构,又能体现出更好的热稳定性。混合不同性质的表面活性剂作为模板剂,将是一种制备不同性能的中孔分子筛的有效易行的途径。  相似文献   

2.
以混合表面活性剂为模板可控合成MCM-48和MCM-41分子筛   总被引:2,自引:0,他引:2  
利用阳离子和三嵌段共聚物混合表面活性剂为模板,在水热条件、碱性介质中可控合成出MCM-48和MCM-41分子筛。在固定P123(聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯三嵌段共聚物):TEOS(正硅酸乙酯)(物质的量的比)为0.01875的体系中,调节CTAB(十六烷基三甲基溴化铵)∶TEOS(正硅酸乙酯)物质的量比值m,当m在0.12~0.13范围合成出MCM-48分子筛;当m在0.04~0.08范围合成出MCM-41分子筛。通过XRD,TEM,N2物理吸附,IR等方法进行了表征。结果表明:聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯三嵌段共聚物(P123)的加入可以更大程度地降低合成介孔材料所需阳离子表面活性剂的用量;可控合成的介孔材料具有高比表面积、高度有序的孔道结构、较集中的孔径分布。  相似文献   

3.
利用阳离子和嵌段共聚物混合表面活性剂为模板,在水热条件、碱性介质中成功地合成出MCM-48介孔分子筛。在1TEOS(正硅酸乙酯)∶0.125CTAB(十六烷基三甲基溴化铵)∶nP123(聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯三嵌段共聚物)∶0.50NaOH(氢氧化钠)∶61H2O(物质的量的比)体系中,n值在较大范围内(0.000 625~0.018 75)可调。通过粉末X射线衍射(XRD)、N2物理吸附、扫描电镜(SEM)对合成样品进行表征。结果表明:聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯三嵌段共聚物(P123)的加入可以更大程度地降低合成MCM-48所需阳离子表面活性剂的用量;合成的MCM-48具有高比表面积、高度有序的孔道结构、较集中的孔径分布和较高的热和水热稳定性。  相似文献   

4.
用双表面活性剂为共模板合成中孔分子筛MCM-48   总被引:4,自引:0,他引:4  
利用水热法以非离子表面活性剂聚乙二醇辛基苯基醚和阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵为共模板合成了中孔分子筛MCM-48.实验中发现利用较强的范德华力和氢键,聚乙二醇辛基苯基醚可在很大程度上降低合成MCM-48所需阳离子表面活性剂的用量,且利于制备有序性好、骨架聚合度高、稳定性好的MCM-48.通过调节聚乙二醇辛基苯基醚与十六烷基三甲基溴化铵的比例,可得到不同物相结构的分子筛.  相似文献   

5.
合成高产率分子筛MCM-48   总被引:6,自引:0,他引:6  
以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)和Triton X-100(TX-100)混合表面活性剂为模板剂,正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,采用水热法合成了MCM-48分子筛.实验中发现,晶化3 d后用醋酸调节溶液pH值的方法可有效提高MCM-48分子筛的产率;同时采用混合表面活性剂使模板剂的利用效率达到了6.0 TEOS/1.0 Surf (摩尔比),并通过XRD、N2-吸附/脱附和TG-DSC等测试手段对产物的结构性能进行了表征.  相似文献   

6.
纯硅MCM-48的合成研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
翟尚儒  蒲敏  张晔  吴东  孙予罕 《无机化学学报》2002,18(11):1081-1085
以正硅酸乙酯为硅源,非离子型表面活性剂聚乙二醇辛基苯基醚和阳离子型表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵为共模板水热法合成了纯硅MCM-48分子筛。利用范德华力和氢键,聚乙二醇辛基苯基醚不仅可降低合成MCM-48所需阳离子表面活性剂的用量,而且有利于制备有序性好和稳定性高的MCM-48;并与单一阳离子表面活性剂制备的MCM-48的稳定性进行比较。  相似文献   

7.
阳离子与非离子混合表面活性剂模板合成介孔SiO2   总被引:9,自引:0,他引:9  
利用各种两亲分子有序组合体构成超分子模板,合成从介观到宏观尺度不同形态的无机材料成为材料科学新崛起的研究方向[1].介孔SiO2在催化、吸附、分离介质及化学传感器等方面有广阔的应用前景.  相似文献   

