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相似文献
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1.
梁涛  张康  何逸涛  乔明  张波 《微电子学》2016,46(6):822-825
恒流二极管具有很高的动态阻抗、很好的恒流性能以及负温度特性,被广泛应用于恒流源、稳压源、放大器以及电子仪器的保护电路中。设计了一种200 V垂直耗尽型恒流二极管,对其电学参数进行了仿真,优化了外延厚度与浓度、沟道浓度、JFET区长度、栅氧层厚度等参数,并对终端结构进行了设计。最终成功设计出一个夹断电压小于5 V,击穿电压约为250 V,电流约为1.5×10-5 A/μm,恒流特性良好的恒流二极管。  相似文献   

2.
硅基恒流二极管研究现状及展望   总被引:1,自引:0,他引:1  
主要综述了硅基恒流二极管(CRD)国内外的发展历史和研究现状,并以横向沟道CRD为例,详述了器件的工作原理和关键参数,并分析了影响器件性能的主要因素.同时重点研究了目前国内市场上CRD的主流制作方法,包括横向沟道结构和垂直沟道结构(注入形成p+区,沟槽填充多晶以及MOS结构等).对不同器件结构的优缺点进行了比较分析,认为垂直沟道CRD在器件集成度和恒定电流调整等方面具有一定的优势.简要介绍了CRD在LED驱动中的应用.展望了CRD的未来发展前景.  相似文献   

3.
<正> 恒流二极管是庞大的二极管家族中的一员。在理想状态时,加在恒流二极管上的电压不管为何值,流过它的电流始终为一恒定值I_(H);恒流二极管的等效交流电阻力∞。图1示出了恒流二极管的符号,A为阳极,K为阴极。图2示出了恒流二极管的典型伏安特性曲线。当电压在0~V_S段内上升时,电流线性上升;电压在V_S~V_B段升高时,曲线上升趋缓并变得平坦,此  相似文献   

4.
张晓东 《无线电》2011,(10):90-93
大家对稳压二极管很熟悉,有读者就会问,既然有稳压二极管,那么有没有稳流二极管呢?答案是肯定的,但通常不把这种器件叫稳流二极管,而是叫恒流二极管。恒流二极管(英文缩写为CRD)简称、匣流管”.是一种能在很宽的电压变化范围内提供恒定电流的半导体两端器件。  相似文献   

5.
提出了一种基于双极载流子导电、具有低开启电压VK和高反向击穿电压BVR的恒流器件,并进行了初步的试验验证。利用Tsuprem4和Medici仿真工具对器件的恒定电流IS、开启电压VK、正向击穿电压BVF和反向击穿电压BVR等电学参数进行了仿真,优化了外延层电阻率ρepi、外延层厚度Tepi、JFET注入剂量DJFET、P-well注入窗口间距WJFET等参数。试验结果显示,该器件工作于正向时,开启电压VK约为1.6 V,恒定电流IS约为31 mA,正向击穿电压BVF为55 V;该器件工作在反向时,反向击穿电压BVR约为200 V。  相似文献   

6.
设计了一种基于N-JFET结构的恒流二极管,分析了其沟道掺杂浓度与恒流值、开启电压、击穿电压以及温度特性之间的关系。利用SILVACO仿真软件对恒流二极管沟道掺杂分布进行优化设计,最终得到一个开启电压为2 V,击穿电压大于90 V,恒流值为40 mA,温度系数为-0.33%/K的恒流二极管。  相似文献   

7.
<正> 测试方法及原理 恒流二极管CRD属于两端结型场效应恒流器件。主要参数有恒定电流I_H、起始电压Vs、正向击穿电压V_(BO)等。 笔者在实践中发现:可以利 用数字万用表的h_(FE)挡检测恒流 二极管的恒定电流I_H,方法是通 过DT1000型(或DT830型)数字 万用表h_(FE)的显示值换算出电流 值。这种测量方法简单实用、快捷  相似文献   

8.
恒流二极管(CRD)可以通过多个并联的方法来实现扩大输出电流,但在要求输出电流较大时(如350mA),则需要并联的CRD数量太多,这不仅造成占PCB的面积大,而且会增加生产成本.本文介绍一种CRD扩流电器,电路较简单,有较好的恒流精度,并且有调光功能.另外,本文还介绍一种可采用PWM信号来调节CRD驱动LED电路的通断...  相似文献   

9.
本刊上期介绍过S系列恒流二极管,该系列恒流输出的种类虽多,但最大的输出仅20rnA.本文介绍深圳欧恩光电技术研究所最近开发的大电流LED恒流二极管2DHLxxx系列,它的恒流输出电流范围为20~85mA,它不仅适用于0.06W小功率LED驱动用,而且更适用于近年新开发的0.2W、0.3W及0.5W贴片式LED的驱动应用...  相似文献   

