光学薄膜厚度的均匀性

<正> 光学薄膜厚度的均匀性,是薄膜制备技术中最重要的问题之一。这是因为,光学薄膜的性质,在很大程度上取决于它的厚度。在工作范围内薄膜厚度没有足够的均匀性,就无法获得优质的光学薄膜。有关膜厚分布问题,     

光学薄膜椭圆偏振数据反演的优化算法

运用C++语言通过变步长循环的优化算法开发数据处理程序,利用2组数据确定了多周期真实厚度.通过计算SiO2和ZrO薄膜的折射率和单周期及多周期厚度,并与其他方法的计算结果进行对比分析,发现此方法计算结果可以达到较高的精度.对于有吸收的薄膜,利用量子力学原理计算粒子出现在某一点的概率,通过蒙特卡罗模拟的方式来测量粒子的位置,从而对粒子进行刷新.通过基于量子行为粒子群优化和模拟退火的混合算法设计的程序进行计算,可很快跳出局部极小收敛达到全局最优点,在保证精度的同时达到较快的收敛速度.     

晶体光输出非均匀性的测量和研究

利用²²Na放射源和符合测量方法实现了对钨酸铅晶体的光输出纵向非均匀性的精细测量.研究了改变晶体表面粗糙度对光输出非均匀性的影响.     

椭圆偏振测量技术及其应用

 椭圆偏振测量技术(简称椭偏技术)是利用偏振光束在界面或薄膜上反射或透射时出现偏振态的变化,研究界面或薄膜特性的一种光学方法。椭偏技术具有抗干扰性强、高灵敏度、对样品无特殊要求等优点,因而在材料科学、微电子技术、薄膜技术、物理学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。一、历史回顾追溯椭偏技术的发展,已有近百年的历史。在19世纪初,人们对光波做了大量的观察和研究,发现光波实际上存在着不同程度的偏振态。1669年,丹麦的巴塞林那斯(E.Bartholinus)发现光经过方解石晶体有双折射现象。1808年,法国的马吕斯(E.L.Malus)发现光具有偏振性。     

遗传算法在椭圆偏振测量中的应用

详细介绍了椭圆偏振法测量的基本原理和椭偏函数方程的建立 ,将遗传算法引入到椭偏法测试薄膜的折射率和厚度的计算中 ,改善了计算的收敛性并提高收敛速度。给出了计算程序流程图 ,重点分析了各遗传算子的设计。     

基于DSP的红外焦平面阵列非均匀性实时压缩校正研究

针对红外成像系统在图像处理中所涉及的数据量大,实时处理难于实现的特点,利用高速DSP硬件对红外焦平面阵列的非均匀性进行实时压缩校正.以两点校正为例,详细阐述了硬件压缩校正原理和实现步骤,并给出实验结果.实验表明:基于DSP的非均匀性实时压缩校正系统生成的图像比较清晰,校正过程简单,程序调试方便,能够有效地解决红外成像技术中实时性难题.     

高温超导带材长带Ic均匀性非接触连续测量系统

利用非接触法测量超导带材在去除背场后的剩余磁场是一种测量超导带材沿长度方向临界电流均匀性的行之有效的方法.超导带材的性质沿长度方向是变化的,去除背场后的剩余磁场可以被探测并且正比于超导带材的临界电流的大小.本文还提出一种利用非接触法测量超导带材临界电流均匀性的设备的设计方案,主要用于超导带材临界电流均匀性的快速和自动化测量.     

椭圆偏振法测量薄膜参量的数据处理

利用实时作图的方法,开发设计了椭偏仪数据处理应用程序,该程序不但具有传统查图法简便直观的特点,而且不限制实验条件的选择,能够满足科学研究和实验教学的要求,利用该程序和多入射角测量方法,能够确定薄膜的真实厚度。     

TDI CCD光子响应非均匀性噪音分析与测量

探测器光子响应非均匀性噪音会降低低照度情况下遥感成像系统的成像质量.针对这一现象,本文首先结合探测器的物理性质,对各种噪音源进行了研究;建立了TDI CCD不同级数下的光子响应非均匀性噪音模型,随着曝光量的增加,光子响应非均匀性噪音也线性增加.其次根据曝光级数越多TDI CCD对非均匀性噪音的平滑效应越明显这一现象,提出一种光子响应非均匀性系数与曝光级数之间的关系式,并给出了利用TDI CCD输出图像提取光子响应非均匀性噪音的方法.最后建立了试验系统,通过试验对测试获得的光子响应非均匀性噪音与理论分析计算得出的结果进行了分析.     