8.
介孔分子筛MCM-48的室温合成与表面修饰   总被引:9,自引:0,他引:9  
在室温条件下的碱性介质中合成了介孔分子筛MCM-48,并对其进行了有机官能团表面修饰。利用HRTEM、低温N2吸附、XRD、TG、IR和NMR等手段对产物进行了结构和性能分析。实验结果表明,合成产物MCM-48具有规则的孔道结构、大比表面积、大孔容和窄分布的孔径。由硅烷试剂表面修饰后的MCM-48,由于有机官能团接枝在MCM-48的内表面,占据了孔道内部空间,使其比表面积、孔容和孔径都减小。  相似文献   

9.
孔令东  刘苏  贺鹤勇  李全芝 《化学通报》2003,66(10):678-680
利用混合阳离子-非离子表面活性剂为模板剂采用两步晶化法合成了孔壁具有沸石次级结构单元的介孔分子筛,通过XRD、N2吸附-脱附、FT-IR以及异丙苯裂解探针反应等手段对样品进行了表征。结果表明,合成的介孔材料在结构上与相应的M41S材料类似,无微孔沸石相的存在。立方介孔材料具有较高的热稳定性和水热稳定性,在催化异丙苯裂解反应中,六方介孔材料的催化活性明显高于相似条件下用单一表面活性剂为模板剂合成的含沸石次级结构单元的六方介孔材料。  相似文献   

10.
MCM-48介孔分子筛的高压合成   总被引:10,自引:0,他引:10  
采用正硅酸乙酯(TEOS)作硅源,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为模板剂,在高压 (约7 MPa)和373 K下合成了MCM-48介孔分子筛.用XRD、氮气吸附及29Si MAS NMR对样品 进行了表征.与常压合成的相比,高压下合成的MCM-48具有更高的热稳定性和水热稳定性.2 9Si MAS NMR结果表明,高压有利于分子筛孔壁的聚合,导致分子筛结构更加完善,从而使 其具有更高的稳定性.  相似文献   

11.
在含氟体系中以正硅酸乙酯和十六烷基溴化铵作为硅源和模板剂,合成高质量的MCM-48。主要考察了各种影响合成MCM-48的因素,得到的产物分别用XRD,TEM和N2吸附-脱附技术进行表征。结果表明,合成高质量MCM-48的条件是温度为393 K,时间为24 h,CTAB/Si比为0.65;得到的MCM-48具有较大的比表面积(130 5 m2/g),孔径分布比较集中(2.416 nm)。  相似文献   

12.
介孔材料B-Al-MCM-48合成的新方法   总被引:1,自引:2,他引:1  
首次在两种阳离子表面活性剂存在的弱碱反应体系中加入三乙醇胺进行分子调变从而合成了具有较高稳定性和酸性的介孔材料B-Al-MCM-48,并用XRD、IR、TEM、NMR等油试手段对其进行了表征,同时阐述了其合成化学特点。结果表明,实验产品有序度高,介孔排布均匀,孔径大约介于2.0nm-3.0nm,比表面积为1200m^2/g,孔容为1.18mL/g;孔墙中引入的硼以四配位形式存在,改善了沸石酸性和稳定性。进而以轻汽油的催化加氢为探针反应考察了载Ni后介孔材料B-Al-MCM-48的催化活性,与现行X型沸石催化剂载体相比,脱氮、脱硫和芳烃转化大幅度提高。  相似文献   

13.
In the aqueous mixtures of sodium alkylcarboxylate and alkyltrimethylammonium bromide, large unilamelar vesicles can be formed spontaneously or by sonication as the total carbon number in the HC chains is 19 (or larger). Vesicle formation can be influenced by changes of pH, molar ratio of the two surfactant components, and the polar head group of cationic surfactant. Micelles may coexist with the vesicles in these mixed systems. The larger hydrodynamic radius (200 nm) and aggregation number (800) illustrate that the shape of the micelle in 1:1 C9H19COONa–C10H21N(CH3)3Br is rod-like. In some mixed systems, the micelles can be transformed into stable vesicles by sonication — a phenomenon revealed for the first time. The surface-chemical properties of these catanionic surfactant solutions and the stabilities of vesicle have been studied systematically.  相似文献   