10.
11.
对新型半导体器件——双注入结型场效应管的电流-电压特性进行了详细分析,并得出解析表达式,为该器件的设计和应用提供了理论依据。  相似文献   

12.
仇坤  倪炜江  牛喜平  梁卫华  陈彤  刘志弘 《微电子学》2016,46(3):412-414, 418
研制了一种功率型4H-SiC双极结型晶体管。通过采用深能级降低工艺和一氧化氮退火钝化工艺,提高了电流增益。详细研究了发射极-基极几何结构与电流增益的关系,发现随着发射极线宽或发射极-基极间距的逐渐增加,最大电流增益也逐渐提高并趋于饱和。器件在反向阻断电压1 200 V时漏电流为5.7 μA。在基极电流为160 mA时集电极电流达11 A,电流增益达到68。  相似文献   

13.
新型窄脉冲半导体激光器驱动电源的研制   总被引:6,自引:2,他引:6  
研制了一种新型窄脉冲半导体激光器的驱动电源,包括驱动电路和温控电路两部分。驱动电路采用高速金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)作开关,为激光器提供一个重复频率高(0~50 kHz)、前沿快(2.2~4.9 ns)、脉宽窄(4.6~12.1 ns)、脉冲峰值电流大(0~72.2 A)的脉冲信号,且输出的激光脉冲波形平滑。对不同的激光器,改变电路中电源电压、电阻、电容参数,可获得不同的重复频率、前沿、脉冲宽度、脉冲峰值电流。温控电路采用高精度的比例积分微分(PID)温控,保证了激光器输出功率和中心波长的稳定。此激光器驱动电源不仅可作为一般高速、窄脉冲半导体激光器的驱动电源,也是大能量、窄脉宽的半导体激光器种子光源的理想驱动电源。  相似文献   

14.
This paper describes a novel current driving circuit for an active matrix organic light emitting diode (AMOLED). The proposed current driving circuit has a lower power consumption and higher chip density for the AMOLED display compared with the conventional one because all elements operate at a normal voltage and are shielded from the high voltage of the panel. The chip size and power consumption of the current driving circuit for an AMOLED can be improved by about 30 to 40% and 10 to 20%, respectively, compared with the conventional one.  相似文献   

15.
基于JBS整流二极管理论,详细介绍了一种Si基JBS整流二极管设计方法、制备工艺及测试结果。在传统肖特基二极管(SBD)有源区,利用光刻和固态源扩散工艺形成掺硼的蜂窝状结构,与n型衬底形成pn结,反向偏置时抑制了因电压增加引起的金属-半导体势垒高度降低,减小了漏电流;采用离子注入形成两道场限环的终端结构,有效防止了边缘击穿,提高了反向击穿电压。对制备的器件使用Tektronix 370B可编程特性曲线图示仪进行了I-V特性测试,结果表明本文设计的Si基JBS整流二极管正向压降VF=0.78 V(正向电流IF=5 A时),反向击穿电压可达340 V。  相似文献   

16.
回顾了十年来国内外在GaAsFET大信号模型方面的研究进展,提出了可用于MESFET和HEMT的统一的精确沟道电流模型。  相似文献   

17.
彭沛  陈勇 《微电子学》2015,45(3):404-407
提出了一种具有阶梯沟道和浮空金属板的新型4H-SiC MESFET结构。在双凹型4H-SiC MESFET的栅漏之间加入浮空金属板,并引入阶梯沟道,减少了靠近漏端的栅边缘的电场积聚,提高了击穿电压。对提出的结构进行二维数值模拟,结果表明,该结构的击穿电压达到232 V,相对于双凹型4H-SiC MESFET的击穿电压103 V,提高了125%,其饱和漏电流相对提高了4.1%,截止频率为15.1 GHz,最大振荡频率为69.2 GHz。该结构在击穿电压提高125%时,没有严重降低截止频率。  相似文献   

18.
本文针对VD-MOSFET击穿电压,采用场限环终端结构的耐压设计,并进行了综合分析。在解析式中,提出了η的近似表示式。通过与计算机二维分析结果的比较,证实了η表达式的合理性,其最大相对误差约为10%。最后,对500V的VD-MOSFET进行了设计计算,说明了这一设计方法在工程中的适应性。  相似文献   

19.
赵俏玏 《电子工程师》2006,32(9):13-14,42
设计了简易晶体管特性图示仪。设计模拟电路产生合适的阶梯电压加至被测小功率晶体管的基极,产生若干级大小不等的基极电流,在每级基极电流的作用下,取出对应的Uce、Ic、Ib等所需量加至示波器,用EWB分析波形,判断晶体管的性能。  相似文献   

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