一种适用于红外搜索跟踪系统的实时非均匀性校正算法

针对目前红外搜索系统实用性较强的两点非均匀性校正存在难以实时跟踪图像非均匀的不足点,提出一种新的基于两点非均匀性校正和基于场景的实时联合校正算法。该算法利用两点校正提供基础校正系数,并充分利用红外搜索系统大数据量的特点,对实时数据量进行统计、分析,进而找出系统非均匀性随时间的漂移量,解决只采用两点校正算法带来的红外图像退化的问题。多次试验证明,采用联合非均匀校正算法的相对非均匀度由两点校正的5%降到了2%左右,并具有时间稳定性,获得了较好的校正效果。     

大面积超导膜均匀性测量装置

本报道由感应法测量大面积高温超导膜均匀性的装置，其特点是探头可以在液氮温区进行两维移动，从而对大面积膜的不同区域进行测量以达到均匀性测量的目的。测量包括超导转变温度Ｔｃ及临界面电流密度Ｋｃ的测量。     

光学玻璃光学均匀性高精度测量技术

高质量的透射光学系统对光学材料的光学均匀性要求非常高 ,材料局部折射率 10 -6 量级的变化就可能破坏整个系统的性能。详细介绍了三种用于测量光学玻璃光学均匀性的干涉法 ,研制了一台高精度光学玻璃材料光学均匀性测量仪。实验结果表明 :40mm左右厚的光学玻璃材料的光学均匀性检测精度可达 1× 10 -6 。     

离子注入硅的椭圆偏振光谱和光性

为了进一步发展测定离子注入损伤层的椭圆偏光法,我们测量了离子注入硅在4000—7000?波长范围内的椭圆偏振光谱,并由此得到它的色散关系。注入条件为150keV,10¹⁵cm^-2和10¹⁶cm^-2的砷离子注入。由于在硅样品表面处形成无定形层,我们用单层模型,从(ψ,Δ)-λ数据计算出(n,k)-λ关系,并可定出损伤层厚度。在～4800?处,出现折射率n的谱峰,峰值约4.9。本文还比较了离子注入损伤层、溅射无定形硅膜层、蒸发无定形硅膜层和单晶硅的实验结果。 关键词：     

成像法测量积分球的亮度均匀性

为测量某项目中经过投影物镜观察到的胶片位置处的亮度均匀性,设计采用了成像式亮度测量方法,该方法能够获得整个辐照面的相对亮度分布,较传统的采用光辐射计、光电池等采点取样测量方法便捷经济,采用成像式亮度测量方法测量得到的不均匀度为4.24%,与采用光辐射计测量得到的不均匀度3.92%基本一致,相对误差仅为8.16%,该方法可以推广应用于太阳模拟器均匀性检测及场馆均匀照明检测等方面。     

抛光垫磨损非均匀性研究

抛光垫是化学机械抛光的重要组成部分,其磨损的非均匀性对被加工工件面型精度和抛光垫修整有重要影响。基于直线摆动式抛光方式,研究了抛光过程中抛光垫与工件的相对运动,建立了抛光垫磨损模型,分析了抛光工艺参数对抛光垫磨损及均匀性的影响。研究结果表明,工件与抛光垫的转速比为1.11,正弦偏心直线摆动形式,摆动幅度系数为2,摆动频率系数在0.1~0.2之间,抛光垫表面磨损更均匀,并根据抛光垫表面磨损特性优化了抛光垫形状。优化的抛光垫具有更好的面型保持性,延长了修整间隔,为抛光工艺设计提供理论指导。     

基于半导体制冷器的非均匀性校正

非均匀性是红外系统中影响图像质量的重要因素。为了更好地拟合探测器的响应曲线,充分发挥探测器的最佳性能,以获得良好的图像效果,在两点校正的理论基础上提出了一种更为实用的两点校正方法。通过单片机(MCU)控制半导体制冷器(TEC)以产生两个不同的校正温度点,系统分别读取在这两个温度点下所采集的两幅图像,利用两点校正算法计算探测器的响应率和暗电流。通过实验验证,这种校正算法实用,易于实现。     

光学薄膜镀制的实时显示和自动控制系统

<正> 一、引言传统的真空镀膜,全靠人工操作控制。这样的操作控制,会影响光学薄膜的质量和重复性精度。因此薄膜工作者多年来一直在致力于探索能严格控制各项工艺因素的自动化生产装置或系统。理想的自动化控制系统,应具备显示、控制、运算、反馈修正等各种功能。因此使用微处理机作为全套系统中     

光学薄膜激光损伤的光热偏转法实时研究

本文首次把调制与脉冲光热偏转技术同时置于激光损伤测试装置之中,用以进行光学薄膜激光损伤的实时研究.初步实验结果表明,该方法不仅有助于确定损伤阀值,也有助于分析损伤形貌和损伤过程,包括样品损伤前的行为及样品在重复频率激光作用下损伤的累积效应.     

等离子体X射线激光介质均匀性测量

通过合理而有效地按排多种探测仪器，观察到等离子体Ｘ射线激光介质的空间非均匀现象。在保证入射激光经最佳组合透镜后焦线均匀性前提下，由实验显示等离子体介质的空间不均匀性主要来自靶材质量和调焦精度。此外，入射激光脉宽的大小变化将会引起等离子体整个辐射空间和时间范围的明显变化。