花瓣抛光模的设计与制作

作者研究了在非球面抛光中花瓣抛光模的设计方法和制作方法。     

高速抛光中工艺因素与抛光速率的关系

本文总结了采用球面零件作为试件,在高速抛光机床上进行抛光液浓度、酸碱度、抛光液温度、流量、机床转速和抛光压力等工艺因素与抛光速率之间的关系的实验。     

磁流变抛光工艺参数的正交实验分析

对利用自行配制的水基磁流变抛光液和磁流变抛光实验样机进行了以抛光去除效率和表面粗糙度为考核指标的工艺实验。应用正交试验方法分析了磁流变抛光中主要工艺参数(磁场强度、抛光粉浓度、抛光盘的转速、抛光盘与工件间的间隙)对抛光去除效率和表面粗糙度的影响规律,并结合磁流变抛光机理对其进行了分析。根据实验结果对工艺参数进行了优化。     

基于双磨头的磁流变抛光机床与工艺研究

针对传统单磨头磁流变抛光技术的不足,提出了一种新的双磨头磁流变抛光方法,并研制了一台八轴数控双磨头磁流变抛光机,具备了大口径平面、非球面及连续位相板的超精密、高效率加工能力。分别研究了大、小磨头材料去除特性及面形修正能力,不仅获得了稳定、有效的大、小抛光斑,而且获得了超精的大、小平面工艺样件。50 mm小平面经小磨头一次连续抛光,在 45 mm内其面形精度PV由0.21 收敛至0.08 、RMS由0.053 收敛至0.015 ;430 mm430 mm大平面经大磨头3次迭代抛光,在410 mm410 mm内其面形精度PV由0.4 收敛至0.1 、RMS由0.068 收敛至0.013 。由此表明,所研制的双磨头磁流变抛光机床具有较好的材料去除特性和较强的面形修形能力。     

气囊抛光工艺参数的正交实验分析

针对平面光学零件,以抛光去除率和表面粗糙度为考核指标,应用正交试验法分析了气囊抛光过程中的主要工艺参数,包括抛光工具气囊的压缩量、气囊转速、气囊内部充气压力、抛光液的浓度对抛光去除效率和表面粗糙度的影响规律。结合气囊抛光的抛光机理对其进行了分析,根据实验结果对工艺参数进行了优化,并进行了综合参数的气囊抛光加工实验,获得了超精密光滑的表面。     

“J—646”新型光学光敏胶胶合工艺简介

“J—646”光敏胶具有透光率好,收缩率小,粘接强度适中,耐老化,毒性小和成本低廉等特点。本文简要介绍了该胶的胶合工艺。     

主动抛光盘磨制非球面的工艺与面形检测

主动抛光盘技术特别适用于磨制焦比大的深度非球面,能够根据需要对抛光盘面实时地主动变形成偏轴非球面来磨制非球面镜面。它具有较高的磨削速率和较大范围内的自然平滑(无切带)。用计算机控制磨制,可以像加工球面一样来加工一个深度的非球面。介绍了用国内首次研制成功的主动抛光盘对加工直径910mm、焦比F/2的抛物面镜的工艺方法的初步探讨,并给出了抛物面镜的检验方案和检测结果。     

并五苯场效应发光管机理分析与场效应管制作

采用并五苯材料，通过物理气相沉积，生长出无依托的晶体薄膜，厚度在微米量级，长度是毫米量级。长度和厚度的比大约为1000。为了使晶片有个依托，以聚酰亚胺作为粘合剂，把并五苯晶体薄膜平铺粘在玻璃衬底上。在显微镜下观测，有机薄膜平整、无裂痕，符合制备器件的要求。然后，制备出有机场效应管。并对有机场效应管I-V特性和发光机理进行了分析探讨。     

可倒陀螺的机理研究与制作

研究了可倒陀螺实现可倒的机理，研制出一种可观察到具有不同“可倒角”的可倒陀螺。     

JXCX-1000系列“超声波金属表面综合处理”设备及工艺通过鉴定

北京金星超声波应用技术研究所最新研制成功的JXCX-1000系列“超声波金属表面综合处理”设备及工艺,于1993年2月26日在京通过了北京市科学技术委员会组织的鉴定。鉴定委员会由来自清华大学机械工程系和环境工程系、中国科学院声学所、中国船舶总公司雷声电子设备厂、钢铁研究总院金属腐蚀与防护研究室、北京市科委、机电部自动化所、北京市电子产品质量检测中心等14个单位的14位专家、教授和高级工程师组成。     

全息光栅与制作工艺的探索

本文对全息光栅与刻划光栅的各种特性进行了对比，并介绍了Ⅲ型和Ⅳ型全息凹面光栅的特点及制作工艺。     

“宝杯”的制作

“宝杯”的制作包桂花（内蒙古新巴尔虎右旗一中０２１３００）古时侯有一种酒杯（电视连续剧《红楼梦》里曾出现过）杯的中央站着一个瓷做的老寿星．用此杯装酒，苦酒不满杯，杯内可存住倒入的酒；若洒满了杯，杯内的酒就会从杯底中央的小孔全部流掉．这种酒杯是给贪酒的...     

“曲线运动”演示仪的制作

演示实验是指为配合教学内容而由教师操作示范的实验,关键是要凸显目的性、简明性、直观性、科学性及可操作性.     

LSI工艺和失效机理的电镜分析

一、剖面分析技术剖面分析对确切地了解器件纵向结构参数,配合工艺研究是十分重要的．ＬＳＩ（大规模集成电路）研制工艺是综合性很强的技术,它的工序多,工艺严格而复杂,要求可靠性高．例如,６４Ｋ位ＲＡＭ（随机存贮器）就需要三层多晶硅工艺．虽然研制者可以按预定要求来控制工艺条件,但是实际结果必须由测试分析来判断．由于受光学显微镜分辨率的限制,无法测量这么多层次的显微结构,通常只能用电学测试进行判定．利?...     

“滑动变阻器演示器”的制作与应用

本文介绍了一种演示器，可形象直观的演示滑动变阴器的工作情况。     

“电磁学”创意制作实验的实践与反思

介绍"电磁学"课堂中创意制作实验的课程理念与教学目标及其在实际教学过程中的具体活动及其特色,最后对创意制作实验中学生学习成果分析与反思,并给出教师心得与思考,以期为该教学模式的顺利实施提供有益的参考.     

“光控门”模拟演示系统设计与制作

光敏电阻在光的照射下阻值急剧下降，这一特性在实际生活中具有广泛的应用．为适应教学的需要，我们设计并制作了“光控门”演示教具，用拟车库的大门是如何在车灯光照射的控制下完成开启和关闭．通过红、绿灯的亮灭显示门的开关状态．一、出具特点1．能把光敏电阻特性显示清楚．即在一定电压下，当有光照射时光敏电阻值变小，电路电流增大；反之光敏电阻值增大，电流减小．2．由于采用三极管电流放大的作用，进一步提高了学生对三极管的应用知识．3．通过构造比较简单的干簧管继电器的讲解、观察，学生了解和掌握利用光敏电阻特性来控制电…     

光子“晶体管”研究之二——光子“三极管”特性的计算分析

本文提出了光子“三极管”的理论模型,并对这一模型进行较详细的计算分析,得到了光子“三极管”的特性曲线,并指出了其应用前景。