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霍尔效应是研究半导体性质的重要手段,但霍尔电压的测量受到多种副效应的影响。通过分析误差来源加实验论证来探索对称测量法的优势,并且发现除四种常见热磁效应以外,仍存在附加电压。经过一些研究,提供了一些减小误差的方案。考虑到大学物理实验中没有设计霍尔效应的生活应用,本文简单介绍了霍尔开关原理及应用,希望通过本文对教学改革有进一步的推进作用。 相似文献
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在经典霍尔效应中 ,霍尔电压VH 线性正比于垂直方向的外场B⊥ ,并且沿电流方向的纵向电压V∥ 也随B⊥ 的增加而连续上升 .1980年 ,冯·克里青 (KlausvonKlitzing)用半导体场效应晶体管进行霍尔测量 ,研究被限制在二维平面内的电子运动 .他发现 ,在极低温和强磁场的条件下 ,霍尔电压VH 不再随外场的增加而线性增加 ,而是 (在VH-B⊥ 图上 )表现为一连串VH =常数的阶跃平台 .与一个个平台相对应的霍尔电阻VH I(I是纵向电流 )恰好等于物理常数h e2 除以一个整数i(i=1,2 ,3,4 ,… ) .克里青的发现后来被称为… 相似文献
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用霍尔元件测微小位移 总被引:4,自引:0,他引:4
利用霍尔元件的磁电阻效应与磁感应强度的平方成正比这一关系,通过改变磁铁与霍尔元件的距离引起霍尔元件的电阻改变,再把这一电阻信号转换为电压信号,测量电压信号从而得到与之对应的位移量。 相似文献
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1980年6月在西德召开的国际精密电磁测量会议上,西德的克里岑(K、Von. Kli-tzing)教授提出一种新的量子效应[1][2]:金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)的霍尔电阻(即霍尔电压与供给器件的源-漏极电流之比)在低温和高磁场中具有量子化效应。当改变场效应管的栅极电压时,霍尔电压在随之改变的过程中,出现一系列的阶梯(如图1所示)。和低温直流约瑟夫森效应中电流阶梯类似。在阶梯处,霍尔电压的数值是自然常数h/(e2)的分数。式中h是普朗克常数,e是电子电荷。由于精细结构常数而霍尔电阻 ( i为整数)式中c是真空中的光速。 所以根据霍尔… 相似文献
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一般用霍尔元件来做霍尔效应,其电路包括供给励磁电流、供给霍尔元件工作和测量霍尔元件电压三部分。由于磁场中霍尔电压V_H较小,要用电位差计来测量,因而设备昂贵,电路复杂,操作麻烦。用霍尔集成电路来做,大为简便,非常直观。 相似文献
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为确定双阳极霍尔推力器中阳极电压分布对推力器效率及推力的影响,采用PIC三维数值模拟对双阳极结构霍尔推力器的放电过程进行了模拟。基于垂直分布的双阳极结构,得到了放电后离子羽流分布以及电子在放电区域的分布。通过对放电状态的模拟,计算得到了不同工况下的推力以及效率。在双阳极结构中第二阳极的电压增加会增大离子能量,但将影响电子约束,而过高的电压将引起电子密度减小。推力随着霍尔电流的增大而增大,但效率会随之减小,导致在提升推力的同时损失效率。 相似文献
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霍尔效应实验是一个受系统误差影响较大的实验,特别是在霍尔效应产生的同时,伴随产生的其他效应引起的附加电场对实验影响较大.本文简单介绍该实验的原理和实验误差的来源,使用Origin 6.0软件处理实验数据,分析附加电场对霍尔电压和电流线性关系的影响,以及对霍尔系数测量值的影响.结果表明:附加电场的存在不会影响所测霍尔电压和电流U-Is的线性关系,但对霍尔系数的测量有较大影响. 相似文献
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基于霍尔效应原理,对设计的十字轴的参考水平面X轴和相应垂直面Y轴分别加载梯度较大的非匀强磁场,进而对设置在十字轴两端X轴和Y轴霍尔元件的霍尔电压与其相应的空间位置进行定标拟合。分别得到霍尔电压与X轴和Y轴的空间角度的关系公式,通过编程由单片机实现霍尔电压定位空间三维角度位置。本装置在温度-55℃~150℃,X轴和Y轴轴向角为80°~139°范围内精度可靠,在工业上有一定的应用前景。 相似文献