14.
In the present study, we have investigated the self-association, mixed micellization, and thermodynamic studies of a cationic gemini (dimeric) surfactant, hexanediyl-1,6-bis(dimethylcetylammonium bromide (16-6-16)) and a cationic conventional (monomeric) surfactant, cetyltrimethylammonium bromide (CTAB). The critical micelle concentration (CMC) of pure (16-6-16 and CTAB) and mixed (16-6-16+CTAB) surfactants was measured by electrical conductivity, dye solubilization, and surface tension measurements. The surface properties (viz., C20 (the surfactant concentration required to reduce the surface tension by 20 mN/m), ΠCMC (the surface pressure at the CMC), Γmax (maximum surface excess concentration at the air/water interface), Amin (the minimum area per surfactant molecule at the air/water interface), etc.) of micellar (16-6-16 or CTAB) and mixed micellar (16-6-16+CTAB) surfactant systems were evaluated. The thermodynamic parameters of the micellar (16-6-16 and CTAB) and mixed micellar (16-6-16+CTAB) surfactant systems were also evaluated.  相似文献   

15.
以白炭黑为硅源、硼酸为硼源、NaOH为碱源、四丙基溴化铵(TPABr)和1,6-己二胺(HMDA)混合模板剂,采用水热合成法制备含硼杂原子Na-B-ZSM-5分子筛,用XRD、SEM、FT-IR、UV-vis、11B MAS NMR、NH3-TPD等方法对其进行表征。在连续流动常压固定床反应器上评价Na-B-ZSM-5分子筛对甲醇脱氢制甲醛反应的催化性能,考察n(Si)/n(B)、n(Na2O)/n(SiO2)、晶化温度和晶化时间等制备参数以及反应温度和质量空速等工艺参数对催化性能的影响。结果表明,硼进入了分子筛的骨架结构中,存在与B酸中心有关的骨架四配位硼和与L酸中心有关的骨架三配位硼,Na-B-ZSM-5分子筛含有较多的弱酸位和少量的中强酸位。催化剂的最佳制备参数为n(Si)/n(B)比值为7.5、n(Na2O)/n(SiO2)比值为0.14、晶化温度170℃、晶化时间48 h。Na-B-ZSM-5(7.5)分子筛在反应温度550℃、质量空速1.85 h-1的反应条件下对甲醇的转化率为62.97%,甲醛的选择性为68.86%。  相似文献   

16.
By constructing an elaborate set of potentiometric titration together with data analysis system, apparent acid dissociation indices (pK a app ) for two bile acids were determined in the mixed surfactant system of bile salts (Sodium Deoxycholate, NaDC, and Sodium Chenodeoxycholate, NaCDC) with nonionic surfactants (Hexaethyleneglycol monon-dodecylether, C12E6, Decanoyl-N-methylglucamide, MEGA-10) in aqueous solution at ionic strength 1.5 as a function of mole fraction in the surfactant mixture. It was found that with increasing the bile salt concentration, pK a app as well as pH showed an abrupt rise at a certain concentration of the bile salt being regardable as a critical micellization concentration (CMC) and reached a constant value at the range sufficiently higher than CMC for each pure bile salt system, meaning that the dissociation degree of carboxyl group in micelle is smaller than that in bulk. In the mixed systems of free bile salts with nonionic surfactants, the dissociation state of carboxyl groups in mixed micelles depends on the species of hydrophilic group of nonionic surfactants as well as on mole fraction in the surfactant mixture.  相似文献   

17.
The effect of silicate anions, from dilute aqueous tetramethylammonium silicate (TMASi) solutions (0-3.0 mmol L(-1) in silicon), on the formation of hexadecyltrimethylammonium bromide (CTAB) micelles was investigated by means of a series of simple conductivity experiments. These two compounds are used in the preparation of mesoporous silicate molecular sieves. An increase in the monovalent silicate anion concentration decreases the critical micelle concentration (cmc) of CTAB, as might be expected from the decreased repulsive forces between the polar heads of the surfactant molecules. However, the decrease in cmc values is less pronounced than that observed in the presence of bromide ions, suggesting that Br- binds more strongly than Si(OH)3O- at the micelle surface. Through the ion-exchange formalism, a selectivity coefficient for Si(OH)3O-/Br- exchange of 0.30+/-0.03 was estimated from the conductivity data. This value compares well with that of 0.4+/-0.1 also determined in this work by the pyrene fluorescence quenching method. The experimental results were used to rationalize the formation of a surfactant supramolecular-templated mesoporous molecular sieve at extremely low surfactant (0.63 mmol L(-1)) and silicate (4.00 mmol L(-1)) concentrations.  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号